公开(公告)号：US09459522B2

公开(公告)日：2016-10-04

申请号：US14226558

申请日：2014-03-26

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Jungi Kim ,  Taegyun Kim ,  Jin-Su Byun

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/20

Abstract: An exposure mask for forming a pattern in a photosensitive material includes a mask substrate which is disposed facing the photosensitive material; a body portion on the mask substrate and corresponding to a shape of the pattern at a distance furthest from the exposure mask; and a plurality of branch portions on the mask substrate and each extending outward from an outer edge of the body portion, in a plan view. The pattern comprises a contact hole of a display device.

Abstract translation: 用于在感光材料中形成图案的曝光掩模包括面对感光材料设置的掩模基板; 所述掩模基板上的主体部分对应于距离所述曝光掩模最远的距离的图案的形状; 以及在所述掩模基板上的多个分支部分，并且各自从所述主体部分的外边缘向外延伸。 该图案包括显示装置的接触孔。