-
公开(公告)号:KR101927875B1
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:KR1020160048837
申请日:2016-04-21
申请人: (주)켐이
摘要: 본 발명은 크산텐계 염료 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게 용매에 대한 개선된 용해도를 가질 뿐 아니라 우수한 내열성, 내광성, 내화학성, 잔막율, 현상성 및 강도(Strength)의 구현이 가능한 크산텐계 염료 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
-
公开(公告)号:KR101730610B1
公开(公告)日:2017-04-27
申请号:KR1020150125155
申请日:2015-09-03
申请人: (주)켐이
摘要: 본발명은하기화학식 1을만족하는실란계화합물을포함하는포토레지스트용접착증진제에관한것이다. [화학식 1](상기화학식 1에서, X는 O- 또는 N(Z)-이며; Y는직접결합, 치환또는비치환된 C6~C20의아릴렌기, 또는치환또는비치환된 C6~C20의사이클로알킬렌기이며; Z및 Z는서로독립적으로 -H, 치환또는비치환된 C1~C6의알킬기, 치환또는비치환된 C6~C20의아릴기, 치환또는비치환된 C6~C20의사이클로알킬기또는 RSi(R)(R)(R)이며; R은 C16~C30의알킬기이며; R및 R는서로독립적으로 C1~C6의알킬렌기이며; R, R, R, R, R및 R는서로독립적으로 C1~C6의알콕시기이다.)
摘要翻译: 本发明涉及含有满足下式(1)的硅烷化合物的光致抗蚀剂用粘附促进剂。 其中X是O-或N(Z) - ,Y是直接键,取代或未取代的C6-C20亚芳基或取代或未取代的C6- 亚烷基和; Z和Z独立地是-H,取代或未取代的芳基,取代或未取代的C1〜C6烷基,未取代的C6〜C20烷基的取代或未取代的C6〜C20或uisayi为RSi彼此的爪 (R)(R)(R)一个; R是烷基C16〜C30的;以R,R,R,R,R和R彼此独立地是; R和R各自独立地为C1〜C6的亚烷基 C1至C6烷氧基)。
-
公开(公告)号:KR1020170014833A
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:KR1020150108777
申请日:2015-07-31
申请人: (주)켐이
IPC分类号: C07C13/567 , C07C219/08 , G03F7/004 , G03F7/00 , G02B5/20
摘要: 본발명은신규한플루오렌유도체, 이를포함하는광중합개시제및 포토레지스트조성물에관한것으로, 본발명에따른플루오렌유도체는플루오렌의 9번위치에불포화기를포함하는플루오렌골격을가짐으로써넓은범위의흡수스펙트럼에서고 감도를구현할수 있는광중합개시제및 포토레지스트조성물을제공할수 있다는장점을가진다.
-
公开(公告)号:KR102176497B1
公开(公告)日:2020-11-09
申请号:KR20190018166
申请日:2019-02-15
申请人: (주)켐이
IPC分类号: C08G65/333 , G03F7/004
摘要: 본발명은아미드기함유카도계고분자수지및 이의제조방법과이를포함하는감광성수지조성물, 유기절연막및 디스플레이장치에관한것이다. 본발명에따른아미드기함유카도계고분자수지는중합가능기의수를증가시킴에따라우수한감도를가질수 있으며, 아미드를함유함으로써우수한내열성및 내화학성을가질수 있다는장점이있다.
-
-
公开(公告)号:KR101831358B1
公开(公告)日:2018-02-22
申请号:KR1020160068508
申请日:2016-06-02
申请人: (주)켐이
摘要: 본발명은신규한광활성화합물, 이를포함하는광중합개시제및 포토레지스트조성물에관한것으로, 본발명에따른광활성화합물은종래광중합개시제에비하여자외선을효과적을흡수할수 있을뿐 아니라고 감도, 내열성및 내화학성을구현할수 있으며, 이를포함하여우수한잔막율, 현상성및 강도(Strength)의구현이가능한광중합개시제조성물및 포토레지스트조성물을제공한다.
-
-
公开(公告)号:KR101968747B1
公开(公告)日:2019-04-12
申请号:KR1020170094282
申请日:2017-07-25
申请人: (주)켐이
IPC分类号: C07D209/82 , G03F7/029 , G03F7/004 , G03F7/00 , G02B5/20 , C07D209/86
-
公开(公告)号:KR1020170120397A
公开(公告)日:2017-10-31
申请号:KR1020160048837
申请日:2016-04-21
申请人: (주)켐이
摘要: 본발명은크산텐계염료화합물및 이를포함하는포토레지스트조성물에관한것으로, 보다상세하게용매에대한개선된용해도를가질뿐 아니라우수한내열성, 내광성, 내화학성, 잔막율, 현상성및 강도(Strength)의구현이가능한크산텐계염료화합물및 이를포함하는포토레지스트조성물에관한것이다.
摘要翻译: 呫吨染料的化合物的本发明,并且涉及包括相同的,并且更具体地,优良的耐热性不仅在溶剂中具有改善的溶解性,耐光性,耐化学性,残留涂膜,显影性能和强度(强度)光致抗蚀剂组合物 和含有它的光刻胶组合物。
-
公开(公告)号:KR1020170089557A
公开(公告)日:2017-08-04
申请号:KR1020160009918
申请日:2016-01-27
申请人: (주)켐이
IPC分类号: C07D209/86 , C07D209/88 , G03F7/031 , G03F7/00 , G02B5/20 , G02F1/1335
CPC分类号: C07D209/86 , C07D209/88 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00 , G03F7/031
摘要: 본발명은신규한카바졸유도체, 이를포함하는광중합개시제및 포토레지스트조성물에관한것으로, 본발명에따른카바졸유도체는한 분자내에옥심에스테르기와포스포네이트기를동시에가짐으로써, 종래광중합개시제에비하여자외선을효과적을흡수할수 있을뿐 아니라고 감도, 내열성및 내화학성을구현할수 있으며, 이를포함하여우수한잔막율, 현상성및 강도(Strength)의구현이가능한광중합개시제조성물및 포토레지스트조성물을제공한다.
摘要翻译: 本发明中,咔唑衍生物包括UV通过具有膦酸基团的肟酯基团和在本发明的一个分子涉及一种光聚合引发剂和包括一种新颖的咔唑衍生物的光致抗蚀剂组合物相同的时间相比于常规光聚合引发剂,它 本发明的光刻胶组合物可以实现灵敏度,耐热性和耐化学性,并且能够实现优异的拔出率,显影性和强度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-