Abstract:
어닐링시에 강 중의 Si, Mn 등의 이산화성 원소(element susceptible to oxidation)가 강대 표면에 농화되어 이산화성 원소의 산화물이 형성되는 것을 방지한다. 가열대, 균열대 및 냉각대를 구비하고, 로 내 가스의 일부를 로 외로 설치한 리파이너로 도입하여 노점을 저하시켜, 노점을 저하시키고 가스를 로 내로 되돌리는 종형 어닐링로를 이용하여, 균열대와 냉각대와의 연결부를 로 상부에 배치하고, 균열대와 냉각대와의 연결부 근방의 냉각대 및 균열대 상부에 리파이너로 도입되는 로 내 가스의 흡인구를 설치하고, 균열대와 냉각대와의 연결부 및 균열대 하부에 리파이너로부터 되돌아오는 가스의 토출구를 설치하고, 균열대와 냉각대와의 연결부 근방의 냉각대의 흡인 가스량 Qo1, 균열대 상부의 흡인 가스량 Qo2, 균열대와 냉각대와의 연결부의 토출 가스량 Qi1, 균열대 하부의 토출 가스량 Qi2, 냉각대 이후의 분위기 가스의 공급량 Qf1, 균열대의 분위기 가스의 공급량 Qf2, 균열대 내 용적 Vs, 및, 균열대 평균 로온 Ts가, 0.3×Qf1<Qo1 등의 관계를 충족하도록 한다.
Abstract:
용융 아연 도금 강판의 제조 설비는, 용융 아연 도금 장치와, 조질 압연기와, 산성 용액 접촉 장치와, 세정 장치가 연이어 설치되고, 상기 산성 용액 접촉 장치와 상기 세정 장치는 간격을 두고 배치되며, 이 간격 내에는 절대 습도를 제어하는 수단이 형성되어 있다. 당해 절대 습도의 제어 수단으로서는, 강판의 상하면 및 양 측면을 덮고, 그리고, 강판이 관통 가능한 커버와, 상기 커버 내에, 수증기 또는 건조 공기를 취입(吹入)하는 취입 수단과, 온도와 상대 습도, 또는 이슬점을 측정하는 측정 수단을 형성하는 것을 예시할 수 있다. 이 용융 아연 도금 강판의 제조 설비에 의해, 용융 아연 도금 강판 표면에 강판 표면의 외관을 손상시키지 않고 필요한 산화막을 안정되고 확실하게 형성시킬 수 있다.
Abstract:
This invention provides an equipment for producing a hot dip galvanized steel plate, comprising a hot dip galvanizing apparatus, a temper rolling machine, an acidic solution contacting apparatus, and a cleaning apparatus which have been installed consecutively. The acidic solution contacting apparatus and the cleaning apparatus are provided while providing a space therebetween. Means for controlling absolute humidity is provided in the space. An example of the means for controlling the absolute humidity comprises a cover, which covers the upper and lower surfaces and both sides of the steel plate and through which the steel plate can be passed, spray means for spraying water vapor or dry air into the cover, and means for measuring the temperature and relative humidity or measuring the dew point. The equipment for producing a hot dip galvanized steel plate can stably and reliably form a necessary oxide film on the surface of the hot dip galvanized steel plate without sacrificing the appearance of the surface of the steel plate.
Abstract:
In a method of controlling the concentration of P-containing treatment liquid waste, there is provided a waste liquid buffer tank capable of, after receiving of P-containing treatment liquid waste, feeding the liquid to a wastewater treatment plant or reserving the waste liquid. While maintaining the concentration of P-containing treatment liquid within a target concentration range, a treatment object is treated. The P concentration of P-containing treatment liquid waste in the waste liquid buffer tank is measured. When the measurement of P concentration is below an allowable upper limit, the P-containing treatment liquid waste is fed from the waste liquid buffer tank to a wastewater treatment plant. When the measurement of P concentration is the allowable upper limit or above, feeding of the P-containing treatment liquid waste to the wastewater treatment plant is discontinued and the waste liquid is reserved in the waste liquid buffer tank. The concentration of P-containing treatment liquid is lowered to a value falling within the target concentration range and the liquid is used to treat the treatment object.