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公开(公告)号：KR1020080030937A
公开(公告)日：2008-04-07
申请号：KR1020070098745
申请日：2007-10-01
申请人： 호야 가부시키가이샤
IPC分类号： B05C13/00
CPC分类号： G02B1/111 , C03C17/001 , C03C17/02 , C03C2218/116
摘要： A method for forming an optical film on an optical substrate is provided to form a uniform optical film on an optical substrate having a large tilt angle with good reproducibility. A method for forming an optical film on an optical substrate includes the steps of: fixing a rotatable jig to an optical substrate; and spraying or dropping a coating solution containing an optical film component over the optical substrate while rotating the jig. The revolving speed of the jig is 8,000 rpm or more. The swing of a rotation axis of the jig is kept at 50 micron or smaller. An apparatus for forming an optical film on the optical substrate includes: the rotatable jig which fixes the optical substrate; a unit which rotates the jig; and a nozzle which sprays or drops the coating solution over the optical substrate.
摘要翻译： 提供了在光学基板上形成光学膜的方法，以在具有大的倾斜角的光学基板上形成均匀的光学膜，具有良好的再现性。 在光学基板上形成光学膜的方法包括以下步骤：将旋转夹具固定到光学基板上; 并且在旋转夹具的同时将包含光学膜部件的涂布溶液喷涂或滴落在光学基板上。 夹具的转速为8000转/分以上。 夹具的旋转轴的摆动保持在50微米以下。 在光学基板上形成光学膜的装置包括：固定光学基板的旋转夹具; 旋转夹具的单元; 以及将涂布溶液喷射或滴落在光学基板上的喷嘴。
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公开(公告)号：KR100721778B1
公开(公告)日：2007-05-25
申请号：KR1020057017064
申请日：2004-03-12
申请人： 마이크론 테크놀로지, 인크
发明人： 캠프벨,크리스티에이. , 길톤,테리엘. , 무어,존티. , 브룩스,조세프에프.
IPC分类号： H01L27/10
CPC分类号： C03C3/321 , C03C17/02 , G11C13/0004 , G11C13/0011 , G11C27/00 , H01L45/085 , H01L45/1233 , H01L45/1266 , H01L45/143 , H01L45/1608 , H01L45/1641
摘要： 본 발명은 2-단자 정전류 장치를 제공하는 방법 및 장치와, 그의 동작에 관한 것이다. 본 발명은 적어도 약 700 mV의 인가된 전압 범위에 걸쳐 정전류를 유지하는 정전류 장치를 제공한다. 본 발명은 또한, 정전류 값을 감소시키기 위해 양의 전위를 인가하거나, 기존 정전류의 전압 상위 한계보다 더 음의 전압을 인가하여, 그의 정전류 레벨을 그의 원래의 제조된 값으로 리셋하거나 증가시킴으로써 정전류 장치 내의 정전류 값을 변경하여 리셋하는 방법을 제공한다. 본 발명은 메모리 장치를 형성하여 정전류 장치로 변경하는 방법을 더 제공한다. 본 발명은 또한 아날로그 메모리 장치로서 정전류 장치를 이용하는 방법을 제공한다.
정전류 장치, 칼코겐화물 유리 층, 금속 함유 층.-
公开(公告)号：KR1020070022104A
公开(公告)日：2007-02-23
申请号：KR1020067026924
申请日：2005-06-10
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
IPC分类号： C01B13/32 , C01B33/113 , C01F7/02 , C01G23/047
CPC分类号： C01B13/32 , C01B13/145 , C03B19/12 , C03C17/02 , C09C1/3054 , C09C1/3081 , C09C1/3661 , C09C1/3684 , C09C1/407 , C09C3/063 , C09C3/12
摘要： a) 금속 산화물 분산액의 용기로의 초기 도입 단계, 및
b1) 금속 알콜레이트 M(OR)
x , 및 임의로 가수분해 촉매의 첨가 단계, 또는
b2) 금속 알콜레이트 M(OR)
x 의 가수분해에 의해 얻어지는 출발 졸 및 가수분해 촉매의 첨가 단계를 포함하며,
분산액 중의 금속 산화물이 200 nm 미만의 수평균 응집체 직경을 갖고,
가수분해로부터의 금속 산화물 대 분산액 중의 금속 산화물의 중량비가 0.01 내지 1인, 바인더가 없는 금속 산화물 졸의 제조 방법, 이 방법에 의해 얻어지는 금속 산화물 졸, 금속 산화물 졸에 의해 생성될 수 있는 코팅된 기재 및 성형품에 관한 것이다.
