公开(公告)号：KR101870064B1

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR1020167030909

申请日：2015-05-27

Applicant: 다이킨 고교 가부시키가이샤 ,  아사히 가세이 가부시키가이샤

Inventor： 이노다다시 ,  요시무라다카시 ,  곤도마사히로 ,  미야케나오토 ,  이노우에유이치 ,  미야자키구온 ,  다고다카히로

IPC: C08F214/26 ,  H01M4/86 ,  H01M8/1004

CPC classification number: C08F214/262 ,  C08F214/26 ,  H01B1/06 ,  H01M4/86 ,  H01M8/10 ,  H01M8/1004 ,  H01M8/1039 ,  H01M8/1067 ,  H01M2008/1095 ,  H01M2300/0082 ,  Y02P70/56

Abstract: 본발명은산소투과성이높고(특히, 저가습과고가습의어느조건에서든고산소투과성을발현함), 또한높은발전내구성도발현할수 있는아이오노머를제공하는것을목적으로한다. 본발명은특정한반복단위 A 및반복단위 B를갖고, 당량중량이 250 내지 930이고, 유리전이온도가 100 내지 130℃인고산소투과성아이오노머이다.

公开(公告)号：KR1020160145061A

公开(公告)日：2016-12-19

申请号：KR1020167030909

申请日：2015-05-27

Applicant: 다이킨 고교 가부시키가이샤 ,  아사히 가세이 가부시키가이샤

Inventor： 이노다다시 ,  요시무라다카시 ,  곤도마사히로 ,  미야케나오토 ,  이노우에유이치 ,  미야자키구온 ,  다고다카히로

IPC: C08F214/26 ,  H01M4/86 ,  H01M8/1004

CPC classification number: C08F214/262 ,  C08F214/26 ,  H01B1/06 ,  H01M4/86 ,  H01M8/10 ,  H01M8/1004 ,  H01M8/1039 ,  H01M8/1067 ,  H01M2008/1095 ,  H01M2300/0082 ,  Y02P70/56 ,  H01M4/8668 ,  Y02E60/521

Abstract: 본발명은산소투과성이높고(특히, 저가습과고가습의어느조건에서든고산소투과성을발현함), 또한높은발전내구성도발현할수 있는아이오노머를제공하는것을목적으로한다. 본발명은특정한반복단위 A 및반복단위 B를갖고, 당량중량이 250 내지 930이고, 유리전이온도가 100 내지 130℃인고산소투과성아이오노머이다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种具有高透氧性的离聚物（特别是即使在低或高湿度的条件下也表现出高的透氧性），并且具有高的发电耐久性。 具有高透氧性的离聚物具有：特定的重复单元A和重复单元B; 当量为250〜930; 玻璃化转变温度为100〜130℃。

公开(公告)号：KR1020080095305A

公开(公告)日：2008-10-28

申请号：KR1020087023329

申请日：2007-04-24

Applicant: 아사히 가세이 가부시키가이샤

Inventor： 미야자키구온 ,  하야카와다카시

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1071 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/161 ,  G03F7/40 ,  H05K3/287 ,  Y10S522/91 ,  Y10T428/24802 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045

Abstract: Disclosed is a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin, wherein the dissolution rate of the alkali-soluble resin in an aqueous sodium carbonate solution is not less than 0.04 mum/sec. When a photosensitive layer having a thickness of 30 mum is formed by applying the photosensitive resin composition onto a base and removing the solvent by heating, and the thus-obtained photosensitive layer is irradiated with an active ray of 1000 mJ/cm2 or less, the dissolution rate of the portion irradiated with the active ray in the photosensitive layer made of the photosensitive resin composition is not less than 0.22 mum/sec and the film residual rate of the portion not irradiated with the active ray is not less than 90%.

Abstract translation: 公开了含有碱溶性树脂的感光性树脂组合物，其中碱溶性树脂在碳酸钠水溶液中的溶解速度不小于0.04mum / sec。 当通过将感光性树脂组合物涂布在基材上并通过加热除去溶剂来形成厚度为30μm的感光层时，用1000mJ / cm 2以下的活性射线照射由此得到的感光层， 在由感光性树脂组合物构成的感光层中用活性射线照射的部分的溶解速度为0.22μm/ sec以上，未用活性射线照射的部分的膜残留率为90％以上。

公开(公告)号：KR100995620B1

公开(公告)日：2010-11-22

申请号：KR1020087023329

申请日：2007-04-24

Applicant: 아사히 가세이 가부시키가이샤

Inventor： 미야자키구온 ,  하야카와다카시

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1071 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/161 ,  G03F7/40 ,  H05K3/287 ,  Y10S522/91 ,  Y10T428/24802

Abstract: 본 발명은, 알칼리 가용성 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 알칼리 가용성 수지의 탄산나트륨 수용액으로의 용해 속도가 0.04㎛/sec 이상이고, 상기 감광성 수지 조성물을 기재상에 도공하고, 가열에 의한 탈용제 후에 얻어지는 막두께 30㎛의 감광층에 대해 1000mJ/㎠ 이하의 활성 광선을 조사한 경우, 상기 감광성 수지 조성물로 구성되는 감광층의 활성 광선 조사부의 탄산나트륨 수용액으로의 용해 속도가 0.22㎛/sec 이상이고, 활성 광선 미조사부의 잔막률이 90% 이상인 감광성 수지 조성물이다.