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    表面保護薄片用黏著劑組成物及表面保護薄片
    3.
    发明专利
    表面保護薄片用黏著劑組成物及表面保護薄片 审中-公开
    表面保护薄片用黏着剂组成物及表面保护薄片

    公开(公告)号：TW202026385A

    公开(公告)日：2020-07-16

    申请号：TW108134335

    申请日：2019-09-24

    申请人： 日商昭和電工股份有限公司 ,  SHOWA DENKO K. K.

    发明人： 池谷達宏 ,  IKEYA, TATSUHIRO ,  佐佐木一博 ,  SASAKI, KAZUHIRO ,  中西健一 ,  NAKANISHI, KENICHI

    IPC分类号： C09J175/08 ,  C09J175/16 ,  C09J7/30

    摘要： 本發明係提供除了霧度低，容易積層，容易剝離，可抑制剝離後之黏著劑殘留，切斷加工時不會產生龜裂之表面保護薄片用的表面保護薄片用黏著劑組成物。一種表面保護薄片用黏著劑組成物，其特徵係包含30~60質量%之聚胺基甲酸酯(A)、2~10質量%之多官能單體(B)及包含30~68質量%之可與聚胺基甲酸酯(A)及多官能單體(B)聚合的其他的單體(C)，其中相對於前述(A)~(C)之總量100質量份，包含0.1~5質量份之光聚合起始劑(D)的表面保護薄片用黏著劑組成物，前述聚胺基甲酸酯(A)具有包含來自聚氧伸烷基多元醇之結構及來自聚異氰酸酯之結構的骨架，且複數之末端具有(甲基)丙烯醯基之重量平均分子量為30,000~200,000。

    简体摘要： 本发明系提供除了雾度低，容易积层，容易剥离，可抑制剥离后之黏着剂残留，切断加工时不会产生龟裂之表面保护薄片用的表面保护薄片用黏着剂组成物。一种表面保护薄片用黏着剂组成物，其特征系包含30~60质量%之聚胺基甲酸酯(A)、2~10质量%之多官能单体(B)及包含30~68质量%之可与聚胺基甲酸酯(A)及多官能单体(B)聚合的其他的单体(C)，其中相对于前述(A)~(C)之总量100质量份，包含0.1~5质量份之光聚合起始剂(D)的表面保护薄片用黏着剂组成物，前述聚胺基甲酸酯(A)具有包含来自聚氧伸烷基多元醇之结构及来自聚异氰酸酯之结构的骨架，且复数之末端具有(甲基)丙烯酰基之重量平均分子量为30,000~200,000。

    Ｎ－乙烯基羧酸醯胺之製造方法
    4.
    发明专利
    Ｎ－乙烯基羧酸醯胺之製造方法 审中-公开
    Ｎ－乙烯基羧酸酰胺之制造方法

    公开(公告)号：TW202026277A

    公开(公告)日：2020-07-16

    申请号：TW108140913

    申请日：2019-11-12

    申请人： 日商昭和電工股份有限公司 ,  SHOWA DENKO K. K.

    发明人： 田中行 ,  TANAKA, NAOYUKI ,  加古敏弘 ,  KAKO, TOSHIHIRO ,  小林孝充 ,  KOBAYASHI, TAKAMITSU

    IPC分类号： C07C231/12 ,  C07C233/05

    摘要： 提供抑制熱分解反應器之凝集物導致的阻塞問題，可以長期間安定地連續運轉之N-乙烯基羧酸醯胺之製造方法。係包含：將N-(1-烷氧基乙基)羧酸醯胺作為原料供給至蒸發器之供給步驟S1，在蒸發器使原料蒸發，成為氣化原料的蒸發步驟S2，將氣化原料供給至熱分解反應器，進行熱分解的熱分解步驟S4之N-乙烯基羧酸醯胺之製造方法；蒸發步驟S2與熱分解步驟S4之間，進而包含把供給至蒸發器的原料中未氣化的液體原料及氣化原料的一部分液化而成的液體原料予以回收的回收步驟S3；回收步驟S3，係藉由蒸發器與熱分解反應器之間所具備的原料回收裝置，回收液體原料之步驟。

    简体摘要： 提供抑制热分解反应器之凝集物导致的阻塞问题，可以长期间安定地连续运转之N-乙烯基羧酸酰胺之制造方法。系包含：将N-(1-烷氧基乙基)羧酸酰胺作为原料供给至蒸发器之供给步骤S1，在蒸发器使原料蒸发，成为气化原料的蒸发步骤S2，将气化原料供给至热分解反应器，进行热分解的热分解步骤S4之N-乙烯基羧酸酰胺之制造方法；蒸发步骤S2与热分解步骤S4之间，进而包含把供给至蒸发器的原料中未气化的液体原料及气化原料的一部分液化而成的液体原料予以回收的回收步骤S3；回收步骤S3，系借由蒸发器与热分解反应器之间所具备的原料回收设备，回收液体原料之步骤。

    氟氣製造裝置
    8.
    发明专利
    氟氣製造裝置 审中-公开
    氟气制造设备

    公开(公告)号：TW202022163A

    公开(公告)日：2020-06-16

    申请号：TW108137432

    申请日：2019-10-17

    申请人： 日商昭和電工股份有限公司 ,  SHOWA DENKO K. K.

    发明人： 福地陽介 ,  FUKUCHI, YOHSUKE ,  楠元希 ,  KUSUMOTO, NOZOMI ,  小林浩 ,  KOBAYASHI, HIROSHI

    IPC分类号： C25B1/24 ,  C25B9/06 ,  C25B13/00

    摘要： 本發明提供即使以高電流密度進行含氟化氫電解液的電解時，也不容易產生在電解液中的再結合反應或在陽極室及陰極室的氣相部中的再結合反應，可以使電解液以高電流效率電解而製造氟氣之氟氣製造裝置。氟氣製造裝置，具備：電解槽(1)、由電解槽(1)內部的頂面往鉛直方向下方延伸而把電解槽(1)區劃為陽極室(12)與陰極室(14)的隔壁(7)、陽極(3)、與陰極(5)。隔壁(7)的下端浸漬於電解液(10)，隔壁(7)中浸漬於電解液(10)的部分的鉛直方向長度(H)，為電解槽(1)內部的底面起至電解液(10)的液面為止的距離之10%以上30%以下。陰極(5)全體浸漬於電解液(10)，陰極(5)的上端，被配置於比隔壁(7)的下端更靠鉛直方向下方位置。陽極(3)，係其一部分由電解液(10)的液面露出。

    简体摘要： 本发明提供即使以高电流密度进行含氟化氢电解液的电解时，也不容易产生在电解液中的再结合反应或在阳极室及阴极室的气相部中的再结合反应，可以使电解液以高电流效率电解而制造氟气之氟气制造设备。氟气制造设备，具备：电解槽(1)、由电解槽(1)内部的顶面往铅直方向下方延伸而把电解槽(1)区划为阳极室(12)与阴极室(14)的隔壁(7)、阳极(3)、与阴极(5)。隔壁(7)的下端浸渍于电解液(10)，隔壁(7)中浸渍于电解液(10)的部分的铅直方向长度(H)，为电解槽(1)内部的底面起至电解液(10)的液面为止的距离之10%以上30%以下。阴极(5)全体浸渍于电解液(10)，阴极(5)的上端，被配置于比隔壁(7)的下端更靠铅直方向下方位置。阳极(3)，系其一部分由电解液(10)的液面露出。