금속 산화물, 졸, 금속 알콜레이트-
公开(公告)号：KR100552568B1
公开(公告)日：2006-02-20
申请号：KR1019997000055
申请日：1998-05-07
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03C15/00 , B24C1/06 , C03B19/095 , C03C11/007 , C03C17/003 , C03C17/02 , C03C17/23 , C03C2204/04 , C03C2204/06 , C03C2217/213 , C03C2218/33 , Y10T428/24364 , Y10T428/24942 , Y10T428/249969 , Y10T428/249988 , Y10T428/24999
摘要： 본 발명은 반응기 챔버용, 특히 플라즈마 에칭장치의 반응기 챔버용 벨형상의 석영 글라스 부품에 관한 것이다. 알려진 석영 글라스 부품은 1㎛이상의 평균 거칠기 깊이 A
a 를 갖는 내측면을 포함하고, 반응기의 내측면을 마주하는 제 1석영 글라스 질의 기질을 포함한다. 여기에서, 반응기 챔버내에 가능한한 아무런 입자들도 발생시키지 않고, 상기 반응기의 내면에 마주하는 내측면이 그 위에 침적되는 물질층에 대한 높은 부착력과 특별하게 긴 사용수명에 의해서 특징지워지는 반응기 용기용 석영 글라스 부품을 제공하기 위하여, 본 발명에 따라서 제 2석영 글라스 질의 개방형 기공기포층에 의한 거친 영역이 상기 기질상에 형성되어지는 것이 제안된다. 사전에 설정된 표면 거칠기의 재생가능한 조절을 허용하는 상기 석영 글라스 부품을 제조하기 위한 간단한 방식은 아래와 같은 방법 단계들을 포함하며: 즉 SiO
2 를 함유하는 입자로부터 블랭크를 형성하는 단계, 1,000℃ 이상의 온도로 가열함으로서 부분적 혹은 완전한 유리화를 형성하는 단계를 포함하고, 여기서 거친 영역내에서 상기 블랭크의 내측면 형성도중에, SiO
2 를 함유하는 입자상에 가스의 방출하에서 유리화도중에 반응하는 부가적인 조성물이 첨가되고, 상기 거친 영역의 유리화 도중에 기포층의 형성을 초래하는 것이다.
상기의 식별자가 없습니다.-
公开(公告)号：KR1020050042284A
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：KR1020050030612
申请日：2005-04-13
申请人： 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 , 삼성에스디아이 주식회사
CPC分类号： C03C8/16 , C03C17/02 , H01J2211/36 , H01J2329/863 , H01J2329/864
摘要： 본 발명의 페이스트는, 글래스 분말 또는 글래스·세라믹 혼합 분말을 50∼95중량%, 수지를 0.1∼15중량%, 복수의 용제를 3∼60중량% 포함하고, 복수의 용제의 각 비점이 30℃ 이상이 다른 페이스트로서, 복수의 용제는 비점이 100℃ 이상 180℃ 이하의 저비점 용제로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 저비점 용제와 비점이 190℃ 이상 450℃ 이하의 고비점 용제로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 고비점 용제를 포함한다. 이 페이스트는 저비점 용제를 마지막으로 첨가하여 혼련함으로써 제조된다. 리브형 물질(13)은 이 페이스트를 기판(10) 표면에 도포하고 페이스트막(11)을 형성하며, 저비점 용제가 기화한 페이스트막(11)에 블레이드(12)를 삽입하여 일정 방향으로 이동하여 리브형 물질을 형성한다. 본 발명의 페이스트는 도포하기 쉽고 또한 소성 변형 후의 리브형 물질 형상을 유지한다.
