公开(公告)号：US09073082B2

公开(公告)日：2015-07-07

申请号：US14366754

申请日：2012-12-17

Applicant: Allnex IP S.à.r.l ,  BASF Coatings GmbH

Inventor： Wolfgang Fischer ,  Nusret Yuva ,  Ludger Keweloh ,  Antje Meier

IPC: C08F2/46 ,  C08G61/04 ,  B05D3/06 ,  B05D5/02 ,  C09D133/08 ,  C09D133/14 ,  B05D3/04 ,  B05D3/02

CPC classification number: B05D3/067 ,  B05D3/0209 ,  B05D3/0486 ,  B05D3/062 ,  B05D5/02 ,  C09D133/08 ,  C09D133/14

Abstract: The present invention relates to a method for producing matt and scratch-resistant coatings that takes place under exposure to actinic radiation on coating systems containing activated double bonds under radical polymerization.

Abstract translation: 本发明涉及一种在自由基聚合下在包含活性双键的涂料体系下，在光化辐射下曝光时产生无光泽和耐刮擦涂层的方法。