公开(公告)号：KR20210035192A

公开(公告)日：2021-03-31

申请号：KR1020217002727A

申请日：2019-07-25

申请人： 도레이 카부시키가이샤

发明人： 히로키 에이무라 ,  다쿠미 와카바야시 ,  고이치 다카다 ,  마사유키 하나카와

IPC分类号： B01D71/66 ,  B01D69/08 ,  C08J9/26

CPC分类号： B01D69/087 ,  B01D71/66 ,  C08J9/26 ,  B01D2325/20 ,  B01D2325/24

摘要： 본 발명은 폴리아릴렌술피드를 주성분으로 하여, 2가 이온 저지율이 5％ 이상인 분리막, 및 (1) 폴리아릴렌술피드와 가소제를 용융 혼련하여, 수지 조성물을 조제하는 수지 조성물 조제 공정과, (2) 상기 수지 조성물을 토출 구금으로부터 토출하여, 20 이상의 드래프트비로 수지 성형물을 성형하는 성형 공정과, (3) 상기 수지 성형물을 용매에 침지시켜서 분리막을 얻는 침지 공정을 구비하는, 분리막의 제조 방법을 제공한다.