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公开(公告)号:TW201247307A
公开(公告)日:2012-12-01
申请号:TW101103111
申请日:2012-01-31
申请人: 三菱瓦斯化學股份有限公司
CPC分类号: C01B13/00 , A23L3/3436 , B01D53/02 , B01D2253/1122 , B01D2257/104 , B01J20/02 , B22F9/16 , B22F2009/043 , B22F2009/045 , B22F2999/00 , B65D81/18 , C01B13/0281 , C22C1/04 , C22C1/08 , C22C19/007 , C22C19/03 , C22C19/058 , C22C21/00 , C22C30/00 , C22C33/0228 , C22C38/00 , C22C38/06 , Y10T428/12479 , C23F1/00
摘要: 本發明係提供一種即使在無或幾乎無水分之環境下亦具有可吸收環境中之氧的能力之氧吸收劑。本發明之氧吸收劑,其係包含將含有成分(A)與成分(B)之合金供給至酸或鹼之水溶液處理,溶析去除前述成分(B)之至少一部分所得之金屬而成;前述成分(A)為選自由錳族、鐵族、鉑族及銅族所成群之至少一種之過渡金屬,前述成分(B)為選自由鋁、鋅、錫、鉛、鎂及矽所成群之至少一種之金屬。
简体摘要: 本发明系提供一种即使在无或几乎无水分之环境下亦具有可吸收环境中之氧的能力之氧吸收剂。本发明之氧吸收剂,其系包含将含有成分(A)与成分(B)之合金供给至酸或碱之水溶液处理,溶析去除前述成分(B)之至少一部分所得之金属而成;前述成分(A)为选自由锰族、铁族、铂族及铜族所成群之至少一种之过渡金属,前述成分(B)为选自由铝、锌、锡、铅、镁及硅所成群之至少一种之金属。
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2.自超高純度氣體除去金屬污染物的方法 REMOVAL OF METAL CONTAMINANTS FROM ULTRA-HIGH PURITY GASES 审中-公开
简体标题: 自超高纯度气体除去金属污染物的方法 REMOVAL OF METAL CONTAMINANTS FROM ULTRA-HIGH PURITY GASES公开(公告)号:TW200609031A
公开(公告)日:2006-03-16
申请号:TW094124495
申请日:2005-07-20
发明人: 小丹尼爾 阿爾發瑞茲 ALVAREZ JR., DANEIL , 托伊B 史寇吉斯 SCOGGINS, TROY B. , 川姆 杜安 努研 NGUYEN, TRAM DOAN , 大屋敷靖 OHYASHIKI, YASUSHI
IPC分类号: B01D
CPC分类号: C01B21/0411 , B01D53/02 , B01D2253/10 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2257/60 , B01D2258/0216 , C01B3/56 , C01B6/34 , C01B7/0718 , C01B7/0743 , C01B7/093 , C01B7/096 , C01B7/197 , C01B7/20 , C01B13/00 , C01B13/0244 , C01B21/0427 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B2203/042 , C01B2203/0465 , C01B2210/0031 , C01B2210/0034 , C01B2210/0043
摘要: 本發明為使用含高表面積無機氧化物的淨化器材料自超高純度氣體除去金屬化合物,以使金屬不會沈積在敏感性裝置上及造成裝置故障的方法及裝置。
简体摘要: 本发明为使用含高表面积无机氧化物的净化器材料自超高纯度气体除去金属化合物,以使金属不会沉积在敏感性设备上及造成设备故障的方法及设备。
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公开(公告)号:TW201700632A
公开(公告)日:2017-01-01
申请号:TW105111038
申请日:2016-04-08
发明人: 席特福 迪恩 , THETFORD, DEAN , 庫貝克 艾略特 , COULBECK, ELLIOT
IPC分类号: C09C1/00 , C09C3/04 , C09C3/10 , C09D11/322 , C09D11/326 , C03C17/23 , C04B41/87
CPC分类号: C09B67/009 , C01B13/00 , C08L33/04 , C08L33/18 , C08L33/24 , C09C1/0081 , C09D11/10 , C09D11/326
