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公开(公告)号:TWI687531B
公开(公告)日:2020-03-11
申请号:TW108108076
申请日:2018-01-26
申请人: 謝孟修 , HSIEH, MENG-HSIU
发明人: 謝孟修 , HSIEH, MENG-HSIU
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公开(公告)号:TW201741502A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:TW106115814
申请日:2017-05-12
申请人: 杰富意鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION
发明人: 水谷映斗 , MIZUTANI, AKITO , 藤澤光幸 , FUJISAWA, MITSUYUKI
摘要: 一種肥粒鐵系不銹鋼板,其成分組成設為:以質量%計含有C:0.025%以下、Si:0.01~2.0%、Mn:0.01~1.0%、P:0.050%以下、S:0.010%以下、Cr:10.5~20.0%、Al:0.01~0.50%、Ni:0.01~0.60%、Ti:0.10~0.50%及N:0.025%以下,剩餘部分包含Fe及不可避免之雜質;並且於單面或兩面設置有選自Al、Fe或Si之塗覆層中之至少1種塗覆層,將每一單面之塗覆層之合計厚度設為30nm~150nm。
简体摘要: 一种肥粒铁系不锈钢板,其成分组成设为:以质量%计含有C:0.025%以下、Si:0.01~2.0%、Mn:0.01~1.0%、P:0.050%以下、S:0.010%以下、Cr:10.5~20.0%、Al:0.01~0.50%、Ni:0.01~0.60%、Ti:0.10~0.50%及N:0.025%以下,剩余部分包含Fe及不可避免之杂质;并且於单面或两面设置有选自Al、Fe或Si之涂覆层中之至少1种涂覆层,将每一单面之涂覆层之合计厚度设为30nm~150nm。
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公开(公告)号:TW201738903A
公开(公告)日:2017-11-01
申请号:TW106110668
申请日:2017-03-30
发明人: 西山芳英 , NISHIYAMA, YOSHIHIDE , 須田貴広 , SUDA, TAKAHIRO
摘要: 提供一種導電性基板,其具有:透明基材;金屬層,配置在該透明基材的至少一表面上;及濕式鍍黑化層,配置在該金屬層上。其中,該金屬層的與該濕式鍍黑化層相對的表面的表面粗糙度Ra(μm)為該濕式鍍黑化層的厚度(μm)的0.35倍以上。
简体摘要: 提供一种导电性基板,其具有:透明基材;金属层,配置在该透明基材的至少一表面上;及湿式镀黑化层,配置在该金属层上。其中,该金属层的与该湿式镀黑化层相对的表面的表面粗糙度Ra(μm)为该湿式镀黑化层的厚度(μm)的0.35倍以上。
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公开(公告)号:TWI448570B
公开(公告)日:2014-08-11
申请号:TW099141304
申请日:2010-11-29
发明人: 張新倍 , CHANG, HSIN PEI , 陳文榮 , CHEN, WEN RONG , 蔣煥梧 , CHIANG, HUAN WU , 陳正士 , CHEN, CHENG SHI , 張滿喜 , ZHANG, MAN-XI
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公开(公告)号:TW201326441A
公开(公告)日:2013-07-01
申请号:TW100147677
申请日:2011-12-21
发明人: 黃登聰 , HUANG, TENG TSUNG , 彭立全 , PENG, LI-QUAN
摘要: 本發明公開一種殼體,包括鋁或鋁鎂合金基體,形成於該鋁或鋁鎂合金基體表面的過渡層,該過渡層為金屬鉻或鎳或鉻和鎳混合的金屬層,在該過渡層上形成有一硬質層,該硬質層為鉻、鎳中的一種或兩種與二硼化鈦的混合。另,本發明還提供了一種殼體的製作方法。該殼體的硬度與耐磨性均很高,且製作方法簡單。
简体摘要: 本发明公开一种壳体,包括铝或铝镁合金基体,形成于该铝或铝镁合金基体表面的过渡层,该过渡层为金属铬或镍或铬和镍混合的金属层,在该过渡层上形成有一硬质层,该硬质层为铬、镍中的一种或两种与二硼化钛的混合。另,本发明还提供了一种壳体的制作方法。该壳体的硬度与耐磨性均很高,且制作方法简单。
