公开(公告)号：US20120295186A1

公开(公告)日：2012-11-22

申请号：US13109006

申请日：2011-05-17

Applicant: Te-Hsien Hsieh ,  Ming-Jui Chen ,  Shih-Ming Kuo ,  Ping-I Hsieh ,  Cheng-Te Wang ,  Jing-Yi Lee

Inventor： Te-Hsien Hsieh ,  Ming-Jui Chen ,  Shih-Ming Kuo ,  Ping-I Hsieh ,  Cheng-Te Wang ,  Jing-Yi Lee

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/50 ,  G03F1/70 ,  G03F7/203 ,  H01L21/0274

Abstract: A double patterning mask set includes a first mask having a first set of via patterns, and a second mask having a second set of via patterns. The first set of via patterns includes at least two via patterns arranged along a diagonal direction, each of the at least two via patterns has at least a truncated corner. The first set of via patterns and the second set of via patterns are interlacedly arranged along a horizontal direction and a vertical direction.

Abstract translation: 双重图案掩模组包括具有第一组通孔图案的第一掩模和具有第二组通孔图案的第二掩模。 第一组通孔图案包括沿着对角线方向布置的至少两个通孔图案，至少两个通孔图案中的每一个具有至少一个截头角。 第一组通孔图案和第二组通孔图案沿水平方向和垂直方向交错布置。