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    電磁鐵支架、電磁鐵裝置及粒子線治療裝置
    5.
    发明专利
    電磁鐵支架、電磁鐵裝置及粒子線治療裝置 审中-公开
    电磁铁支架、电磁铁设备及粒子线治疗设备

    公开(公告)号：TW201711532A

    公开(公告)日：2017-03-16

    申请号：TW105101215

    申请日：2016-01-15

    申请人： 三菱電機股份有限公司 ,  MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION

    发明人： 井上光 ,  INOUE, HIROMITSU ,  小畑順 ,  OBATA, JUN

    IPC分类号： H05H7/04 ,  A61N5/10

    CPC分类号： H01J3/38 ,  A61N5/1077 ,  G21K5/04 ,  H01F7/06 ,  H05H7/04 ,  H05H13/04

    摘要： 本發明之目的係提供一種電磁鐵支架，係在配置有電磁鐵的設備室當中，能減少電磁鐵之電源電纜配置空間。 電磁鐵支架(1)之特徵在於具備：頂板(11)，係支持電磁鐵(2a)；複數個腳(13)，係支持頂板(11)；以及電纜配置構件(12)，係固定於複數個腳(13)，並且配置於頂板(11)的下側；其中，用以將電磁鐵(2a)的電源電纜(4)沿著荷電粒子射束(51)的行進方向延伸而配置之電纜配置部(16)係形成於電纜配置構件(12)和頂板(11)之間，電纜配置部(16)之與荷電粒子射束(51)的行進方向垂直的方向的長度之電纜配置寬度(寬度方向腳間長度(L1))，係較電磁鐵(2a)之與荷電粒子射束(51)的行進方向垂直的方向的寬度(Mw)為更長。

    简体摘要： 本发明之目的系提供一种电磁铁支架，系在配置有电磁铁的设备室当中，能减少电磁铁之电源电缆配置空间。 电磁铁支架(1)之特征在于具备：顶板(11)，系支持电磁铁(2a)；复数个脚(13)，系支持顶板(11)；以及电缆配置构件(12)，系固定于复数个脚(13)，并且配置于顶板(11)的下侧；其中，用以将电磁铁(2a)的电源电缆(4)沿着荷电粒子射束(51)的行进方向延伸而配置之电缆配置部(16)系形成于电缆配置构件(12)和顶板(11)之间，电缆配置部(16)之与荷电粒子射束(51)的行进方向垂直的方向的长度之电缆配置宽度(宽度方向脚间长度(L1))，系较电磁铁(2a)之与荷电粒子射束(51)的行进方向垂直的方向的宽度(Mw)为更长。

    離子照射裝置、離子照射方法
    7.
    发明专利
    離子照射裝置、離子照射方法 审中-公开
    离子照射设备、离子照射方法

    公开(公告)号：TW201546863A

    公开(公告)日：2015-12-16

    申请号：TW104107230

    申请日：2015-03-06

    申请人： 愛發科股份有限公司 ,  ULVAC, INC.

    发明人： 湯瀬巳 ,  YUZE, TAKUMI ,  寺澤寿浩 ,  TERASAWA, TOSHIHIRO

    IPC分类号： H01J37/30 ,  H01J37/04

    CPC分类号： H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/028 ,  H05H1/16 ,  H05H7/04

    摘要： 將從離子源而射入至離子加速裝置(16)中並在離子加速管(24)內飛行的正離子，藉由配置在離子加速管(24)之內部的複數之加速電極(2a)~(2h)來加速，並照射至照射對象物。在離子加速管(24)內，係配置複數之磁石裝置(5)，使各磁石裝置(5)所分別形成的磁力線之方向，在相鄰接之磁石裝置(5)之間而以較0度更大並且為90度以下的角度而有所相異，並使各磁力線在離子加速管(24)內而朝向一方向旋轉。使在離子加速管(24)內而逆向前進的電子與磁力線相互交叉，而使電子一面逆向前進一面增加電子與飛行軸之間的距離。電子，由於係與離子加速管(24)內之構件相碰撞，並在成為高能量之前而停止，因此係並不會產生高能量X線。