摘要: 本發明提供一種分散在非水性媒質中之無機混合金屬氧化物顏料組成物,其使用一具有終端末端基團及結構-[CH(A)-C(B)(D)]n-[CR2CR2]m-的中心部分之分散劑將該混合金屬氧化物顏料分散在該媒質中。該金屬氧化物顏料係使用來著色陶瓷或玻璃物件之型式。亦描述出一種使用小珠將該混合金屬氧化物顆粒尺寸減低至想要的範圍之研磨方法。亦描述出一種使用該混合金屬氧化物分散液,使用經由噴嘴噴射出該分散液將一影像數位印刷在陶瓷或玻璃物件上及隨後燒製該經著色的物件之方法。
简体摘要: 本发明提供一种分散在非水性媒质中之无机混合金属氧化物颜料组成物,其使用一具有终端末端基团及结构-[CH(A)-C(B)(D)]n-[CR2CR2]m-的中心部分之分散剂将该混合金属氧化物颜料分散在该媒质中。该金属氧化物颜料系使用来着色陶瓷或玻璃对象之型式。亦描述出一种使用小珠将该混合金属氧化物颗粒尺寸减低至想要的范围之研磨方法。亦描述出一种使用该混合金属氧化物分散液,使用经由喷嘴喷射出该分散液将一影像数字印刷在陶瓷或玻璃对象上及随后烧制该经着色的对象之方法。
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公开(公告)号:TW495879B
公开(公告)日:2002-07-21
申请号:TW090110438
申请日:2001-05-01
申请人: 東京威力科創股份有限公司
IPC分类号: H01L
CPC分类号: H01L21/02238 , C01B13/00 , C01B13/02 , H01L21/02255 , H01L21/31662
摘要: 一種氧化方法,產生活性羥基與活生氧類,以使氧化被在一處理容器內的一真空大氣中以一預定溫度加熱之工件的表面。活性羥基與活性氧類氧化在一處理容器中之工件的表面。可改良氧化物薄膜之特徵與內膜厚度均勻性二者,且維持氧化率在一相當高水平上。
简体摘要: 一种氧化方法,产生活性羟基与活生氧类,以使氧化被在一处理容器内的一真空大气中以一预定温度加热之工件的表面。活性羟基与活性氧类氧化在一处理容器中之工件的表面。可改良氧化物薄膜之特征与内膜厚度均匀性二者,且维持氧化率在一相当高水平上。
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公开(公告)号:TWI449567B
公开(公告)日:2014-08-21
申请号:TW101103111
申请日:2012-01-31
发明人: 下田繪美 , SHIMODA, EMI , 姬島智晴 , HIMESHIMA, TOMOHARU , 岩井辰雄 , IWAI, TATSUO
CPC分类号: C01B13/00 , A23L3/3436 , B01D53/02 , B01D2253/1122 , B01D2257/104 , B01J20/02 , B22F9/16 , B22F2009/043 , B22F2009/045 , B22F2999/00 , B65D81/18 , C01B13/0281 , C22C1/04 , C22C1/08 , C22C19/007 , C22C19/03 , C22C19/058 , C22C21/00 , C22C30/00 , C22C33/0228 , C22C38/00 , C22C38/06 , Y10T428/12479 , C23F1/00
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6.用以產生自由基與氧化劑的電容裝置及方法 CAPACITOR DEVICE AND METHOD FOR GENERATING RADICALS AND OXIDANTS 审中-公开
简体标题: 用以产生自由基与氧化剂的电容设备及方法 CAPACITOR DEVICE AND METHOD FOR GENERATING RADICALS AND OXIDANTS公开(公告)号:TW200736159A
公开(公告)日:2007-10-01
申请号:TW095142614
申请日:2006-11-17
申请人: 迪亨丹尼爾 DEHNE, DANIEL
发明人: 迪亨丹尼爾 DEHNE, DANIEL
摘要: 本發明係有關於一種透過非熱電漿-化學轉換以於含氧氣體中產生自由基與氧化劑的電容裝置,該電容裝置包含:一結構堅固且接地的外部電極(1)、一內部電極(4)、一分隔該些電極(1)與(4)的介電阻障層(2)以及一將該內部電極(4)連接至一能源供給的連接電極,其中,該內部電極(4)由一組導電纖維所構成,以及其係均勻地分佈於整個介電阻障層(2)上。再者,本發明提供一種透過非熱電漿-化學轉換方式在含氧氣體中產生自由基與氧化劑的方法,該方法包含:施加一平穩高頻的交流電壓至本發明之電容裝置的電極(1)與(4)。
简体摘要: 本发明系有关于一种透过非热等离子-化学转换以于含氧气体中产生自由基与氧化剂的电容设备,该电容设备包含:一结构坚固且接地的外部电极(1)、一内部电极(4)、一分隔该些电极(1)与(4)的介电阻障层(2)以及一将该内部电极(4)连接至一能源供给的连接电极,其中,该内部电极(4)由一组导电纤维所构成,以及其系均匀地分布于整个介电阻障层(2)上。再者,本发明提供一种透过非热等离子-化学转换方式在含氧气体中产生自由基与氧化剂的方法,该方法包含:施加一平稳高频的交流电压至本发明之电容设备的电极(1)与(4)。
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