公开(公告)号：US20120305811A1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：US13572248

申请日：2012-08-10

申请人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya YANAGIDA ,  Hakazu MIZOGUCHI

发明人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya YANAGIDA ,  Hakazu MIZOGUCHI

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： H05G2/008 ,  H05G2/003

摘要： An apparatus used with a laser apparatus may include a chamber, a target supply for supplying a target material to a region inside the chamber, a laser beam focusing optical system for focusing a laser beam from the laser apparatus in the region, and an optical system for controlling a beam intensity distribution of the laser beam.

公开(公告)号：US20110253913A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US13070735

申请日：2011-03-24

申请人： Shinji NAGAI ,  Osamu WAKABAYASHI

发明人： Shinji NAGAI ,  Osamu WAKABAYASHI

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： H05G2/008 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/003

摘要： A chamber apparatus used with a laser apparatus and a focusing optical system for focusing a laser beam outputted from the laser apparatus may include: a chamber provided with an inlet through which the laser beam is introduced into the chamber; a target supply unit provided to the chamber for supplying a target material to a predetermined region inside the chamber; and a collection unit provided in the chamber for collecting a charged particle generated when the target material is irradiated with the laser beam in the chamber.

摘要翻译： 与激光装置一起使用的腔室装置和用于聚焦从激光装置输出的激光束的聚焦光学系统可以包括：设置有入口的腔室，激光束通过入口引入腔室; 目标供给单元，其设置在所述室中，用于将目标材料供应到所述室内的预定区域; 以及收集单元，设置在所述室中，用于收集当所述目标材料在所述室中被激光束照射时产生的带电粒子。

公开(公告)号：US20110216800A1

公开(公告)日：2011-09-08

申请号：US13107247

申请日：2011-05-13

申请人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya Ariga ,  Takahito Kumazaki ,  Kotaro Sasano

发明人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya Ariga ,  Takahito Kumazaki ,  Kotaro Sasano

IPC分类号： H01S5/50

CPC分类号： H01S3/2308 ,  G03F7/70025 ,  H01S3/083

摘要： The invention relates to a two-stage laser system well fit for semiconductor aligners, which is reduced in terms of spatial coherence while taking advantage of the high stability, high output efficiency and fine line width of the MOPO mode. The two-stage laser system for aligners comprises an oscillation-stage laser (50) and an amplification-stage laser (60). Oscillation laser light having divergence is used as the oscillation-stage laser (50), and the amplification-stage laser (60) comprises a Fabry-Perot etalon resonator made up of an input side mirror (1) and an output side mirror (2). The resonator is configured as a stable resonator.

摘要翻译： 本发明涉及一种适用于半导体对准器的两级激光系统，其在利用MOPO模式的高稳定性，高输出效率和细线宽度的同时，在空间相干性方面被减少。 用于对准器的两级激光系统包括振荡级激光器（50）和放大级激光器（60）。 具有发散的振荡激光用作振荡级激光器（50），放大级激光器（60）包括由输入侧反射镜（1）和输出侧反射镜（2）构成的法布里 - 珀罗标准具共振器 ）。 谐振器被配置为稳定谐振器。

公开(公告)号：US20070297483A1

公开(公告)日：2007-12-27

申请号：US11566235

申请日：2006-12-03

申请人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya ARIGA ,  Takahito KUMAZAKI ,  Kotaro SASANO

发明人： Osamu WAKABAYASHI ,  Tatsuya ARIGA ,  Takahito KUMAZAKI ,  Kotaro SASANO

IPC分类号： H01S3/082

CPC分类号： H01S3/2308 ,  G03F7/70025 ,  H01S3/083

摘要： The invention relates to a two-stage laser system well fit for semiconductor aligners, which is reduced in terms of spatial coherence while taking advantage of the high stability, high output efficiency and fine line width of the MOPO mode. The two-stage laser system for aligners comprises an oscillation-stage laser (50) and an amplification-stage laser (60). Oscillation laser light having divergence is used as the oscillation-stage laser (50), and the amplification-stage laser (60) comprises a Fabry-Perot etalon resonator made up of an input side mirror (1) and an output side mirror (2). The resonator is configured as a stable resonator.

摘要翻译： 本发明涉及一种适用于半导体对准器的两级激光系统，其在利用MOPO模式的高稳定性，高输出效率和细线宽度的同时，在空间相干性方面被减少。 用于对准器的两级激光系统包括振荡级激光器（50）和放大级激光器（60）。 具有发散的振荡激光用作振荡级激光器（50），放大级激光器（60）包括由输入侧反射镜（1）和输出侧反射镜（2）构成的法布里 - 珀罗标准具共振器 ）。 谐振器被配置为稳定谐振器。