公开(公告)号：TW200731251A

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：TW095147589

申请日：2006-12-19

Applicant: 先鋒股份有限公司 PIONEER CORPORATION

Inventor： 口隆信 HIGUCHI, TAKANOBU ,  細田康雄 HOSODA, YASUO

IPC: G11B ,  C23C

CPC classification number: G11B7/243 ,  C23C14/027 ,  C23C14/205 ,  G11B2007/2431 ,  H01B1/02 ,  H01L51/5231 ,  Y10T428/12021 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31678

Abstract: 一多晶鋁薄膜係由一鋁合金的多晶體所製成。多晶鋁薄膜係包括一第一添加物,其以均勻濃度分佈於各晶體顆粒的一內側及晶體顆粒的一介面上方,及一第二添加物,其以比晶體顆粒內側中更高之濃度分佈於晶體顆粒的介面中。

Abstract in simplified Chinese: 一多晶铝薄膜系由一铝合金的多晶体所制成。多晶铝薄膜系包括一第一添加物,其以均匀浓度分布于各晶体颗粒的一内侧及晶体颗粒的一界面上方,及一第二添加物,其以比晶体颗粒内侧中更高之浓度分布于晶体颗粒的界面中。

公开(公告)号：TW200715920A

公开(公告)日：2007-04-16

申请号：TW095127493

申请日：2006-07-27

Applicant: 鐘化股份有限公司 KANEKA CORPORATION

Inventor： 菊池剛 KIKUCHI, TAKASHI ,  金城永泰 KANESHIRO, HISAYASU ,  藤本省吾 FUJIMOTO, SHOGO

IPC: H05K ,  B32B

CPC classification number: H05K1/0346 ,  C08G73/1067 ,  C08L79/08 ,  C23C14/205 ,  H05K1/024 ,  H05K1/0393 ,  H05K2201/0154 ,  Y10T428/31681

Abstract: 本發明提供一種以蒸鍍或濺鍍、電鍍之金屬化方法製作之,且外觀良好之可撓性金屬箔積層板。可藉由使用有聚醯亞胺薄膜之金屬箔積層板解決上述課題,上述聚醯亞胺薄膜係將芳香族二胺與芳香族酸二酐反應而獲得之聚醯胺酸醯亞胺化而獲得之聚醯亞胺薄膜,並滿足如下之條件:(A)於270℃-340℃之範圍內具有儲存彈性模數之拐點;(B)損失彈性模數除以儲存彈性模數之値tan���的峰頂為320℃-410℃之範圍內;(C)400℃之儲存彈性模數為0.5 GPa-1.5 GPa;(D)拐點之儲存彈性模數���1(GPa)與400℃之儲存彈性模數���2(GPa)為下式(1)之範圍內。
(式1):85≧{(���1-���2)/���1}�100≧70

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种以蒸镀或溅镀、电镀之金属化方法制作之,且外观良好之可挠性金属箔积层板。可借由使用有聚酰亚胺薄膜之金属箔积层板解决上述课题,上述聚酰亚胺薄膜系将芳香族二胺与芳香族酸二酐反应而获得之聚酰胺酸酰亚胺化而获得之聚酰亚胺薄膜,并满足如下之条件:(A)于270℃-340℃之范围内具有存储弹性模数之拐点;(B)损失弹性模数除以存储弹性模数之値tan���的峰顶为320℃-410℃之范围内;(C)400℃之存储弹性模数为0.5 GPa-1.5 GPa;(D)拐点之存储弹性模数���1(GPa)与400℃之存储弹性模数���2(GPa)为下式(1)之范围内。 (式1):85≧{(���1-���2)/���1}�100≧70

公开(公告)号：TW200641870A

公开(公告)日：2006-12-01

申请号：TW095101768

申请日：2006-01-17

Applicant: 神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO

Inventor： 田內裕基 TAUCHI, YUKI ,  中井淳一 NAKAI, JUNICHI ,  藤井秀夫 FUJII, HIDEO ,  井土帶刀 IDO, TATEWAKI

IPC: G11B ,  C22C

CPC classification number: G11B7/243 ,  C22C5/06 ,  C22C9/00 ,  C22C13/00 ,  C22C23/02 ,  C23C14/205 ,  C23C14/3414 ,  G11B7/24035 ,  G11B7/257 ,  G11B7/26 ,  G11B2007/24304 ,  G11B2007/2431 ,  G11B2007/24312

