公开(公告)号：KR101365279B1

公开(公告)日：2014-02-21

申请号：KR1020127006749

申请日：2010-09-17

申请人： 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤

发明人： 호소까와도모아끼 ,  우에다고헤이 ,  이노우에이꾸야 ,  오바라유끼

IPC分类号： B32B15/08 ,  F21V7/22

CPC分类号： C23C28/04

摘要： 금속재 표면의 일부 또는 전부에, 루틸형 산화티탄을 고형분 체적 농도로 35% 내지 70% 함유하는 제1 도막층과, 제1 도막층의 표층측에 적층된 제2 도막층을 포함하는 적어도 2층의 피복층을 갖는 도장 금속판에 있어서, 제1 도막층과 제2 도막층과의 경계면의 중심선 평균 거칠기 Ra를 0.8㎛ 이상으로 했다. 종래보다도 훨씬 높은 전광선 반사율을 갖고, 또한 성형성이 우수한 도장 금속재와 그 제조 방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020120058547A

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：KR1020127006749

申请日：2010-09-17

申请人： 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤

发明人： 호소까와도모아끼 ,  우에다고헤이 ,  이노우에이꾸야 ,  오바라유끼

IPC分类号： B32B15/08 ,  F21V7/22

CPC分类号： C23C28/04

摘要： 금속재 표면의 일부 또는 전부에, 루틸형 산화티탄을 고형분 체적 농도로 35% 내지 70% 함유하는 제1 도막층과, 제1 도막층의 표층측에 적층된 제2 도막층을 포함하는 적어도 2층의 피복층을 갖는 도장 금속판에 있어서, 제1 도막층과 제2 도막층과의 경계면의 중심선 평균 거칠기 Ra를 0.8㎛ 이상으로 했다. 종래보다도 훨씬 높은 전광선 반사율을 갖고, 또한 성형성이 우수한 도장 금속재와 그 제조 방법을 제공한다.