光學元件之製造裝置及製造方法、控制程式、及記錄媒體
    6.
    发明专利
    光學元件之製造裝置及製造方法、控制程式、及記錄媒體 审中-公开
    光学组件之制造设备及制造方法、控制进程、及记录媒体

    公开(公告)号:TW201328857A

    公开(公告)日:2013-07-16

    申请号:TW101135657

    申请日:2012-09-27

    IPC分类号: B29D11/00 B29C39/02 B29L11/00

    摘要: 本發明係在於成形模(10、11)之間夾持樹脂而製造光學元件時,於使成形模(11)與上述樹脂接觸之狀態下,使上述樹脂硬化直到上述樹脂之溫度到達凝膠化點。其間,一面以藉由測力計(16)監視作用於成形模(11)之壓力,並於檢測出該壓力成為負壓之時間點,使作用於成形模(11)之壓力增加至特定之正壓為止,其後維持上述正壓之方式控制成形模(11)之位置,一面使上述樹脂硬化。

    简体摘要: 本发明系在于成形模(10、11)之间夹持树脂而制造光学组件时,于使成形模(11)与上述树脂接触之状态下,使上述树脂硬化直到上述树脂之温度到达凝胶化点。其间,一面以借由测力计(16)监视作用于成形模(11)之压力,并于检测出该压力成为负压之时间点,使作用于成形模(11)之压力增加至特定之正压为止,其后维持上述正压之方式控制成形模(11)之位置,一面使上述树脂硬化。

    聚醯亞胺膜及其製備方法
    10.
    发明专利
    聚醯亞胺膜及其製備方法 审中-公开
    聚酰亚胺膜及其制备方法

    公开(公告)号:TW201836808A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:TW107104344

    申请日:2018-02-07

    摘要: 實施例能夠提供一種用於製備聚醯亞胺膜之方法,其包含研磨一鑄體之表面;在該鑄體之經研磨的表面上澆鑄一前趨物,及乾燥該澆鑄前趨物以產生一凝膠片;及熱處理該凝膠片,製得一聚醯亞胺膜,其中該鑄體之經研磨的表面具有0.1nm至160nm之粗糙度;當將其上澆鑄該前趨物之該鑄體之面積分割成1cm×1cm時,落在一缺陷減少區下之面積為90%或更大,該缺陷減少區意指符合下列條件之區:在1cm×1cm之分割面積中,分別具有0.3μm至3μm之寬度、0.5μm至5μm之深度及2μm至小於3μm、3μm至小於5μm、5μm至小於10μm及10μm或更長之長度之一第一溝槽、一第二溝槽、一第三溝槽及一第四溝槽之數目,分別為10或更少、5或更少、3或更少及0;及該聚醯亞胺膜具有3或更低之黃色指數、1% 或更小之霧度、88%或更高之透射率、5.0GPa或更大之模量及HB或更高之表面硬度。

    简体摘要: 实施例能够提供一种用于制备聚酰亚胺膜之方法,其包含研磨一铸体之表面;在该铸体之经研磨的表面上浇铸一前趋物,及干燥该浇铸前趋物以产生一凝胶片;及热处理该凝胶片,制得一聚酰亚胺膜,其中该铸体之经研磨的表面具有0.1nm至160nm之粗糙度;当将其上浇铸该前趋物之该铸体之面积分割成1cm×1cm时,落在一缺陷减少区下之面积为90%或更大,该缺陷减少区意指符合下列条件之区:在1cm×1cm之分割面积中,分别具有0.3μm至3μm之宽度、0.5μm至5μm之深度及2μm至小于3μm、3μm至小于5μm、5μm至小于10μm及10μm或更长之长度之一第一沟槽、一第二沟槽、一第三沟槽及一第四沟槽之数目,分别为10或更少、5或更少、3或更少及0;及该聚酰亚胺膜具有3或更低之黄色指数、1% 或更小之雾度、88%或更高之透射率、5.0GPa或更大之模量及HB或更高之表面硬度。