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    微影裝置
    3.
    发明专利
    微影裝置 审中-公开
    微影设备

    公开(公告)号：TW201800875A

    公开(公告)日：2018-01-01

    申请号：TW106117086

    申请日：2017-05-24

    申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

    发明人： 巴特勒 漢司 ,  BUTLER, HANS ,  凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  迪 威特 保羅 寇尼 亨利 ,  DE WIT, PAUL CORNE HENRI

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/44

    CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70808

    摘要： 本發明提供一種微影裝置，其包含一基板台、一投影系統、一編碼器系統、一量測框架及一量測系統。該基板台具有用於固持一基板之一固持表面。該投影系統係用於將一影像投影於該基板上。該編碼器系統係用於提供表示該基板台之一位置之一信號。該量測系統係用於量測該微影裝置之一性質。該固持表面係沿著一平面。該投影系統處於該平面之一第一側處。該量測框架經配置以支撐在不同於該第一側的該平面之一第二側處的該編碼器系統之至少部分及該量測系統之至少部分。

    简体摘要： 本发明提供一种微影设备，其包含一基板台、一投影系统、一编码器系统、一量测框架及一量测系统。该基板台具有用于固持一基板之一固持表面。该投影系统系用于将一影像投影于该基板上。该编码器系统系用于提供表示该基板台之一位置之一信号。该量测系统系用于量测该微影设备之一性质。该固持表面系沿着一平面。该投影系统处于该平面之一第一侧处。该量测框架经配置以支撑在不同于该第一侧的该平面之一第二侧处的该编码器系统之至少部分及该量测系统之至少部分。

    曝光裝置及裝置製造方法
    6.
    发明专利
    曝光裝置及裝置製造方法 审中-公开
    曝光设备及设备制造方法

    公开(公告)号：TW201734671A

    公开(公告)日：2017-10-01

    申请号：TW106119230

    申请日：2010-06-21

    申请人： 尼康股份有限公司 ,  NIKON CORPORATION

    发明人： 一之瀨剛 ,  ICHINOSE, GO

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/7085

    摘要： 本發明係使用配置於平台(14A、14B)下方之計測桿(71)具有的藉由複數個編碼器頭、Z頭等，而配置於微動載台(WFS1,WFS2)下面之光柵，在投影光學系統(PL)之正下方及主要對準系統(AL1)之正下方，分別計測曝光中及對準中之晶圓載台(WST1,WST2)的各個位置資訊。由於將支撐投影光學系統(PL)之主框架(BD)與計測桿(71)分離，因此與兩者係一體時不同，不致發生因內部應力(亦包含熱應力)造成計測桿之變形，及振動從主框架傳達至計測桿等。因此可精確計測晶圓載台之位置資訊。

    简体摘要： 本发明系使用配置于平台(14A、14B)下方之计测杆(71)具有的借由复数个编码器头、Z头等，而配置于微动载台(WFS1,WFS2)下面之光栅，在投影光学系统(PL)之正下方及主要对准系统(AL1)之正下方，分别计测曝光中及对准中之晶圆载台(WST1,WST2)的各个位置信息。由于将支撑投影光学系统(PL)之主框架(BD)与计测杆(71)分离，因此与两者系一体时不同，不致发生因内部应力(亦包含热应力)造成计测杆之变形，及振动从主框架传达至计测杆等。因此可精确计测晶圆载台之位置信息。