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公开(公告)号:KR102437508B1
公开(公告)日:2022-08-30
申请号:KR1020200171677
申请日:2020-12-09
摘要: 플라즈마전해연마를이용한 3D 프린팅으로제조된의료용코발트크롬합금의표면처리방법은플라즈마전해연마하기위한전해액을제조하고, 전해조의양극에 3D 프린팅으로제조된의료용코발트크롬합금을연결하며, 산화제로서과산화수소와질산이첨가된전해액으로플라즈마전해연마를실행하여합금표면에산화막을형성한다. 본발명에따르면표면조도가우수하고, 산화제의첨가로산화막의성장을가속화함으로써높은내부식성을가진다.
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公开(公告)号:KR102432937B1
公开(公告)日:2022-08-18
申请号:KR1020210121406
申请日:2021-09-13
摘要: 본발명은다열결합식선반조립구조물에관한것으로, 다수의체결공(H1)이형성되고지면에지지되어수직방향으로배치되며 'ㄱ'자형 단면을갖는제1지주~제4지주; 제1지주와제2지주또는제3지주와제4지주를연결하며수평방향으로결합되는제1받침부재와, 제1지주와제3지주또는제2지주와제4지주를연결하며수평방향으로결합되는제2받침부재; 상기제1지주~제4지주들을 4군데에배치하고, 제1지주~제4지주들을제1받침부재와제2받침부재로연결하여이루어지는받침대; 상기제1받침부재와제2받침부재에안착되는받침판;을포함하는것으로, 상기제1받침부재는, 제1지주와제2지주또는제3지주와제4지주를연결하는길이를갖는지지판과, 상기지지판의양단에직각으로절곡되어형성되는브라켓과, 상기지지판의상단일측에직각으로절곡되어형성되는제1단턱부와, 상기지지판의상단타측에직각으로절곡되어형성되는제2단턱부를포함하고, 상기지지판의외면에돌출되게형성되어제1지주와제2지주또는제3지주와제4지주의체결공에결합되는결합핀이형성되어이루어진다.
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公开(公告)号:KR102409410B1
公开(公告)日:2022-06-15
申请号:KR1020210191528
申请日:2021-12-29
摘要: 본발명은위성용송수신장치및 위성에관한것으로, 신호를송수신하기위한위성용송수신장치로서, 송신회로, 수신회로및 전원회로가실장된제1기판; 상기제1기판과마주보도록배치되고, 주파수합성회로및 제어회로가실장된제2기판; 및상기제1기판과상기제2기판을둘러싸도록설치되는하우징;을포함하고, 부품을집적화시켜위성을경량화시키고크기를저감시킬수 있다.
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公开(公告)号:KR1020220067990A
公开(公告)日:2022-05-25
申请号:KR1020200154844
申请日:2020-11-18
IPC分类号: C25D11/02
摘要: 본발명은플라즈마저항성이향상된금속표면처리방법에관한것으로, 전해액에침지된금속재료의표면에플라즈마전해산화방식으로산화층을형성하는방법으로서, 전압은임펄스가일정간격으로반복되는펄스파형태로인가되고, 임펄스인가시간이 60μsec 이하이고임펄스사이간격이임펄스인가시간의 15배이상인것을특징으로한다. 본발명은, 산화층의기공을줄여서치밀한산화층을형성함으로써, 절연파괴전압이높아질뿐만이아니라플라즈마에대한저항성도크게향상되는효과가있다.
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公开(公告)号:KR102389650B1
公开(公告)日:2022-04-21
申请号:KR1020170117017
申请日:2017-09-13
摘要: 본발명은배터리셀 평가용지그에있어서, 상기셀의크기에대응되게형성되고, 상기셀의상측및 하측중 적어도하나에밀착된보조플레이트; 적어도일단에서중심부측으로함입되어형성된적어도하나의삽입가이드를포함하고, 상기셀의상측및 하측에위치되어상기셀 및상기보조플레이트를가압하는가압플레이트; 및상기삽입가이드를따라삽탈가능하고, 상기가압플레이트를가압하는적어도하나의가압부;를포함하고, 상기가압부는상기삽입가이드를따라삽입되어상기셀의적어도일측에밀착되어위치된, 배터리셀 평가용지그에관한것이다.
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公开(公告)号:KR1020220035300A
公开(公告)日:2022-03-22
申请号:KR1020200117274
申请日:2020-09-13
IPC分类号: C23C16/458 , C25D11/02 , C25D11/12
摘要: 본발명은가이드프레임이일체화된서셉터에관한것으로서, 가이드프레임이서셉터에일체화된가이드프레임이일체화된서셉터에관한것이다. 이를위해기판을고정또는지지하는가이드프레임이일체화된서셉터, 일체화된서셉터의상부면중 기판이놓이는제1 영역에기 설정된제1 피막두께로피막층이형성되는제1 피막층, 일체화된서셉터의상부면중 기판이놓이지않는제2 영역에제1 피막층의형성시에비해상대적으로더 높은전압에의해기 설정된제2 피막두께로피막층이형성되는제2 피막층을포함하는것을특징으로하는가이드프레임이일체화된서셉터가개시된다.
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公开(公告)号:KR1020220011299A
公开(公告)日:2022-01-28
申请号:KR1020200090010
申请日:2020-07-21
摘要: 본발명은 Ti-Nb-Ta합금을이용한 HA 코팅형치과용임플란트의제조방법및 치과용임플란트에관한것으로, Ti-Nb-Ta합금을제조한다음, 플라즈마전해산화법을이용하여티타늄계합금을표면처리함으로써, 탄성계수를낮춰골과의응력차폐현상를감소시킬수 있고, 내부식성과생체적합성을향상시킬수 있는 Ti-Nb-Ta합금을이용한 HA 코팅형치과용임플란트의제조방법및 치과용임플란트에관한것이다.
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公开(公告)号:KR102318129B1
公开(公告)日:2021-10-27
申请号:KR1020167033646
申请日:2015-04-20
摘要: 본발명은부품의양극산화처리를행하기위해서의도된디바이스에관한것이며, 상기디바이스는, 처리될부품및 상기처리될부품의반대쪽에위치되는카운터-전극을포함하는처리챔버로서, 상기처리될부품은상기처리챔버의제1 벽을구성하는, 상기처리챔버; 제너레이터로서, 상기제너레이터의제1 단자는상기처리될부품에전기적으로연결되고, 그리고상기제너레이터의제2 단자는상기카운터-전극에전기적으로연결되는, 상기제너레이터; 및전해액을저장하고순환시키기위한시스템으로서, 상기처리챔버와상이한, 상기전해액을수용하도록의도된저장탱크; 및상기저장탱크와상기처리챔버사이에서상기전해액이유동되는것을허여하도록의도된전해액순환회로를포함하는, 상기시스템을포함한다.
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