    简体摘要： 将从离子源而射入至离子加速设备(16)中并在离子加速管(24)内飞行的正离子，借由配置在离子加速管(24)之内部的复数之加速电极(2a)~(2h)来加速，并照射至照射对象物。在离子加速管(24)内，系配置复数之磁石设备(5)，使各磁石设备(5)所分别形成的磁力线之方向，在相邻接之磁石设备(5)之间而以较0度更大并且为90度以下的角度而有所相异，并使各磁力线在离子加速管(24)内而朝向一方向旋转。使在离子加速管(24)内而逆向前进的电子与磁力线相互交叉，而使电子一面逆向前进一面增加电子与飞行轴之间的距离。电子，由于系与离子加速管(24)内之构件相碰撞，并在成为高能量之前而停止，因此系并不会产生高能量X线。

    粒子射線治療裝置
    8.
    发明专利
    粒子射線治療裝置 审中-公开
    粒子射线治疗设备

    公开(公告)号：TW201433330A

    公开(公告)日：2014-09-01

    申请号：TW102116849

    申请日：2013-05-13

    申请人： 三菱電機股份有限公司 ,  MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION

    发明人： 小田原周平 ,  ODAWARA, SHUHEI ,  原田久 ,  HARADA, HISASHI ,  池田昌廣 ,  IKEDA, MASAHIRO ,  菅原賢悟 ,  SUGAHARA, KENGO

    IPC分类号： A61N5/10

    CPC分类号： A61N5/1081 ,  A61N2005/1087 ,  H05H7/04 ,  H05H2007/008 ,  H05H2007/046 ,  H05H2007/048

    摘要： 一種粒子射線治療裝置，係具有以使照射裝置(4)在旋轉軸(XR)的周圍旋轉，而對照射對象照射粒子射線(B)之方式構成之旋轉支架(10)者，其特徵在於：在旋轉支架(10)設置有：偏向電磁鐵(1)，該偏向電磁鐵係具有用以將沿著旋轉軸(XR)所供給之粒子射線(B)予以偏向而引導至照射裝置(4)之偏向路徑(1c)，以及可與偏向路徑(1c)自由切換之用以使所供給之粒子射線(B)直線前進之直線前進路徑(1s)；且包括：軌道修正裝置(5、6)，係具有隔著偏向電磁鐵(1)而配置於旋轉軸(XR)方向的兩側之二個位置感測器(5)。

    简体摘要： 一种粒子射线治疗设备，系具有以使照射设备(4)在旋转轴(XR)的周围旋转，而对照射对象照射粒子射线(B)之方式构成之旋转支架(10)者，其特征在于：在旋转支架(10)设置有：偏向电磁铁(1)，该偏向电磁铁系具有用以将沿着旋转轴(XR)所供给之粒子射线(B)予以偏向而引导至照射设备(4)之偏向路径(1c)，以及可与偏向路径(1c)自由切换之用以使所供给之粒子射线(B)直线前进之直线前进路径(1s)；且包括：轨道修正设备(5、6)，系具有隔着偏向电磁铁(1)而配置于旋转轴(XR)方向的两侧之二个位置传感器(5)。

    用於一大面積感應電漿源之方法及裝置
    9.
    发明专利
    用於一大面積感應電漿源之方法及裝置 审中-公开
    用于一大面积感应等离子源之方法及设备

    公开(公告)号：TW201415524A

    公开(公告)日：2014-04-16

    申请号：TW102130931

    申请日：2013-08-28

    申请人： MKS儀器公司 ,  MKS INSTRUMENTS, INC.

