摘要:
본 발명은, 주류액체에 기체를 용해시키는 용해부를 가지는 연속용해장치에서, 주류액체의 유량을 계측해서 계측치의 신호를 출력하는 유량계와, 입력되는 상기 신호에 의거해서 기체의 공급량을 제어하는 유량제어기구를 가지는 것을 특징으로 하는 연속용해장치, 및, 주류액체에 기체를 연속적으로 용해시키는 연속용해방법에서, 주류액체의 유량에 의거해서 기체의 공급량을 제어하는 것을 특징으로 하는 연속용해방법이 개시되어 있다. 개시된 장치 혹은 방법에 의하면, 주류액체의 유량이 변동해도, 안정되어서 일정농도의 용액을 얻을 수 있기 때문에, 특히 정밀한 청정 표면을 필요로 하는 전자재료에 이용하는 세정수나 표면 처리수를 낭비없이 공급하는 것을 특징으로 한 것이다.
摘要:
본 발명은 에어로솔 제조 장치(1)에 관한 것으로, 상기 에어로솔 제조 장치는 분사 장치(5)를 포함하여 구성되며, 상기 분사 장치에서 에어로솔(2)이 운반 기체 및 액체로부터 제조된다. 상기 운반 기체 및 상기 액체는 스로틀 시스템의 적어도 하나의 스로틀(8, 9)을 통하여 상기 분사 장치(5)에 제어된 양으로 각각 공급된다.
摘要:
본 발명은 반도체 소자 제조 시 사용되는 케미컬 용액을 혼합하는 케미컬 혼합장치에 관한 것이다. 부체를 이용하여 케미컬 공급량을 측정하여 오동작을 방지할 수 있는 케미컬 혼합장치는, 서로 다른 종류의 케미컬용액을 공급하기 위한 적어도 2개 이상의 공급라인들과, 상기 공급라인들 상에 각각 설치되어 밸브제어신호에 의해 서로 다른 종류의 케미컬용액을 각각 공급하거나 차단할 수 있도록 개/폐 가능한 적어도 2개 이상의 밸브와, 상기 공급라인을 통해 공급되는 서로 다른 케미컬용액을 받아 혼합하는 혼합용기와, 상기 혼합용기의 하단에 설치되어 상기 혼합용기로부터 혼합된 케미컬용액을 공정챔버로 공급하기 위한 혼합 케미컬 공급라인과, 상기 혼합 케미컬 공급라인 상에 설치되어 밸브제어신호에 의해 상기 혼합된 케미컬용액을 공급하도록 단속하는 혼합케미컬 공급밸브와, 상기 혼합용기 내에 설치되어 상기 혼합용기 내에 케미컬� �액들이 공급됨에 따라 상부로 이동하는 부체와, 상기 부체에 고정되어 있으며 케미컬용액들의 공급량을 측정하기 위해 상부로 이동하는 측정막대와, 상기 측정막대가 상부로 이동함에 따라 순차적으로 스위칭 온되어 케미컬용액들의 공급량 측정신호를 출력하는 스위칭부와, 미리 정해진 케미컬 용액의 혼합비율에 따라 상기 스위칭부로부터 케미컬 공급량 측정신호를 받아 상기 서로 다른 종류의 케미컬용액을 정량으로 각각 공급하기 위한 밸브제어신호와 상기 혼합된 케미컬용액을 상기 공정챔버로 공급하기 위한 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러를 포함한다. 또한 케미컬용액 상에 뜨는 부체를 이용하여 케미컬용액의 공급량을 검출하므로, 레벨센서의 결함으로 인해 오동작하는 것을 방지할 수 있으며, 케미컬용액의 공급량을 검출하기 위한 센서를 교체하지 않게 되어 생산성을 향상시킬 수 있다.
摘要:
소규모의 실험실 조작에 사용되는 자동화 유체 배합 시스템에 관한 것이다. 상기 시스템은 성분의 측정 및 전체 배합 공정의 정밀한 제어를 제공하는 컴퓨터를 사용한다. 본 발명의 새로운 특징은 에멀젼 및 겔과 같은 고점도의, 높은 고형분 유체의 배합을 정밀하게 제어할수 있다는 것이다. 나아가, 예비-프로그램된 세척 사이클을 컴퓨터내로 입력시켜 상기 혼합 원소를 자동으로 세척할 수 있으며, 이에 따라 상기 혼합 원소는 배합 전의 물질로 후속적인 배합물을 오염시키지 않는다.
