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公开(公告)号：TW201233991A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW100148283
申请日：2011-12-23
申请人： 堀場製作所股份有限公司
摘要： 本發明提供一種光學分析裝置，藉由降低腐蝕性氣體對焦點位置修正用的基準修正構件的影響，在降低光學分析裝置的測量誤差的同時，解決伴隨更換基準修正構件所產生的各種問題。本發明的光學分析裝置包括基準修正構件(6)，該基準修正構件(6)能在位於聚光光學系統(3)和檢測光學系統(4)之間的光路(L)上的基準位置(R)、以及從該基準位置(R)退避開的退避位置(S)之間移動，使在基準位置(R)上通過的光的焦點位置與通過位於測量位置(P)上的測量單元(5)的光的焦點位置基本相同，基準修正構件(6)的在基準位置(R)上與光路(L)相交的外表面部分(6A)，由對腐蝕性氣體具有耐腐蝕性的材料構成。
简体摘要： 本发明提供一种光学分析设备，借由降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响，在降低光学分析设备的测量误差的同时，解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析设备包括基准修正构件(6)，该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动，使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同，基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路(L)相交的外表面部分(6A)，由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的材料构成。
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公开(公告)号：TW201118364A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：TW099139023
申请日：2010-11-12
申请人： 堀場製作所股份有限公司
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N21/21
摘要： 使用LED等鈉燈以外的光源的本發明的旋光計對溶液試料的旋光度進行測定，並根據旋光度的波長依存性，將所測定出的旋光度轉換成特定波長下的旋光度。而且，旋光計根據特定波長下的旋光度與溶液試料的溶質的濃度，來計算溶質的比旋光度。對因旋光計的不同所導致的旋光度的值的偏差進行修正，從而可實現測量出的比旋光度與由其他旋光計所測量的比旋光度的單純比較。尤其，藉由將特定波長設為鈉的Ｄ線，可對利用對光源使用鈉燈的旋光計而在過去測定的比旋光度與利用本發明的旋光計所測量的比旋光度進行單純比較。
简体摘要： 使用LED等钠灯以外的光源的本发明的旋光计对溶液试料的旋光度进行测定，并根据旋光度的波长依存性，将所测定出的旋光度转换成特定波长下的旋光度。而且，旋光计根据特定波长下的旋光度与溶液试料的溶质的浓度，来计算溶质的比旋光度。对因旋光计的不同所导致的旋光度的值的偏差进行修正，从而可实现测量出的比旋光度与由其他旋光计所测量的比旋光度的单纯比较。尤其，借由将特定波长设为钠的Ｄ线，可对利用对光源使用钠灯的旋光计而在过去测定的比旋光度与利用本发明的旋光计所测量的比旋光度进行单纯比较。
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公开(公告)号：TW201117914A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：TW099139026
申请日：2010-11-12
申请人： 堀場製作所股份有限公司
IPC分类号： B23Q
摘要： 一種可折疊的測定設備用台架，不僅組裝簡單，而且節省運送空間。該測定設備用台架包括：長條構件（3），使測定設備（MU）沿著長度方向移動；以及一對第一框體（4），分別設置於長條構件（3）的兩端部，且具有用以使長條構件（3）沿著與長度方向不同的方向移動的導軌（71），長條構件（3）的兩端部構成為沿著各自對應的第一框體（4）的導軌（71），向互不相同的方向移動，使第一框體（4）彼此的間隔擴大或縮小。
简体摘要： 一种可折叠的测定设备用台架，不仅组装简单，而且节省运送空间。该测定设备用台架包括：长条构件（3），使测定设备（MU）沿着长度方向移动；以及一对第一框体（4），分别设置于长条构件（3）的两端部，且具有用以使长条构件（3）沿着与长度方向不同的方向移动的导轨（71），长条构件（3）的两端部构成为沿着各自对应的第一框体（4）的导轨（71），向互不相同的方向移动，使第一框体（4）彼此的间隔扩大或缩小。
