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    雷射投影方法
    81.
    发明专利
    雷射投影方法 审中-公开
    激光投影方法

    公开(公告)号：TW201316785A

    公开(公告)日：2013-04-16

    申请号：TW100136524

    申请日：2011-10-07

    申请人： 財團法人工業技術研究院 ,  INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE

    发明人： 謝瑞青 ,  HSIEH, JUI CHING ,  李耀輝 ,  LEE, YAO HUI ,  張平 ,  CHANG, PIN ,  王郁仁 ,  WANG, YU JEN

    IPC分类号： H04N9/31

    摘要： 一種雷射投影方法包括：判斷是否欲投影影像；若欲投影該影像，於影像輸出時間內根據影像資料投影出該影像；以及若不欲投影影像，於非影像輸出時間內驅動倍頻雷射以投影出與影像相鄰之邊框，非影像輸出時間相鄰影像輸出時間。

    简体摘要： 一种激光投影方法包括：判断是否欲投影影像；若欲投影该影像，于影像输出时间内根据影像数据投影出该影像；以及若不欲投影影像，于非影像输出时间内驱动倍频激光以投影出与影像相邻之边框，非影像输出时间相邻影像输出时间。

    投射型顯示裝置及其控制方法
    82.
    发明专利
    投射型顯示裝置及其控制方法 审中-公开
    投射型显示设备及其控制方法

    公开(公告)号：TW201310158A

    公开(公告)日：2013-03-01

    申请号：TW101129404

    申请日：2012-08-14

    申请人： 精工愛普生股份有限公司 ,  SEIKO EPSON CORPORATION

    发明人： 堀口宏貞 ,  HORIGUCHI, HIROSADA ,  吉元洋志 ,  YOSHIMOTO, HIROSHI ,  山田匡史 ,  YAMADA, TADASHI

    IPC分类号： G03B21/14 ,  H04N9/31

    CPC分类号： G03B21/2053 ,  G02B26/023 ,  G02B27/1026 ,  H04N9/3155 ,  H04N9/3182

    摘要： 本發明之課題在於改善燈調光之減光率之限度、色偏差、機械調光之熱負荷、色斑。投影儀100包括：光源10；液晶光閥30R、30G、30B；調光機構20；照明光學系統40；控制電路60，其基於輸入圖像信號，決定入射至液晶光閥之入射光量，輸出對應入射光量而經擴展之輸出圖像信號，並基於入射光量生成指定高壓水銀燈11之第1減光率之第1控制信號CTL1、及指定調光機構20之第2減光率的第2控制信號CTL2；照明驅動電路70，其基於第1控制信號CTL1驅動光源10；及遮光板驅動電路80，其基於第2控制信號CTL2而驅動遮光板21。

    简体摘要： 本发明之课题在于改善灯调光之减光率之限度、色偏差、机械调光之热负荷、色斑。投影仪100包括：光源10；液晶光阀30R、30G、30B；调光机构20；照明光学系统40；控制电路60，其基于输入图像信号，决定入射至液晶光阀之入射光量，输出对应入射光量而经扩展之输出图像信号，并基于入射光量生成指定高压水银灯11之第1减光率之第1控制信号CTL1、及指定调光机构20之第2减光率的第2控制信号CTL2；照明驱动电路70，其基于第1控制信号CTL1驱动光源10；及遮光板驱动电路80，其基于第2控制信号CTL2而驱动遮光板21。

    投影系統與其影像處理方法
    83.
    发明专利
    投影系統與其影像處理方法 审中-公开
    投影系统与其影像处理方法

    公开(公告)号：TW201305856A

    公开(公告)日：2013-02-01

    申请号：TW100126797

    申请日：2011-07-28

    申请人： 群豐科技股份有限公司 ,  APTOS TECHNOLOGY INC.

    发明人： 洪永慶 ,  HUNG, YUNG CHING ,  廖孟秋 ,  LIAO, MENG CHIOU

    IPC分类号： G06F3/033 ,  G06T7/00 ,  H04N9/31 ,  G06T11/80

    CPC分类号： G06F3/0416 ,  G06F3/0425 ,  H04N9/3179 ,  H04N9/3194

    摘要： 一種投影系統，包括投影模組、攝影模組及處理模組。投影模組投射第一影像至物體表面。攝影模組拍攝物體表面以擷取含有第一影像與指示點之第二影像，其中指示點是由外部裝置投射光線至物體表面而形成。處理模組分析第二影像以獲得指示點於第二影像之座標，進行直線逼近方法以獲得特徵點於第二影像之座標，使用雙維座標轉換公式將指示點於第二影像之座標轉換為指示點於第一影像之座標。

    简体摘要： 一种投影系统，包括投影模块、摄影模块及处理模块。投影模块投射第一影像至物体表面。摄影模块拍摄物体表面以截取含有第一影像与指示点之第二影像，其中指示点是由外部设备投射光线至物体表面而形成。处理模块分析第二影像以获得指示点于第二影像之座标，进行直线逼近方法以获得特征点于第二影像之座标，使用双维座标转换公式将指示点于第二影像之座标转换为指示点于第一影像之座标。

    顯示系統
    88.
    发明专利
    顯示系統 审中-公开
    显示系统

    公开(公告)号：TW201807692A

    公开(公告)日：2018-03-01

    申请号：TW106126046

    申请日：2017-08-02

    申请人： 深圳市光峰光電技術有限公司 ,  APPOTRONICS CORPORATION LIMITED

    发明人： 胡飛 ,  HU, FEI ,  郭祖強 ,  GUO, ZU-QIANG ,  米麟 ,  MI, LIN ,  李屹 ,  LI, YI

    IPC分类号： G09G3/34 ,  H04N9/31 ,  G03B21/14

    CPC分类号： G02B27/10 ,  G02B27/18 ,  G03B21/14

    摘要： 本發明公開了一種顯示系統，包括一光源，用以出射第一光；一勻光裝置，包括一光入射面，用以接收第一光，並使其均勻化；一光調製器，用以接收勻光裝置出射的至少部分光並根據圖像信號對入射於該光調製器的至少部分光進行調製，並出射調製光和非調製光；一光引導裝置，用以將光調製器出射的至少部分非調製光引導至勻光裝置的光入射面，使其經勻光裝置後進入光調製器。

    简体摘要： 本发明公开了一种显示系统，包括一光源，用以出射第一光；一匀光设备，包括一光入射面，用以接收第一光，并使其均匀化；一光调制器，用以接收匀光设备出射的至少部分光并根据图像信号对入射于该光调制器的至少部分光进行调制，并出射调制光和非调制光；一光引导设备，用以将光调制器出射的至少部分非调制光引导至匀光设备的光入射面，使其经匀光设备后进入光调制器。