公开(公告)号：US20050095512A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10928759

申请日：2004-08-27

申请人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jorg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Kohle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

发明人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jorg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Kohle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

IPC分类号： G03C5/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F1/30 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70466

摘要： A lithography mask has an angled structure element (O) formed by a first opaque segment (O1) and by a second opaque segment (O2). The structure element has at least one reflex angle (α). The angled structure element (O) includes at least one convex section (A) facing the reflex angle (α). At least one transparent structure (T) adjacent to the angled structure element (O) is provided at the convex section (A) of the angled structure element (O). The transparent structure (T) is formed in separated fashion at the convex section (A) of the angled structure element (O) and thus comprises two distinguishable transparent segments (T1, T2) formed at least in sections essentially axially symmetrically with respect to the angle bisector (WH) of the reflex angle.

摘要翻译： 光刻掩模具有由第一不透明部分（O 1）和第二不透明部分（O 2）形成的成角度的结构元件（O）。 结构元件具有至少一个反射角（α）。 倾斜结构元件（O）包括面向反射角（α）的至少一个凸部（A）。 与成角度的结构元件（O）相邻的至少一个透明结构（T）设置在倾斜结构元件（O）的凸部（A）处。 透明结构（T）以分开的方式形成在成角度的结构元件（O）的凸部（A）处，因此包括两个可区分的透明段（T 1，T 2），其至少形成在主要轴向对称的部分 到角度平分线（WH）的反射角度。

公开(公告)号：US07354683B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US10928759

申请日：2004-08-27

申请人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jörg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Köhle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

发明人： Molela Moukara ,  Burkhard Ludwig ,  Jörg Thiele ,  Marco Ahrens ,  Roderick Köhle ,  Rainer Pforr ,  Nicolo Morgana

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F1/30 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70466

摘要： A lithography mask has an angled structure element (O) formed by a first opaque segment (O1) and by a second opaque segment (O2). The structure element has at least one reflex angle (α). The angled structure element (O) includes at least one convex section (A) facing the reflex angle (α). At least one transparent structure (T) adjacent to the angled structure element (O) is provided at the convex section (A) of the angled structure element (O). The transparent structure (T) is formed in separated fashion at the convex section (A) of the angled structure element (O) and thus comprises two distinguishable transparent segments (T1, T2) formed at least in sections essentially axially symmetrically with respect to the angle bisector (WH) of the reflex angle.

摘要翻译： 光刻掩模具有由第一不透明部分（O 1）和第二不透明部分（O 2）形成的成角度的结构元件（O）。 结构元件具有至少一个反射角（α）。 倾斜结构元件（O）包括面向反射角（α）的至少一个凸部（A）。 与成角度的结构元件（O）相邻的至少一个透明结构（T）设置在倾斜结构元件（O）的凸部（A）处。 透明结构（T）以分开的方式形成在成角度的结构元件（O）的凸部（A）处，并且因此包括两个可区分的透明段（T 1，T 2），其至少形成在主要轴向对称的部分 到角度平分线（WH）的反射角度。

公开(公告)号：US06664010B2

公开(公告)日：2003-12-16

申请号：US09942931

申请日：2001-08-30

申请人： Marco Ahrens ,  Wilhelm Maurer ,  Juergen Knobloch ,  Rainer Zimmermann

发明人： Marco Ahrens ,  Wilhelm Maurer ,  Juergen Knobloch ,  Rainer Zimmermann

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/70 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36

摘要： A method is provided in which a pattern for a phase-shifting mask is firstly corrected in a first correction step. Subsequently, the pattern for the trimming mask is corrected with use of the corrected pattern for the phase-shifting mask in a second correction step. Mask data for the production of very-large-scale integrated circuits can be corrected in a simple manner by means of the two correction steps performed in succession.