公开(公告)号：US20130156967A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：US13713632

申请日：2012-12-13

申请人： Christopher Michaluk ,  William Loewenthal ,  Gary Rozak ,  Marc Abouaf ,  Patrick Hogan ,  Steven A. Miller

发明人： Christopher Michaluk ,  William Loewenthal ,  Gary Rozak ,  Marc Abouaf ,  Patrick Hogan ,  Steven A. Miller

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C23C14/3407 ,  C23C24/04

摘要： In various embodiments, used sputtering targets are refurbished at least in part by maintaining a large obliquity angle between the spray-deposition gun and the depressed surface contour of the target during spray deposition of the target material.

摘要翻译： 在各种实施例中，使用的溅射靶材至少部分地通过在喷射沉积目标材料期间在喷涂沉积枪和靶的凹陷表面轮廓之间保持大的倾斜角来进行翻新。