Abstract: 本發明提供了一種用於光學資訊記錄媒體的記錄膜以及一種光學資訊記錄媒體，所述記錄膜具有優異生產率並且也具有優異耐久性(記錄保持性)，本發明包括如下：(1)在光學資訊記錄媒體中使用的記錄膜，其熱導率為0.8W／Kcm或更小，對波長為0.3μm～1.0μm的光的光吸收率為15％或更高，熔融溫度為300～800℃，(2)光學資訊記錄媒體，其中記錄膜包括如上所述的記錄膜，以及(3)用於形成所述記錄膜的濺鍍靶。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供了一种用于光学信息记录媒体的记录膜以及一种光学信息记录媒体，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性(记录保持性)，本发明包括如下：(1)在光学信息记录媒体中使用的记录膜，其热导率为0.8W／Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃，(2)光学信息记录媒体，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及(3)用于形成所述记录膜的溅镀靶。

公开(公告)号：TW200637928A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：TW095100030

申请日：2006-01-02

Applicant: 日材料股份有限公司 NIKKO MATERIALS CO., LTD.

Inventor： 入間田修一 ,  山越康廣

IPC: C23C

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C23C14/205 ,  H01L21/2855 ,  H05K1/0393 ,  H05K3/388

Abstract: 本發明係提供一種可撓性銅基板用阻障膜，其特徵在於，係由含有Cr：5～30wt％、Ti及／或Zr：1～10wt％、剩餘部份為不可避免之雜質及Ni形成之Ni－Cr系合金薄膜所構成，其膜厚為3～150nm、膜厚均一性在1σ(一個標準差)的範圍為10％以下。本發明亦提供一種阻障膜形成用濺鍍靶，其特徵在於，係含有Cr：5～30wt％、Ti及／或Zr：1～10wt％、剩餘部份為不可避免之雜質及Ni形成之Ni－Cr系合金，濺蝕面在面內方向的相對磁導率為100以下。本發明之可撓性銅基板用阻障膜及阻障膜形成用濺鍍靶，在抑制銅擴散至聚亞醯胺等之樹脂薄膜時，即使是以不產生膜剝離程度之薄的膜厚、或細的配線間距，亦能得到充分的阻障效果，並且，即使因熱處理等而使溫度上升，阻障特性亦不會改變。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种可挠性铜基板用阻障膜，其特征在于，系由含有Cr：5～30wt％、Ti及／或Zr：1～10wt％、剩余部份为不可避免之杂质及Ni形成之Ni－Cr系合金薄膜所构成，其膜厚为3～150nm、膜厚均一性在1σ(一个标准差)的范围为10％以下。本发明亦提供一种阻障膜形成用溅镀靶，其特征在于，系含有Cr：5～30wt％、Ti及／或Zr：1～10wt％、剩余部份为不可避免之杂质及Ni形成之Ni－Cr系合金，溅蚀面在面内方向的相对磁导率为100以下。本发明之可挠性铜基板用阻障膜及阻障膜形成用溅镀靶，在抑制铜扩散至聚亚酰胺等之树脂薄膜时，即使是以不产生膜剥离程度之薄的膜厚、或细的配线间距，亦能得到充分的阻障效果，并且，即使因热处理等而使温度上升，阻障特性亦不会改变。

公开(公告)号：TWI254959B

公开(公告)日：2006-05-11

申请号：TW093133317

申请日：2004-11-02

Applicant: 新明和工業股份有限公司 SHINMAYWA INDUSTRIES, LTD.

Inventor： 能勢功一 NOSE, KOUICHI ,  川孝市 SASAGAWA, KOICHI ,  古塚毅士 FURUTSUKA, TAKESHI ,  瀧川志朗 TAKIGAWA, SHIRO ,  小泉康浩 KOIZUMI, YASUHIRO

IPC: H01J

CPC classification number: C23C14/205 ,  B05D1/62 ,  B05D5/068 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0089 ,  C23C14/352 ,  C23C14/562 ,  C23C16/45557 ,  C23C16/509

Abstract: 本發明之成膜裝置與成膜方法，係對於背面配置有永久磁鐵(10)之陰極(5)施加來自HF電源(11)之高頻電壓來產生反應模式之電漿，使用此電漿進行電漿聚合成膜。另外，調整真空室(1)內之電漿源氣體壓力，來產生非反應模式而是金屬模式之電漿，使用此電漿，對做為靶之陰極(5)進行濺鍍來進行磁控濺鍍成膜。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之成膜设备与成膜方法，系对于背面配置有永久磁铁(10)之阴极(5)施加来自HF电源(11)之高频电压来产生反应模式之等离子，使用此等离子进行等离子聚合成膜。另外，调整真空室(1)内之等离子源气体压力，来产生非反应模式而是金属模式之等离子，使用此等离子，对做为靶之阴极(5)进行溅镀来进行磁控溅镀成膜。

公开(公告)号：TW200606263A

公开(公告)日：2006-02-16

申请号：TW094125703

申请日：2005-07-29

Applicant: 日材料股份有限公司 NIKKO MATERIALS CO., LTD.