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公开(公告)号：KR1020040098062A
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：KR1020047015974
申请日：2003-04-08
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
IPC分类号： H01J11/34
CPC分类号： H01J9/242 , C03B23/047 , C03B33/06 , C03C4/14 , C03C17/02 , E06B3/66304 , E06B2003/6638 , H01J9/185 , H01J29/028 , H01J29/864 , H01J2211/366 , H01J2329/864 , H01J2329/8645 , Y02P40/57
摘要： 본 발명은, 유리판으로 만들어진 두 장의 기판 사이의 공간, 보다 구체적으로 제한된 두께의 공간, 대체로 수 밀리미터 미만의 공간을, 디스플레이 스크린, 진공 유형의 차단 창유리 또는 평면 램프와 같은 장치의, 상기 기판의 전체 영역에서 유지하기 위한 스페이서에 관한 것이고, 상기 스페이서의 표면은 적어도 부분적으로 전기 전도성인 스페이서에 관한 것으로, 상기 스페이서는 전기 전도성을 나타내지 않는 코어(core)로 이루어지고, 상기 코어의 모양과 구성 재료는, 최종 장치의 기판의 열 기계 저항을 보장하도록 선택되고, 상기 코어는 전기 전도성을 나타내는 적어도 하나의 유리 층으로 적어도 부분적으로 코팅되어 있고, 50℃에서 10
-13 내지 10 ohm
-1 .cm
-1 의 전기 전도성을 상기 스페이서에 부여하는데 적합한 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020030007743A
公开(公告)日：2003-01-23
申请号：KR1020027016159
申请日：2001-06-06
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
CPC分类号： H01J9/242 , C03B19/06 , C03C17/006 , C03C17/02 , C03C17/04 , C03C17/3411 , C03C2217/40 , C03C2218/335 , G03F7/0007 , H01J2211/36 , H01J2211/444 , Y02P40/57
摘要： 본 발명은
(a) 감광성 흑색 유리-세라믹 페이스트와 감광성 백색 유리-세라믹 페이스트로부터 선택된 제1 감광성 유리-세라믹 페이스트(2)로 몰드(1)의 홈 부분(6)을 부분적으로 충전한 다음, 방사선 조사로 페이스트를 경화시키는 단계;
(b) 감광성 흑색 유리-세라믹 페이스트 및 감광성 백색 유리-세라믹 페이스트로부터 선택되고 제1 감광성 유리-세라믹 페이스트와는 다른 제2 감광성 유리-세라믹 페이스트(3)를 유리 베이스(12) 상에 공급하고, 제2 페이스트(3)를 사이에 두고 유리 베이스(12)와 몰드(1)를 적층하여 적층체를 형성하는 단계;
(c) 방사선을 적층체에 조사하여 2개의 백색층과 흑색층으로 구성된 립 전구 성형체(4)을 형성하는 단계;
(d) 유리 베이스(12)와 립 전구 성형체(4)로부터 몰드(1)를 분리하여 립 전구 성형체(4)를 유리 베이스(12) 상에 전사하는 단계; 및
(e) 립 전구 성형체(4)를 소결하여 유리 베이스(12) 상에 일체로 형성된 립을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 기판용 립의 제조 방법을 제공한다.摘要翻译： 一种等离子显示面板用基板的肋的制造方法，其特征在于，包括以下工序：（a）用选自感光性黑色玻璃陶瓷膏和感光性树脂糊中的第一感光性玻璃陶瓷膏部分地填充模具的槽部， 白色玻璃陶瓷浆料，并通过照射辐射使浆料固化; （b）将选自感光性黑色玻璃陶瓷浆料和感光性白色玻璃陶瓷浆料中的与第一感光性玻璃陶瓷浆料不同的第二感光性玻璃陶瓷浆料供给到玻璃基材上， 通过所述第二糊剂与所述玻璃基体一起成型以形成层压体; （c）用辐射照射叠层以形成由两层白色层和黑色层组成的肋前体模制品; （d）从所述玻璃基体和所述肋前体模制品移除所述模，以将所述肋前体模制品转移到所述玻璃基体; 和（e）烧结肋前体模制品以形成一体地形成在玻璃基底上的肋。
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公开(公告)号：KR1020010012529A
公开(公告)日：2001-02-15
申请号：KR1019997010484
申请日：1998-03-11
申请人： 기린 홀딩스 가부시키가이샤 , 자이단호진 클린 . 자판 . 센터
IPC分类号： C09D185/00
CPC分类号： C09D183/14 , C03C17/009 , C03C17/02 , Y10T428/31612 , C09D183/04 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D7/24 , B32B27/08
摘要： 하기화학식 1∼3으로표시되는화합물을포함하여이루어지는것을특징으로하는유리질피막을형성하는코팅제및 그것을사용한코팅방법및 코팅장치. (화학식 1) RSi (OR) (화학식 2) R(OSi (OR))OR (화학식 3) M (OR) 식중, R은중합성유기기이고, R는탄소수 4이하의알킬기이고, R은탄소수 6이하의알킬기이고, p는 1∼3의정수이고, q는 1∼10의정수이고, M는 3가또는 4가의금속이온이고, r는 M의가수에따라 3 또는 4의정수이고, 각화합물이복수의 R, R또는 R을포함할때, 그들은동일하거나다르더라도좋다. 본발명에의하여충분한유연성을갖고, 미크론오더영역의막두께의제어에우수하고, 동시에신속히경화하는유리질피막을형성하고, 경화후의피막이기재와의접착성이높고우수한내유기용매성을갖는유리질피막형성코팅제와그것을사용한유리질피막의코팅방법및 코팅장치가제공된다.
