公开(公告)号：US4392120A

公开(公告)日：1983-07-05

申请号：US197345

申请日：1980-06-23

申请人： Kikuo Mita ,  Masayuki Oyama ,  Takashi Yoshida ,  Masato Nakashima ,  Katsumi Fujihara ,  Tadao Nakakuki

发明人： Kikuo Mita ,  Masayuki Oyama ,  Takashi Yoshida ,  Masato Nakashima ,  Katsumi Fujihara ,  Tadao Nakakuki

IPC分类号： G01B11/02 ,  G06K9/54 ,  G06T7/60 ,  G06K9/00

CPC分类号： G06T7/60 ,  G01B11/024 ,  G06K9/54 ,  G06T2207/30108

摘要： A pattern inspection system, for inspecting a pattern formed on a base, such as a photo-mask, by means of laser beam scanning, which includes a device for detecting the body and edges of the pattern a memory device having a plurality of memory units for separately storing the detected body and plurality of edges of the pattern, a device for measuring the width of the body of the pattern between two parallel edges of the pattern, a device for detecting and correcting missing pattern edges, a device for inverting the pattern, a device for reducing the pattern and a device for eliminating pinholes and stains within a pattern.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP79 / 00271 Sec。 371日期1980年6月30日第 102（e）1980年6月23日PCT提交1979年10月25日PCT公布。 公开号WO80 / 01002 日期：1980年5月15日。一种图案检查系统，用于通过激光束扫描来检查形成在基底上的图案（例如光掩膜），其包括用于检测图案的主体和边缘的装置，存储装置 具有用于分别存储检测到的主体和图案的多个边缘的多个存储单元，用于测量图案的两个平行边缘之间的图案的主体的宽度的装置，用于检测和校正缺失图案边缘的装置， 用于反转图案的装置，用于减小图案的装置和用于消除图案内的针孔和污渍的装置。