    发明人： 陳新 ,  CHEN, XING

    IPC分类号： H01J37/32 ,  H05H1/46

    CPC分类号： H05H7/04 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H05H1/24

    摘要： 本發明提供一種用於將解離氣體提供至半導體處理室之電漿源。電漿室可具有至少一個氣體入口及用於圍阻該氣體之至少一個室壁，複數個磁芯相對於該電漿室安置以使得該電漿室通過該複數個磁芯中之每一者。一初級繞組可耦合至該複數個磁芯。該電漿室可沿著一平面產生一環形電漿，該平面延伸穿過該電漿室且其至少實質上平行於安置於該半導體處理室內之一樣本固持器之一頂部表面。

    简体摘要： 本发明提供一种用于将解离气体提供至半导体处理室之等离子源。等离子室可具有至少一个气体入口及用于围阻该气体之至少一个室壁，复数个磁芯相对于该等离子室安置以使得该等离子室通过该复数个磁芯中之每一者。一初级绕组可耦合至该复数个磁芯。该等离子室可沿着一平面产生一环形等离子，该平面延伸穿过该等离子室且其至少实质上平行于安置于该半导体处理室内之一样本固持器之一顶部表面。

    中隔電磁石及粒子束治療裝置
    10.
    发明专利
    中隔電磁石及粒子束治療裝置 审中-公开
    中隔电磁石及粒子束治疗设备

    公开(公告)号：TW201332603A

    公开(公告)日：2013-08-16

    申请号：TW101125026

    申请日：2012-07-12

    申请人： 三菱電機股份有限公司 ,  MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION

    发明人： 菅原賢悟 ,  SUGAHARA, KENGO ,  吉田克久 ,  YOSHIDA, KATSUHISA ,  大谷利宏 ,  OTANI, TOSHIHIRO ,  益野真一 ,  MASUNO, SHINICHI ,  加島文彥 ,  KASHIMA, FUMIHIKO

    IPC分类号： A61N2/12

    CPC分类号： H05H7/04 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087 ,  H05H7/08 ,  H05H7/10 ,  H05H2007/046 ,  H05H2007/087

    摘要： 本發明之中隔電磁石，係具備：軛鐵(1)，形成弧狀，且具有開口於外周側並延伸於圓周方向的空隙部(1s)，以能夠在軸向之大致中央部進行分割的方式所構成；中隔線圈(3)，設置於空隙部(1s)內之徑向的外側，並供電流朝向圓周方向之一方向流動；返回線圈(4)，以與中隔線圈(3)隔出預定之間隔而對向的方式設置在空隙部(1s)內之徑向的內側，並供與中隔線圈(3)的電流呈逆向之電流流動；以及真空導管(2)，設置在中隔線圈(3)與返回線圈(4)之間，中隔線圈(3)係形成為：對應軛鐵(1)之分割而能夠分離成第1部分(3u)和第2部分(3d)，並且在中隔線圈(3)與真空導管(2)之間設置有輔助線圈(5)，該輔助線圈(5)係在對應於中隔線圈(3)之第1部分(3u)和第2部分(3d)的部分(5u、5d)流動在圓周方向中彼此逆向之電流。

    简体摘要： 本发明之中隔电磁石，系具备：轭铁(1)，形成弧状，且具有开口于外周侧并延伸于圆周方向的空隙部(1s)，以能够在轴向之大致中央部进行分割的方式所构成；中隔线圈(3)，设置于空隙部(1s)内之径向的外侧，并供电流朝向圆周方向之一方向流动；返回线圈(4)，以与中隔线圈(3)隔出预定之间隔而对向的方式设置在空隙部(1s)内之径向的内侧，并供与中隔线圈(3)的电流呈逆向之电流流动；以及真空导管(2)，设置在中隔线圈(3)与返回线圈(4)之间，中隔线圈(3)系形成为：对应轭铁(1)之分割而能够分离成第1部分(3u)和第2部分(3d)，并且在中隔线圈(3)与真空导管(2)之间设置有辅助线圈(5)，该辅助线圈(5)系在对应于中隔线圈(3)之第1部分(3u)和第2部分(3d)的部分(5u、5d)流动在圆周方向中彼此逆向之电流。