Inventor： 入間田修一 ,  山越康廣

IPC: C23C

CPC classification number: H05K3/388 ,  C22C19/07 ,  C23C14/205 ,  C23C14/3414 ,  H05K1/0346 ,  H05K1/0393 ,  Y10T428/12569 ,  Y10T428/12715 ,  Y10T428/12847 ,  Y10T428/1291 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31721

Abstract: 一種可撓性銅基板用阻障膜，其特徵在於：係由含有Cr5～30重量％、且剩餘部份為不可避免之雜質與Co所構成之Co－Cr合金膜所形成者，膜厚為3～150nm，膜厚均勻性以1σ訂為10％以下；以及一種阻障膜形成用濺鍍靶，其特徵在於：係由含有Cr5～30重量％、且剩餘部份為不可避免之雜質與Co所構成之Co－Cr合金，濺鍍面之面內方向的相對磁導率為100以下。獲得一種可撓性銅基板用阻障膜，在抑制銅朝聚醯亞胺等樹脂膜之擴散之際，以不致發生膜剝離之程度的薄厚度，且即使面對微細之配線間距亦可得到充分之阻障效果，再者即使因為熱處理等造成溫度上升，阻障特性也不會變化；另獲得一種阻障膜形成用濺鍍靶。

Abstract in simplified Chinese: 一种可挠性铜基板用阻障膜，其特征在于：系由含有Cr5～30重量％、且剩余部份为不可避免之杂质与Co所构成之Co－Cr合金膜所形成者，膜厚为3～150nm，膜厚均匀性以1σ订为10％以下；以及一种阻障膜形成用溅镀靶，其特征在于：系由含有Cr5～30重量％、且剩余部份为不可避免之杂质与Co所构成之Co－Cr合金，溅镀面之面内方向的相对磁导率为100以下。获得一种可挠性铜基板用阻障膜，在抑制铜朝聚酰亚胺等树脂膜之扩散之际，以不致发生膜剥离之程度的薄厚度，且即使面对微细之配线间距亦可得到充分之阻障效果，再者即使因为热处理等造成温度上升，阻障特性也不会变化；另获得一种阻障膜形成用溅镀靶。

公开(公告)号：TWI247576B

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：TW092107182

申请日：2003-03-28

Applicant: 鴻海精密工業股份有限公司 HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.

Inventor： 陳杰良 CHEN, GA LANE

IPC: H05K

CPC classification number: C23C14/568 ,  C23C14/205

Abstract: 一種防電磁干擾遮蔽罩之製造方法，係採用磁控濺鍍工藝於基板上沉積導電膜層，其主要包括以下步驟：製備磁控濺鍍靶模組及待濺鍍基板，並將其安裝於濺鍍室內，其中該磁控濺鍍靶模組包括至少一個由被濺鍍材料製成之靶板；將濺鍍室抽真空至一定真空度；向濺鍍室以一定流速導入工作氣體至濺鍍室內達一定氣壓；藉由一電源給上述磁控濺鍍靶模組供給電壓而激發濺鍍過程，使所述靶板之組成微粒從靶板表面被濺射出來並沉積於基板表面形成導電膜層；當基板上所沉積之導電膜層達所需厚度時停止濺鍍過程，取出被濺鍍基板從而獲得防電磁干擾遮蔽罩。由本方法製造之防電磁干擾遮蔽罩表面導電鍍層均勻且與基體間附著牢固。

Abstract in simplified Chinese: 一种防电磁干扰屏蔽罩之制造方法，系采用磁控溅镀工艺于基板上沉积导电膜层，其主要包括以下步骤：制备磁控溅镀靶模块及待溅镀基板，并将其安装于溅镀室内，其中该磁控溅镀靶模块包括至少一个由被溅镀材料制成之靶板；将溅镀室抽真空至一定真空度；向溅镀室以一定流速导入工作气体至溅镀室内达一定气压；借由一电源给上述磁控溅镀靶模块供给电压而激发溅镀过程，使所述靶板之组成微粒从靶板表面被溅射出来并沉积于基板表面形成导电膜层；当基板上所沉积之导电膜层达所需厚度时停止溅镀过程，取出被溅镀基板从而获得防电磁干扰屏蔽罩。由本方法制造之防电磁干扰屏蔽罩表面导电镀层均匀且与基体间附着牢固。

公开(公告)号：TW200514070A

公开(公告)日：2005-04-16

申请号：TW093126086

申请日：2004-08-30

Applicant: 威廉斯先進材料公司 WILLIAMS ADVANCED MATERIALS, INC.

