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公开(公告)号:TWI534119B
公开(公告)日:2016-05-21
申请号:TW102114511
申请日:2013-04-24
发明人: 伊藤陽一 , ITO, YOICHI , 辻正樹 , TSUJI, MASAKI , 土佐晃文 , TOSA, AKIFUMI , 澤村武憲 , SAWAMURA, TAKENORI
IPC分类号: C04B35/10 , H01L21/683
CPC分类号: H01B1/08 , C04B35/111 , C04B35/6455 , C04B2235/85 , H01L21/67069 , H01L21/6833 , Y10T279/23
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公开(公告)号:TWI493650B
公开(公告)日:2015-07-21
申请号:TW099102138
申请日:2010-01-26
申请人: 蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人: 郝芳莉 , HAO, FANGLI
IPC分类号: H01L21/683
CPC分类号: H01L21/6831 , C23C16/458 , C23C16/4583 , H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/68742 , Y10T279/23 , Y10T279/34
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公开(公告)号:TWI474434B
公开(公告)日:2015-02-21
申请号:TW099110519
申请日:2010-04-06
申请人: 日本碍子股份有限公司 , NGK INSULATORS, LTD.
发明人: 中村圭一 , NAKAMURA, KEIICHI , 田中俊介 , TANAKA, SHUNSUKE
IPC分类号: H01L21/683
CPC分类号: H01L21/6833 , Y10T279/23 , Y10T428/30
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公开(公告)号:TWI474433B
公开(公告)日:2015-02-21
申请号:TW098124158
申请日:2009-07-16
发明人: 陳仲瑋 , CHEN, ZHONG-WEI , 王義向 , WANG, YI-XIANG , 竇菊英 , DOU, JUYING
IPC分类号: H01L21/683
CPC分类号: H01J37/026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/0044 , H01J2237/2817 , Y10T279/17923 , Y10T279/23
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公开(公告)号:TWI469248B
公开(公告)日:2015-01-11
申请号:TW098129952
申请日:2009-09-04
发明人: 希拉哈拉羅伯T , HIRAHARA, ROBERT T. , 帕克維傑D , PARKHE, VIJAY D.
IPC分类号: H01L21/683
CPC分类号: H01L21/6875 , H01L21/6831 , Y10T29/49002 , Y10T279/23
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公开(公告)号:TWI450357B
公开(公告)日:2014-08-21
申请号:TW098104244
申请日:2009-02-10
发明人: 巴特那格亞旭斯 , BHATNAGAR, ASHISH
IPC分类号: H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号: H01L21/6833 , B29C66/71 , B29K2071/00 , B29K2077/00 , B29K2101/12 , B29K2995/0006 , B29K2995/001 , C23C14/505 , C23C16/4584 , H01L21/67017 , H01L21/67103 , H01L21/6831 , Y10T156/10 , Y10T279/23
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公开(公告)号:TW201426904A
公开(公告)日:2014-07-01
申请号:TW102145645
申请日:2013-12-11
IPC分类号: H01L21/687
CPC分类号: H01L21/67109 , H01J37/32715 , H01L21/6831 , Y10T156/10 , Y10T279/23
摘要: 基板支撐組件包含陶瓷主體及接合至陶瓷主體之下表面之導熱基底。基板支撐組件進一步包含金屬接合至陶瓷主體之上表面之保護層,其中保護層為整體燒結陶瓷製品。
简体摘要: 基板支撑组件包含陶瓷主体及接合至陶瓷主体之下表面之导热基底。基板支撑组件进一步包含金属接合至陶瓷主体之上表面之保护层,其中保护层为整体烧结陶瓷制品。
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公开(公告)号:TWI431681B
公开(公告)日:2014-03-21
申请号:TW096116871
申请日:2007-05-11
申请人: 愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人: 曾我部浩二 , SAGABE, KOUJI , 森本直樹 , MORIMOTO, NAOKI , 石田正彥 , ISHIDA, MASAHIKO
IPC分类号: H01L21/306 , B08B6/00 , H01L21/205
CPC分类号: C23C16/4586 , C23C16/4405 , H01J37/32862 , Y10T279/23
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公开(公告)号:TW201409602A
公开(公告)日:2014-03-01
申请号:TW101142010
申请日:2012-11-12
发明人: 鄭添誌 , CHENG, TIEN CHIH , 張郢 , ZHANG, YING , 孫書輝 , SUEN, SHU HUEI , 高晨喬 , KAO, CHEN CHIAO
IPC分类号: H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号: H01L21/6875 , B05B13/02 , B05B15/00 , B24B7/228 , H01L21/6833 , H01L21/68757 , Y10T279/23
摘要: 本案係提供一種晶圓承載裝置。該晶圓承載裝置包括多個承載部;以及位在這些承載部之間的底部區域,其中該底部區域具有保護層形成於其上。本案亦提供一種用於處理晶圓承載裝置的工作表面的方法。
简体摘要: 本案系提供一种晶圆承载设备。该晶圆承载设备包括多个承载部;以及位在这些承载部之间的底部区域,其中该底部区域具有保护层形成于其上。本案亦提供一种用于处理晶圆承载设备的工作表面的方法。
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公开(公告)号:TWI410305B
公开(公告)日:2013-10-01
申请号:TW100122999
申请日:2011-06-30
申请人: 陳柏伸 , CHEN, BO SHEN
发明人: 陳柏伸 , CHEN, BO SHEN
IPC分类号: B25B23/12
CPC分类号: B25B23/0035 , B23B31/003 , B23B31/22 , B23B31/28 , B25B15/001 , Y10S279/905 , Y10S279/906 , Y10T279/17196 , Y10T279/17752 , Y10T279/17811 , Y10T279/23 , Y10T279/3406 , Y10T279/3481
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