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公开(公告)号:KR1020130040782A
公开(公告)日:2013-04-24
申请号:KR1020127023780
申请日:2011-02-16
Applicant: 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템
IPC: C07F7/08
CPC classification number: C07F7/0881 , C07D301/00 , C07D303/12 , C07F7/0849 , C07F7/0874 , C07F7/0878 , C07F7/0879 , C07F7/0889 , C07F7/0896 , C09D163/00 , G03F7/0002 , H01L21/31055 , C07F7/0852 , C07F7/0812 , C07F7/0861 , C07F7/0867
Abstract: 본 발명은 분지화되고 작용기화된 실록산 및 이러한 화합물의 제조 방법을 기재한다. 이 화합물은 다양한 용도를 가진다. 일 바람직한 적용례는 리소그래피를 위한 신규의 평탄화 물질로서이며, 이 경우 작용기화된 분지쇄형 실록산, 예컨대 에폭시-개질된 분지쇄형 실록산이 특히 유용하다.
Abstract translation: 本发明描述了支链和官能化硅氧烷及其制备方法。 这些化合物具有多种用途。 一种优选的应用是用于石印的新型平面化材料,在这种情况下,官能化的支化硅氧烷,例如环氧改性的支化硅氧烷是特别有用的。
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公开(公告)号:KR101805218B1
公开(公告)日:2017-12-05
申请号:KR1020127023780
申请日:2011-02-16
Applicant: 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템
IPC: C07F7/08
CPC classification number: C07F7/0881 , C07D301/00 , C07D303/12 , C07F7/0849 , C07F7/0874 , C07F7/0878 , C07F7/0879 , C07F7/0889 , C07F7/0896 , C09D163/00 , G03F7/0002 , H01L21/31055
Abstract: 본발명은분지화되고작용기화된실록산및 이러한화합물의제조방법을기재한다. 이화합물은다양한용도를가진다. 일바람직한적용례는리소그래피를위한신규의평탄화물질로서이며, 이경우작용기화된분지쇄형실록산, 예컨대에폭시-개질된분지쇄형실록산이특히유용하다.
Abstract translation: 本发明描述了支化和官能化硅氧烷以及制备这些化合物的方法。 这种化合物有多种用途。 一种优选的应用是作为用于光刻的新型平面化材料,其中官能化的支化硅氧烷例如环氧改性的支化硅氧烷是特别有用的。
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