Inventor： 海納 利坦伯格 HEINER LICHTENBERGER

IPC: G11B

CPC classification number: C23C14/205 ,  C22C5/06 ,  C22C5/08 ,  G11B7/256 ,  G11B7/258 ,  G11B7/259

Abstract: 一種光學資料記錄和儲存媒體，包括一層薄的半反射層和一層高反射層，其中半反射層由銀合金所形成，該合金包括純銀及佔總重量約0.到1.0wt.％的錫，錫在半反射層中完全充分地沈積在銀微粒的邊界，此合金也可在未影響錫的功能情況下添加佔總重量約0.1到1.0wt.％的銅。

Abstract in simplified Chinese: 一种光学数据记录和存储媒体，包括一层薄的半反射层和一层高反射层，其中半反射层由银合金所形成，该合金包括纯银及占总重量约0.到1.0wt.％的锡，锡在半反射层中完全充分地沉积在银微粒的边界，此合金也可在未影响锡的功能情况下添加占总重量约0.1到1.0wt.％的铜。

公开(公告)号：TW200511303A

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：TW093123653

申请日：2004-08-06

Applicant: 松下電器產業股份有限公司 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

Inventor： 草田英夫 KUSADA, HIDEO ,  長田憲一 NAGATA, KENICHI ,  北浦英樹 KITAURA, HIDEKI ,  西內健一 NISHIUCHI, KENICHI ,  山田昇 YAMADA, NOBORU ,  兒島理惠 KOJIMA, RIE

IPC: G11B

CPC classification number: G11B7/266 ,  C23C14/08 ,  C23C14/205 ,  C23C14/542 ,  C23C14/568 ,  G11B7/24038

Abstract: 本發明係提供在對半透明資訊層進行高密度記錄時，訊號品質良好之光學資訊記錄媒體及其製造方法以及製造裝置。本發明之光學資訊記錄媒體係在圓盤狀之透明基板與保護基板之間，具有至少半透明之資訊層者，該資訊層具有光束導引用之螺旋狀溝，且含有記錄膜，該記錄膜藉由從前述透明基板側照射光束而在可進行光學檢測之至少2個狀態之間呈現變化，以進行資訊之記錄及再生，又，在進行記錄及再生之全領域中，前述溝之內周側及外周側之斜面部分之膜厚差在±10％以內。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供在对半透明信息层进行高密度记录时，信号品质良好之光学信息记录媒体及其制造方法以及制造设备。本发明之光学信息记录媒体系在圆盘状之透明基板与保护基板之间，具有至少半透明之信息层者，该信息层具有光束导引用之螺旋状沟，且含有记录膜，该记录膜借由从前述透明基板侧照射光束而在可进行光学检测之至少2个状态之间呈现变化，以进行信息之记录及再生，又，在进行记录及再生之全领域中，前述沟之内周侧及外周侧之斜面部分之膜厚差在±10％以内。

公开(公告)号：TW507012B

公开(公告)日：2002-10-21

申请号：TW089114441

申请日：2000-07-19

Applicant: 史帝諾斯機械水力研究中心

Inventor： 米契爾 馬丁 ,  佛萊德瑞克 法佛姜 ,  珍尼珂 摩露 ,  尚-馬可 波爾松 ,  尚-保羅 泰拉

IPC: C22C ,  G02B ,  C23C

CPC classification number: G02B5/0808 ,  C22C21/00 ,  C23C14/205 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  Y10S428/926 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本發明有關一種以鋁及鈦為主之微晶結構金屬合金。其鋁含量自80至90原子百分比，及其鈦含量自10至20原子百分比。該合金不在熱力平衡狀態中，及因此抗氧化及抗腐蝕，及同時具有黏合至聚合物材料之顯著能力。由一層上述金屬合金所組成之反射塗層，較佳為0.01至3μm厚，覆蓋保護膜，較佳為聚合物材料。具有鏡面反射率至少等於大約65%及良好抗腐蝕與抗氧化之特別的鏡子。鏡子包含基材，較佳為聚合物材料，支撐反射塗料。部件包括上述種類之鏡，例如汽車後視鏡。

Abstract in simplified Chinese: 本发明有关一种以铝及钛为主之微晶结构金属合金。其铝含量自80至90原子百分比，及其钛含量自10至20原子百分比。该合金不在热力平衡状态中，及因此抗氧化及抗腐蚀，及同时具有黏合至聚合物材料之显着能力。由一层上述金属合金所组成之反射涂层，较佳为0.01至3μm厚，覆盖保护膜，较佳为聚合物材料。具有镜面反射率至少等于大约65%及良好抗腐蚀与抗氧化之特别的镜子。镜子包含基材，较佳为聚合物材料，支撑反射涂料。部件包括上述种类之镜，例如汽车后视镜。