公开(公告)号：US4973818A

公开(公告)日：1990-11-27

申请号：US327830

申请日：1989-03-23

申请人： Harald Bittenbrunn ,  Friedrich-Werner Thomas ,  Gernot Thorn

发明人： Harald Bittenbrunn ,  Friedrich-Werner Thomas ,  Gernot Thorn

IPC分类号： B23K15/02 ,  C22B9/22 ,  H01J37/30 ,  H01J37/302 ,  H01J37/305

CPC分类号： H01J37/302 ,  H01J37/305

摘要： A device and a method for the control and monitoring of a deflectable electron beam is provided for the working of metal wherein the electron beam is not permitted to go beyond an allowed working area. With this device with the aid of a Teach-In method the limits are entered into a computer. The computer generates an image of the areas allowed for the electron beam in a particular area of a special memory. This memory is so organized that the addresses of the point of the particular areas correspond to the digitized coordinates of the point of impingement of the electron beam. The characterization of the allowed and forbidden target points of the electron beam takes place through placing or deleting respectively the assigned bits in the special memories.

摘要翻译： 提供了一种用于控制和监测可偏转电子束的装置和方法，用于金属加工，其中电子束不允许超过允许的工作区域。 借助于“Teach-In”方法，该设备将限制输入计算机。 计算机在特殊存储器的特定区域中产生电子束允许的区域的图像。 该存储器是如此组织的，使得特定区域的点的地址对应于电子束的撞击点的数字化坐标。 电子束允许和禁止的目标点的表征通过分别放置或删除特殊存储器中的指定位来进行。

公开(公告)号：US4797897A

公开(公告)日：1989-01-10

申请号：US110721

申请日：1987-08-10

申请人： Otto Stenzel ,  Friedrich-Werner Thomas

发明人： Otto Stenzel ,  Friedrich-Werner Thomas

IPC分类号： H05B7/148 ,  F27D11/10 ,  H05B7/152

CPC分类号： H05B7/152 ,  Y02P10/256 ,  Y02P10/259

摘要： Apparatus for controlling the distance of a melting electrode from the surface of melted material in a vacuum arc furnace which uses short circuits caused by the droplets between the melting electrode and the surface of the melted material as a control criterion. The short circuits occurring within a given period of time--the so-called droplet rate--are determined and supplied to an averager which is connected with a controller that controls an electric driving mechanism for the melting electrode. According to the invention, the controller is responsive to a signal representing the difference between the reciprocal value of the droplet rate signal formed by the averager and a desired time, this desired time being equal to the desired average time between two consecutive droplet short circuits.

摘要翻译： PCT No.PCT / DE87 / 00487 Sec。 371日期1987年8月10日 102（e）日期1987年8月10日PCT申请日1986年11月29日PCT公开号 公开号WO87 / 03772 日期：1987年6月18日。用于在熔化电极和熔融材料表面之间的液滴引起的短路的真空电弧炉中控制熔融电极与熔融材料表面的距离的装置作为控制标准 。 在给定时间段内发生的短路（即所谓的液滴速率）被确定并提供给与控制熔融电极的电驱动机构的控制器连接的平均器。 根据本发明，控制器响应于表示由平均器形成的液滴速率信号的倒数值与期望时间之间的差的信号，该期望时间等于两个连续液滴短路之间的期望平均时间。