摘要翻译： 用于形成玻璃状涂层的涂层剂，其包含由以下化学式1至3表示的化合物，以及使用其的涂布方法和涂布装置。 其中R是具有4个或更少碳原子的烷基并且R是具有4个或更少碳原子的烷基（R' 和烷基，p为1至3和CAN协议，q是1至10个CAN协议中，M为三价或四价金属离子，r为取决于M协议中，各化合物的价数3或4的 当它们含有多个R，R或R时，它们可以相同或不同。 具有由本发明充分的柔软性，微米级区域的膜厚的优良控制，从而形成在同一时间并迅速固化的玻璃膜，固化形成具有优异的耐有机溶剂性的玻璃质涂膜后的膜基体材料之间的密合性高 提供涂布剂和使用该涂布剂的玻璃涂布的涂布方法以及涂布装置。
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公开(公告)号：KR1020000023608A
公开(公告)日：2000-04-25
申请号：KR1019997000055
申请日：1998-05-07
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03C15/00 , B24C1/06 , C03B19/095 , C03C11/007 , C03C17/003 , C03C17/02 , C03C17/23 , C03C2204/04 , C03C2204/06 , C03C2217/213 , C03C2218/33 , Y10T428/24364 , Y10T428/24942 , Y10T428/249969 , Y10T428/249988 , Y10T428/24999
摘要： PURPOSE: A quartz glass component for a reaction chamber, especially of plasma etching is prepared which contains the substrate of the second quarts glass having time-constant roughness by open pores on that of the first quarts glass as an essential step. CONSTITUTION: A quartz glass component for reaction housing consists of: containing an inner side having an average roughness depth, Aa, of over 1 micro meter which is faced the substrate of a first quarts glass; forming a range(5) of roughness by open pores on the substrate of the second quarts glass which does not form any particles, has high adhesion to materials built up on it and long time use. The preparation method thereof contains; forming blank composed of particles containing SiO2; heating at over 1000°C for being glass completely or partially.
摘要翻译： 目的：制备用于反应室的石英玻璃组分，特别是用于等离子体蚀刻的石英玻璃组分，其包含具有第一夸脱玻璃作为必要步骤的开孔的具有时间常数粗糙度的第二夸脱玻璃的基材。 构成：用于反应壳体的石英玻璃部件包括：包含面向第一夸脱玻璃基板的超过1微米的平均粗糙度深度Aa的内侧; 在不形成任何颗粒的第二夸脱玻璃的基板上通过开孔形成粗糙度范围（5），对其上建立的材料和长时间使用具有高粘附性。 其制备方法包括： 由含有SiO 2的颗粒形成的坯料; 在1000°C以上加热完全或部分玻璃。
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公开(公告)号：KR100130879B1
公开(公告)日：1998-04-21
申请号：KR1019930015240
申请日：1993-08-06
申请人： 제너럴 일렉트릭 캄파니
发明人： 티모시데이비드러셀 , 커티스에드워드스코트 , 레너지트쿠마르대타 , 메리수칼리스제브스키 , 폴조지매튜즈 , 찰스너스테워트
IPC分类号： H01J61/12
CPC分类号： C04B41/5024 , C03C17/02 , H01J61/35 , H01J61/827
摘要： 본 발명은 할로겐화 나트륨, 하나 이상의 부가적인 할로겐화 금속, 및 비활성시동 기체로 이루어진 아크관용 충전물을 포함하는 할로겐화 금속 아크 방전 램프용 용융 실리카의 아크관에 관한 것으로, 아크관은 아크 챔버를 정의하는 내벽을 갖는 용융 실리카의 관을 포함하고, 이 관의 내벽 상에는 금속 실리케이트 코팅이 제공되는데, 이 코팅은 유리질이고 투광성이며, 필수적으로 스칸듐, 이트륨 및 희토류원소로 구성된 그룹에서 선택된 하나 이상의 금속, 양호하게는 하나 이상의 부가적인 할로겐화 금속의 금속과 동일한 금속의 실리케이트로 이루어지는 코팅이다. 금속 실리케이트 코팅으로 용융 실리카 아크관을 보호함으로써 확산 또는 반응에 의한 충전물의 금속 부분의 손실을 감소시키고, 이에 따라 아크관 내의 자유 할로겐의 증가를 감소시킨다.
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