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公开(公告)号：JP2021189454A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2021093499
申请日：2021-06-03
发明人： イーリス ピルチ , ファン ホセ ハスブン ウッド , クリストフ メッツマッハー , ミヒャエル ハッグ
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 【課題】EUV放射線源を改善すること。 【解決手段】EUV放射線源(1)のための外側インサート(8)の中の通路開口部(10)のための内側インサート(11)は、複数のパーツで具現化されており、および/または、長手方向(9)に延在し、異なる内部直径(d i 、d a )を有する複数のセクション(26、27)を有する。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021530084A
公开(公告)日：2021-11-04
申请号：JP2020573279
申请日：2019-06-25
发明人： リノウ ダニエル , バウアー マルクス , フェティグ ライナー , ラムル ダーヴィト , バッツ マーリオン , グリース カタリーナ , フォルマール セバスティアン , シュピース ペトラ , ホインキス オットマー
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/153 , H01J37/04 , H01J37/21
摘要： 本発明は、荷電粒子のビーム(120)を検査するための方法に関し、この方法は、以下のステップ、すなわち、ビームに対するサンプル(130)の複数の位置でビームとサンプルとの持続的相互作用(210−a〜210−f)を生成するステップと、複数の位置での持続的相互作用の空間分布を分析することによってビームの少なくとも1つの性質を導き出すステップとを含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6947493B2
公开(公告)日：2021-10-13
申请号：JP2016101671
申请日：2016-05-20
发明人： ミヒャエル ブダッハ , トシュテン ホフマン , クラウス エディンガー , パーヴェル スツィハ , ガブリエル バラリア
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公开(公告)号：JP2021523425A
公开(公告)日：2021-09-02
申请号：JP2021514481
申请日：2019-05-16
发明人： フレイタグ アレクサンダー , ヒュースマン クリストフ , サイデル ディルク , シュミット カーステン
IPC分类号： H01L21/027 , G06N3/02 , G06N20/00 , G03F1/84
摘要： 本発明は、フォトリソグラフィプロセスの要素(450)の欠陥(650、660)の少なくとも1つの未知の影響(250)を決定するための方法および装置に関する。方法(1000)は、(a)像(600)、像(600)に関連付けられた設計データ(240)、および像(600)から生じるフォトリソグラフィプロセスの要素(450)の欠陥(650、660)の少なくとも1つの影響の間の関係を、機械学習のモデル(200、300)に提供するステップと、(b)トレーニングの目的に使用される多数の像(830)、トレーニングの目的に使用される像(830)に関連付けられた設計データ(240)、および欠陥(650、660)の対応する影響を使用して、機械学習のモデル(200、300)をトレーニングするステップと、(c)トレーニング済みモデル(200、300)を測定された像(600)および測定された像(600)に関連付けられた設計データ(240)に適用することによって、欠陥(650、660)の少なくとも1つの未知の影響を決定するステップとを含む。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021510841A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：JP2020537693
申请日：2018-12-17
发明人： ラルフ ツベーリング
摘要： 本発明は、半導体リソグラフィ用の投影露光装置1であって、投影露光装置1の少なくとも1つのコンポーネント21及び構造部品22を備え、コンポーネント21は、構造部品22に固定され、コンポーネント21及び/又は構造部品22は、構造部品及び/又はコンポーネント21における基準面25に当接する少なくとも1つのストッパ28、40を有する投影露光装置1に関する。この場合、ストッパ28、40は、基準面25から離れることができるように構造部品22に固定されたコンポーネント21及び/又は構造部品22に対して可動であるように具現される。さらに、本発明は、投影露光装置1の構造部品22上のコンポーネント21を調整する方法であって、少なくとも1つのストッパ28、40をコンポーネント21又は構造部品22に締結するステップと、少なくとも1つのストッパ28、40がコンポーネント21又は構造部品22における基準面25と機械的に接触するようにコンポーネント21を位置決めするステップと、コンポーネント21を構造部品22に固定するステップと、ストッパ28、40を基準面25から離すステップとを含む方法を包含する。
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公开(公告)号：JP6853843B2
公开(公告)日：2021-03-31
申请号：JP2019029051
申请日：2019-02-21
发明人： マルクス コッホ , ディルク ヘルヴェク , レンツォ カペッリ , マルティン ディーツェル
IPC分类号： G03F1/84
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公开(公告)号：JP6832844B2
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：JP2017510370
申请日：2015-08-19
发明人： イェンス プロクノー , ディルク シャファー , アンドレアス ウルムブランド , ベルンハルト ゲルリッヒ , マルクス カーン
IPC分类号： G03F7/20
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公开(公告)号：JP2021504743A
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2020528220
申请日：2018-11-16
发明人： ヘルヴェク ディルク
摘要： マイクロリソグラフィのためのマスク(1)の認証について、ウエハ(8)上のマスク(1)の空中像(9)の効果は、マスク(1)によって製造可能なウエハ構造(14)を予測するためのシミュレーションによって確かめられる。
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公开(公告)号：JP6805248B2
公开(公告)日：2020-12-23
申请号：JP2018522015
申请日：2016-10-26
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