포토레지스트용 접착증진제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
    2.
    发明授权
    포토레지스트용 접착증진제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 有权
    光致抗蚀剂用粘附促进剂和含有其的光敏树脂组合物

    公开(公告)号:KR101730610B1

    公开(公告)日:2017-04-27

    申请号:KR1020150125155

    申请日:2015-09-03

    申请人: (주)켐이

    IPC分类号: G03F7/075 G03F7/085

    摘要: 본발명은하기화학식 1을만족하는실란계화합물을포함하는포토레지스트용접착증진제에관한것이다. [화학식 1](상기화학식 1에서, X는 O- 또는 N(Z)-이며; Y는직접결합, 치환또는비치환된 C6~C20의아릴렌기, 또는치환또는비치환된 C6~C20의사이클로알킬렌기이며; Z및 Z는서로독립적으로 -H, 치환또는비치환된 C1~C6의알킬기, 치환또는비치환된 C6~C20의아릴기, 치환또는비치환된 C6~C20의사이클로알킬기또는 RSi(R)(R)(R)이며; R은 C16~C30의알킬기이며; R및 R는서로독립적으로 C1~C6의알킬렌기이며; R, R, R, R, R및 R는서로독립적으로 C1~C6의알콕시기이다.)

    摘要翻译: 本发明涉及含有满足下式(1)的硅烷化合物的光致抗蚀剂用粘附促进剂。 其中X是O-或N(Z) - ,Y是直接键,取代或未取代的C6-C20亚芳基或取代或未取代的C6- 亚烷基和; Z和Z独立地是-H,取代或未取代的芳基,取代或未取代的C1〜C6烷基,未取代的C6〜C20烷基的取代或未取代的C6〜C20或uisayi为RSi彼此的爪 (R)(R)(R)一个; R是烷基C16〜C30的;以R,R,R,R,R和R彼此独立地是; R和R各自独立地为C1〜C6的亚烷基 C1至C6烷氧基)。

    크산텐계 염료 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
    9.
    发明公开
    크산텐계 염료 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 审中-实审
    X吨染料化合物和含有它们的光刻胶组合物

    公开(公告)号:KR1020170120397A

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:KR1020160048837

    申请日:2016-04-21

    申请人: (주)켐이

    摘要: 본발명은크산텐계염료화합물및 이를포함하는포토레지스트조성물에관한것으로, 보다상세하게용매에대한개선된용해도를가질뿐 아니라우수한내열성, 내광성, 내화학성, 잔막율, 현상성및 강도(Strength)의구현이가능한크산텐계염료화합물및 이를포함하는포토레지스트조성물에관한것이다.

    摘要翻译: 呫吨染料的化合物的本发明,并且涉及包括相同的,并且更具体地,优良的耐热性不仅在溶剂中具有改善的溶解性,耐光性,耐化学性,残留涂膜,显影性能和强度(强度)光致抗蚀剂组合物 和含有它的光刻胶组合物。

    카바졸 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
    10.
    发明公开
    카바졸 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 有权
    咔唑衍生物,含有其的光聚合引发剂和光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号:KR1020170089557A

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:KR1020160009918

    申请日:2016-01-27

    申请人: (주)켐이

    摘要: 본발명은신규한카바졸유도체, 이를포함하는광중합개시제및 포토레지스트조성물에관한것으로, 본발명에따른카바졸유도체는한 분자내에옥심에스테르기와포스포네이트기를동시에가짐으로써, 종래광중합개시제에비하여자외선을효과적을흡수할수 있을뿐 아니라고 감도, 내열성및 내화학성을구현할수 있으며, 이를포함하여우수한잔막율, 현상성및 강도(Strength)의구현이가능한광중합개시제조성물및 포토레지스트조성물을제공한다.

    摘要翻译: 本发明中,咔唑衍生物包括UV通过具有膦酸基团的肟酯基团和在本发明的一个分子涉及一种光聚合引发剂和包括一种新颖的咔唑衍生物的光致抗蚀剂组合物相同的时间相比于常规光聚合引发剂,它 本发明的光刻胶组合物可以实现灵敏度,耐热性和耐化学性,并且能够实现优异的拔出率,显影性和强度。