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公开(公告)号：TW200538715A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW093141341
申请日：2004-12-30
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N21/211 , G01N2021/213
摘要： 本發明的試片解析方法係對在基板上形成根據電氣測定的介電率在50以上之介電質膜的試片，利用橢圓儀施行測定，且根據近似有效媒介(EMA)製成配合試片的模型。在模型對應介電質膜的膜中，依60％以上且90％以下範圍存在空隙。將從模型所計算得計算值、與橢圓儀測定值進行比較，依此二者差值變小之方式施行擬合，而特定試片的膜厚與光學常數。
简体摘要： 本发明的试片解析方法系对在基板上形成根据电气测定的介电率在50以上之介电质膜的试片，利用椭圆仪施行测定，且根据近似有效媒介(EMA)制成配合试片的模型。在模型对应介电质膜的膜中，依60％以上且90％以下范围存在空隙。将从模型所计算得计算值、与椭圆仪测定值进行比较，依此二者差值变小之方式施行拟合，而特定试片的膜厚与光学常数。
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公开(公告)号：TW200530569A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW093140938
申请日：2004-12-28
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N21/211 , G01B11/0641 , G01J3/28 , G01N2021/213
摘要： 本發明的橢圓儀對試片的任一測定點，利用第1分光器與第2分光器施行測定。採用第1分光器的測定結果施行解析，且採用第2分光器的測定結果施行解析，並計算出第2分光器解析結果近似於第1分光器解析結果的近似式。對試片的其餘測定點利用第2分光器施行測定，並對採用此結果的解析結果，根據近似式進行補正。
简体摘要： 本发明的椭圆仪对试片的任一测定点，利用第1分光器与第2分光器施行测定。采用第1分光器的测定结果施行解析，且采用第2分光器的测定结果施行解析，并计算出第2分光器解析结果近似于第1分光器解析结果的近似式。对试片的其余测定点利用第2分光器施行测定，并对采用此结果的解析结果，根据近似式进行补正。
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公开(公告)号：TW181678U
公开(公告)日：1992-04-01
申请号：TW080213845
申请日：1991-03-22
申请人： 堀場製作所股份有限公司
发明人： 矢田隆章
IPC分类号： G01N
摘要： 本創作之測量離子濃度的裝置具有可置於衣服口袋中的大小。並且，一內含工作部份而外有顯示工作部份的本體被提供有一具可以處理平面式測量的防水結構化電極部份。而且，當該平面偵測器幾乎被水平地握持以便處理該平面測量時，有一間隙在該本體於該電極部份的背面與裝置被置放的表面之間形成。
简体摘要： 本创作之测量离子浓度的设备具有可置于衣服口袋中的大小。并且，一内含工作部份而外有显示工作部份的本体被提供有一具可以处理平面式测量的防水结构化电极部份。而且，当该平面侦测器几乎被水平地握持以便处理该平面测量时，有一间隙在该本体于该电极部份的背面与设备被置放的表面之间形成。
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公开(公告)号：TW172797B
公开(公告)日：1991-11-11
申请号：TW080105077
申请日：1991-06-29
申请人： 堀場製作所股份有限公司
发明人： 小島淳二
IPC分类号： G01N
摘要： 一層PET薄膜成層於具有一個內部電極之一PET基底上，該薄膜成形於基底除了該內部電極以外之表面上；提供一種膠凝內液，以便當該PET薄膜之表面形成一種底漆處理層時，該膠凝內液可與該內部電極接觸；一種對離子反應之玻璃經酸洗，可洗淨之少之鹼性金屬；藉著使用去式矽酮室溫硫化黏著劑，可以將該種對離子反應之玻璃黏附至該底漆處理層之表面、以覆蓋於膠凝內液，如此，可以獲得在耐久性上非常優越之高度可靠離子選擇性電極。
简体摘要： 一层PET薄膜成层于具有一个内部电极之一PET基底上，该薄膜成形于基底除了该内部电极以外之表面上；提供一种胶凝内液，以盒饭该PET薄膜之表面形成一种底漆处理层时，该胶凝内液可与该内部电极接触；一种对离子反应之玻璃经酸洗，可洗净之少之碱性金属；借着使用去式硅酮室温硫化黏着剂，可以将该种对离子反应之玻璃黏附至该底漆处理层之表面、以覆盖于胶凝内液，如此，可以获得在耐久性上非常优越之高度可靠离子选择性电极。
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