摘要:
PURPOSE: Preparation of homogeneous gas mixtures with sf6 is provided. CONSTITUTION: Homogeneous compressed gas mixtures with SF6 and a gas with a density at least 4 g/l lower can be prepared by using a mixing station with at least the following elements: a gas premixer in which the separate gases are brought together; a static mixer and/or a buffer tank connected thereto; a compressor connected to the buffer tank or static mixer; and when a buffer tank is used, a return line from the compressor output to the buffer tank. Mixtures of SF6 and N2, useful for example as insulating gas for current-conductive underground cables, can be produced by this process, which is capable of processing large flow rates. Mass flowmeters ensure high precision and reliability. Also disclosed is a mobile mixing station for implementing this process.
摘要:
An apparatus for mixing a processing solution, an apparatus for processing a substrate, a method for mixing a processing solution, and a storage medium are provided to minimize a waste amount of a specific raw material. An apparatus for mixing a processing solution includes a mixing chamber(2,3), a flow rate control unit, a flow rate detecting unit, an exhaust valve(23,24,25), a supply valve(26~31), and a control unit(32). The mixing chamber mixes raw material liquid of a plurality of kinds. The flow rate control unit controls a flow rate of the raw material liquid flowing to a supply flow path(14,15,16) into a set flow rate. The supply flow path separately supplies the raw material to the mixing chamber from a supply source of the raw material. The flow rate detecting unit detects a flow rate of the raw material liquid flowing to the supply flow path. The exhaust valve is formed between the flow rate control unit of the supply flow path and the mixing chamber. The exhaust valve exhausts the raw material liquid flowing to the supply flow path to outside. The supply valve is formed between the exhaust valve of the supply flow path and the mixing chamber. The supply valve opens and closes the supply flow path.
摘要:
본 발명은 반도체 소자 제조 시 사용되는 케미컬 용액을 혼합하는 케미컬 혼합장치에 관한 것이다. 부체를 이용하여 케미컬 공급량을 측정하여 오동작을 방지할 수 있는 케미컬 혼합장치는, 서로 다른 종류의 케미컬용액을 공급하기 위한 적어도 2개 이상의 공급라인들과, 상기 공급라인들 상에 각각 설치되어 밸브제어신호에 의해 서로 다른 종류의 케미컬용액을 각각 공급하거나 차단할 수 있도록 개/폐 가능한 적어도 2개 이상의 밸브와, 상기 공급라인을 통해 공급되는 서로 다른 케미컬용액을 받아 혼합하는 혼합용기와, 상기 혼합용기의 하단에 설치되어 상기 혼합용기로부터 혼합된 케미컬용액을 공정챔버로 공급하기 위한 혼합 케미컬 공급라인과, 상기 혼합 케미컬 공급라인 상에 설치되어 밸브제어신호에 의해 상기 혼합된 케미컬용액을 공급하도록 단속하는 혼합케미컬 공급밸브와, 상기 혼합용기 내에 설치되어 상기 혼합용기 내에 케미컬� �액들이 공급됨에 따라 상부로 이동하는 부체와, 상기 부체에 고정되어 있으며 케미컬용액들의 공급량을 측정하기 위해 상부로 이동하는 측정막대와, 상기 측정막대가 상부로 이동함에 따라 순차적으로 스위칭 온되어 케미컬용액들의 공급량 측정신호를 출력하는 스위칭부와, 미리 정해진 케미컬 용액의 혼합비율에 따라 상기 스위칭부로부터 케미컬 공급량 측정신호를 받아 상기 서로 다른 종류의 케미컬용액을 정량으로 각각 공급하기 위한 밸브제어신호와 상기 혼합된 케미컬용액을 상기 공정챔버로 공급하기 위한 밸브제어신호를 출력하는 콘트롤러를 포함한다. 또한 케미컬용액 상에 뜨는 부체를 이용하여 케미컬용액의 공급량을 검출하므로, 레벨센서의 결함으로 인해 오동작하는 것을 방지할 수 있으며, 케미컬용액의 공급량을 검출하기 위한 센서를 교체하지 않게 되어 생산성을 향상시킬 수 있다.