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公开(公告)号：KR102403094B1
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：KR1020150167777
申请日：2015-11-27
摘要： 본발명은, 현상처리의면 내균일성을확보하면서, 현상처리의스루풋을향상시킨다. 현상처리방법으로서, 웨이퍼의중심부에, 순수로희석한희석현상액의액고임을형성하고(시간 t1), 그후, 웨이퍼를제1 회전속도까지가속하여상기희석현상액의액고임을웨이퍼의전체면에확산시켜, 당해웨이퍼표면에상기희석현상액의액막을형성한다(시간 t2). 그후, 웨이퍼와평행한접액면을갖는현상액공급노즐과당해웨이퍼와의사이에소정의간격의간극을확보한상태에서, 상기현상액공급노즐로부터웨이퍼의중심부에현상액을공급하여, 웨이퍼와당해현상액공급노즐의접액면과의사이에현상액의액고임을형성한다(시간 t3). 현상액공급노즐로부터현상액의공급을계속하면서, 웨이퍼를회전시킴과함께, 상기현상액공급노즐을웨이퍼의중심부로부터웨이퍼의외주부로이동시킨다.
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公开(公告)号：KR102397043B1
公开(公告)日：2022-05-12
申请号：KR1020150096662
申请日：2015-07-07
摘要： 본발명은점도가비교적높은약액을배출하기위한약액배출기구에있어서, 그약액의배액로가차지하는높이를작게할 수있는기술을제공하는것을과제로한다. 약액이저류되는저류공간을구비한저류부와, 상기저류공간에, 상기약액의점도를낮추는희석액을공급하기위해개구된희석액공급구와, 상기희석액과상기약액을교반시키기위해상기저류공간에유체를공급하여, 그희석액및 약액에와류를형성하기위한와류형성부와, 교반이끝난상기희석액및 약액을, 상기희석액의공급에의해유입시켜상기저류공간으로부터배출하기위해, 그저류공간에있어서상기희석액공급구의상측으로개구된배액구를구비하도록배액기구를구성한다. 이러한구성에의해, 배액구로부터배출되는폐액의점도를저하시킬수 있고, 그배액구에접속되는배액로의수평면에대한기울기를크게할 필요가없어진다.
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公开(公告)号：KR102386590B1
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：KR1020200125805
申请日：2020-09-28
IPC分类号： H01L21/67 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/66 , H01L21/027 , H01L21/677
摘要： 고스루풋으로의처리에대응가능한소형의도포, 현상장치를제공한다. 기판에레지스트막을형성하여, 당해기판을노광장치로반송하고, 이후, 당해노광장치에서노광된기판에대하여현상처리를행하는, 도포, 현상장치로서, 노광전 또는노광후의기판을처리하는처리모듈이마련된처리블록과, 상기처리블록과상기노광장치를폭방향으로연결하는중계블록을구비하고, 상기중계블록은, 상기노광장치에기판을반입반출하는반입반출기구가마련되고, 상기처리블록은, 상하방향으로다층화되어있으며, 상기폭방향으로연장되는반송영역에, 기판을반송하는반송기구가마련되고, 상기처리블록에있어서의, 상기중계블록의상기반입반출기구가액세스가능한높이위치의층에는, 상기중계블록측가장자리에, 양블록간에서기판을전달할시에당해기판이배치되는전달부가마련되고, 상기폭방향과직교하는깊이방향에있어서상기반송영역을사이에두는 2 개의영역중 적어도일방에, 노광전의기판을수용하는노광전수용부가, 상기폭방향을따라복수마련되고, 상기 2 개의영역내의상기노광전수용부가마련되어있지않은부분에, 기판에대하여상태변화를초래하지않는비처리유닛이마련되어있다.
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公开(公告)号：KR102319168B1
公开(公告)日：2021-11-01
申请号：KR1020200125824
申请日：2020-09-28
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： 고스루풋으로처리가능하며또한점유바닥면적이작은도포, 현상장치를제공한다. 기판에레지스트막을형성하고, 당해기판을노광장치로반송하고, 이후, 당해노광장치에서액침노광된기판에대하여현상처리를행하는도포, 현상장치로서, 레지스트막을포함하는도포막형성후, 액침노광전에기판을액 처리하는노광전 처리모듈을포함하는처리모듈이마련된처리블록과, 액침노광후, 현상처리전에기판을액 처리하는노광후 처리모듈과, 상기노광장치에기판을반입반출하는제 1 반입반출모듈이마련되고, 또한상기처리블록과상기노광장치를폭방향으로연결하는중계블록을구비하고, 상기처리블록은상하방향으로다층화되어, 각층에상기처리모듈이마련되고, 상기폭방향으로연장되는반송영역에, 기판을반송하는반송기구가마련되고, 상기노광전 처리모듈이마련된층에있어서의, 상기중계블록측가장자리에, 양블록간에서기판을전달할시에당해기판이배치되는전달부가마련되고, 상기중계블록은, 상기전달부및 상기노광후 처리모듈에기판을반입반출하는제 2 반입반출모듈이, 상기처리블록의상기전달부와상기폭방향으로인접하는영역에마련되고, 상기제 2 반입반출모듈과평면에서봤을때 중첩되는영역으로부터, 상기폭방향과직교하는깊이방향으로연장되는중계측반송영역에, 상기제 1 반입반출모듈이마련되고, 상기중계측반송영역과상하방향으로인접하고또한상기제 2 반입반출모듈과상기깊이방향으로인접하는영역에, 상기노광후 처리모듈이마련되고, 상기깊이방향에있어서, 상기제 2 반입반출모듈을사이에두고, 상기노광후 처리모듈과대향하는영역에, 상기제 1 반입반출모듈과상기제 2 반입반출모듈과의사이에서기판을중계하는중계기구가마련되어있다.