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公开(公告)号:TW201321531A
公开(公告)日:2013-06-01
申请号:TW100143840
申请日:2011-11-30
发明人: 蔣煥梧 , CHIANG, HUANN WU , 陳正士 , CHEN, CHENG SHI , 劉揚佳 , LIU, YANG-JIA
摘要: 本發明提供一種鍍膜件,其包括鎂或鎂合金基材及形成於鎂或鎂合金基材表面的鍍膜層,該鍍膜層為摻雜稀土元素鑭並含有鎳、錳元素的薄膜,其中鑭、鎳與錳的摩爾比為鑭:鎳:錳=0.5~4:9~16:0.5~2。本發明還提供了一鍍膜件的製備方法。該鍍膜層具有良好儲氫性能。
简体摘要: 本发明提供一种镀膜件,其包括镁或镁合金基材及形成于镁或镁合金基材表面的镀膜层,该镀膜层为掺杂稀土元素镧并含有镍、锰元素的薄膜,其中镧、镍与锰的摩尔比为镧:镍:锰=0.5~4:9~16:0.5~2。本发明还提供了一镀膜件的制备方法。该镀膜层具有良好储氢性能。
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公开(公告)号:TW201321300A
公开(公告)日:2013-06-01
申请号:TW100142089
申请日:2011-11-17
发明人: 何榮銘 , HO, RONG MING , 薛涵宇 , HSUEH, HAN YU
摘要: 藉由分可分解性之嵌段共聚物,聚苯乙烯-b-聚(L-乳酸)(PS-PLLA),進行自組裝行為與後續PLLA鏈段水解而製得奈米多孔聚苯乙烯主體。使用該奈米多孔聚苯乙烯主體作為模板進行一改良式無電電鍍,於該奈米多孔聚苯乙烯PS主體的奈米孔道內形成金屬。緊接著,使用UV將該聚苯乙烯主體降解而留下該奈米孔內的金屬,因而產生一金屬奈米結構。金屬奈米結構可以為螺旋二十四面體奈米結構(gyroid nanostruture),螺旋形奈米結構,或柱形奈米結構。
简体摘要: 借由分可分解性之嵌段共聚物,聚苯乙烯-b-聚(L-乳酸)(PS-PLLA),进行自组装行为与后续PLLA链段水解而制得奈米多孔聚苯乙烯主体。使用该奈米多孔聚苯乙烯主体作为模板进行一改良式无电电镀,于该奈米多孔聚苯乙烯PS主体的奈米孔道内形成金属。紧接着,使用UV将该聚苯乙烯主体降解而留下该奈米孔内的金属,因而产生一金属奈米结构。金属奈米结构可以为螺旋二十四面体奈米结构(gyroid nanostruture),螺旋形奈米结构,或柱形奈米结构。
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公开(公告)号:TW201304257A
公开(公告)日:2013-01-16
申请号:TW101107908
申请日:2012-03-08
发明人: 渡邊學 , WATANABE, MANABU , 田中修 , TANAKA, OSAMU , 吉田雅夫 , YOSHIDA, MASAO
IPC分类号: H01M4/38 , H01M10/0525 , C23C14/16
CPC分类号: H01M4/386 , H01G11/50 , H01M4/134 , H01M4/364 , H01M4/38 , H01M4/42 , H01M10/052 , Y02E60/13 , Y02T10/7011 , Y02T10/7022
摘要: 本發明之電裝置用負極活性物質,係具有:含有33~50質量%的矽、超過0且46質量%以下的鋅、以及21~67質量%的釩,且剩餘部分為不可避免的雜質之合金。該負極活性物質,係可藉由將例如矽、碳及鋅作為靶材,並使用多元DC磁控管濺鍍裝置而得。並且,適用該負極活性物質之電裝置,係能夠提昇循環壽命,且成為容量及循環耐久性優異的裝置。
简体摘要: 本发明之电设备用负极活性物质,系具有:含有33~50质量%的硅、超过0且46质量%以下的锌、以及21~67质量%的钒,且剩余部分为不可避免的杂质之合金。该负极活性物质,系可借由将例如硅、碳及锌作为靶材,并使用多元DC磁控管溅镀设备而得。并且,适用该负极活性物质之电设备,系能够提升循环寿命,且成为容量及循环耐久性优异的设备。
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公开(公告)号:TWI613327B
公开(公告)日:2018-02-01
申请号:TW106115814
申请日:2017-05-12
申请人: 杰富意鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION
发明人: 水谷映斗 , MIZUTANI, AKITO , 藤澤光幸 , FUJISAWA, MITSUYUKI
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