公开(公告)号：US07507670B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US11019726

申请日：2004-12-23

申请人： Hong Shih ,  Tuochuan Huang ,  Chunhong Zhou

发明人： Hong Shih ,  Tuochuan Huang ,  Chunhong Zhou

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  Y10T137/0329

摘要： Methods for cleaning silicon surfaces of electrode assemblies by efficiently removing contaminants from the silicon surfaces without discoloring the silicon surfaces using an acidic solution comprising hydrofluoric acid, nitric acid, acetic acid, and balance deionized water.

摘要翻译： 通过使用包含氢氟酸，硝酸，乙酸和余量的去离子水的酸性溶液有效地从硅表面除去污染物而不使硅表面变色来清洁电极组件的硅表面的方法。

公开(公告)号：US20060141802A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11019726

申请日：2004-12-23

申请人： Hong Shih ,  Tuochuan Huang ,  Chunhong Zhou

发明人： Hong Shih ,  Tuochuan Huang ,  Chunhong Zhou

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/08 ,  Y10T137/0329

摘要： Methods for cleaning silicon surfaces of electrode assemblies by efficiently removing contaminants from the silicon surfaces without discoloring the silicon surfaces using an acidic solution comprising hydrofluoric acid, nitric acid, acetic acid, and balance deionized water.