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公开(公告)号：KR102297381B1
公开(公告)日：2021-09-02
申请号：KR1020190124003
申请日：2019-10-07
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , G03F7/00 , G03F7/30
摘要： 본발명은기판을액 처리하는장치및 방법을제공한다. 기판을처리하는장치는제1방향을향하는길이방향을가지는베이스, 기판을지지하는기판지지유닛, 상기기판지지유닛에지지된기판으로액을공급하는액 공급유닛, 그리고상기액 공급유닛으로부터토출되는액의토출상태를측정하는측정유닛을포함하되, 상기기판지지유닛, 상기액 공급유닛, 그리고상기측정유닛은상기베이스상에위치되고, 상부에서바라볼때 상기기판지지유닛, 상기액 공급유닛, 그리고상기측정유닛은서로가상기제1방향을따라상대이동이가능하도록제공된다.
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公开(公告)号：KR102288743B1
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：KR1020197029825
申请日：2018-03-28
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/004 , G03F7/00 , G03F7/105 , G03F7/012 , G03F7/022 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40 , G02B1/04 , G02B3/00
摘要： 본발명에따른실시형태는, 각종초소형전자디바이스, 광전자디바이스및 디스플레이, 예를들어화상센서에적용되는컬러필터및 마이크로렌즈용의구조를생성하기위해패턴화될 수있는막을형성하는데유용하고, 착색제를함유하는자가화상형성중합체조성물을망라한다. 본발명의조성물은마이크로렌즈의어레이로열적변형이가능한화상어레이형성용포지티브톤 화상을형성하도록조정될수 있다. 그결과형성된화상은컬러필터용도로사용될수 있다.
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公开(公告)号：KR102257430B1
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：KR1020197015917
申请日：2017-10-04
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
摘要： 기판의일면상에는, 금속함유도포막이형성되고, 금속함유도포막상에감광성의유기재료에의해유기도포막이형성되고, 유기도포막은소정의패턴으로노광되어있다. 유기도포막에현상액이슬릿노즐에의해공급됨으로써, 유기도포막에소정의패턴이형성된다. 또한, 치환액이치환노즐에의해유기도포막의패턴및 금속함유도포막에공급됨으로써, 금속함유도포막의부분이제거되고, 금속함유도포막에소정의패턴이형성된다. 린스액이린스노즐에의해유기도포막의패턴및 금속함유도포막의패턴을갖는기판에공급된다.
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公开(公告)号：KR102245499B1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：KR1020140012150
申请日：2014-02-03
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
摘要： 피처리기판을제1 기간동안제1 방향으로이송하고, 상기제1 기간에후속하는제2 기간동안상기제1 방향에반대되는제2 방향으로이송하며상기제2 기간에후속하는제3 기간동안상기제1방향으로이송하는이송부및 상기이송부와이격되어상기이송부상에배치되고, 상기피처리기판상에현상액을토출하는제1 현상노즐을포함하는현상장치.
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公开(公告)号：KR1020210018401A
公开(公告)日：2021-02-17
申请号：KR1020210017545
申请日：2021-02-08
申请人： 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤
摘要： (과제) 본발명의과제는, 고농도의알칼리수용액인박막화처리액에의해레지스트층중의성분을미셀화시킴과동시에일단불용화시킨후, 미셀제거액스프레이에의해미셀을제거함으로써실시되는레지스트층의박막화처리방법에사용되는레지스트층의박막화장치에있어서, 미셀제거액의 pH 를원하는범위로유지할수 있는레지스트층의박막화장치를제공하는것이다. (해결수단) 미셀제거처리유닛이 pH 센서및 산성용액첨가용펌프를갖고, 그 pH 센서는, 미셀제거액의 pH 를모니터할수 있는위치에설치되어있고, 산성용액첨가용펌프는, 미셀제거액의 pH 가상승했을경우에산성용액을미셀제거액에첨가할수 있는위치에설치되어있고, 산성용액첨가용펌프는, 미셀제거액의실제의 pH 값 pH-M 이 pH-A 이상인경우에산성용액을미셀제거액에첨가하고, pH-M 에있어서의산성용액첨가용펌프의실제의출력 OP-M 은, pH-A 에있어서의산성용액첨가용펌프의출력 OP-A 와, 미셀제거액의 pH 의제어목표값 pH-B 에있어서의산성용액첨가용펌프의출력 OP-B 사이에있어서의비례제어에의해결정되고, 또한, OP-M 은, 산성용액첨가용펌프의최대출력 OP-X 에대해, 10 % 이상 50 % 이하인것을특징으로하는레지스트층의박막화장치.
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