公开(公告)号：US08692105B2

公开(公告)日：2014-04-08

申请号：US13089138

申请日：2011-04-18

申请人： Hiroaki Ohta ,  Alexander Sztein ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

发明人： Hiroaki Ohta ,  Alexander Sztein ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L35/12 ,  H01L35/30

CPC分类号： H01L35/22

摘要： A method to suppress thermal conductivities of nitride films by using stacking faults and/or nano-scale In-composition fluctuation(s). Therefore, the present invention reduces thermal conductivity of nitride while keeping electrical conductivity high. In addition, In composition fluctuations can enhance the Seebeck coefficient through thermionic emission. The present invention further discloses a nitride based (e.g. GaN) thermoelectric lateral device with a short length.

摘要翻译： 通过使用堆垛层错和/或纳米级组成波动来抑制氮化物膜的热导率的方法。 因此，本发明降低氮化物的导热性，同时保持导电性高。 此外，组成波动可以通过热电子发射增强塞贝克系数。 本发明还公开了一种具有短长度的氮化物基（例如GaN）热电横向装置。

公开(公告)号：US20110253187A1

公开(公告)日：2011-10-20

申请号：US13089138

申请日：2011-04-18

申请人： Hiroaki Ohta ,  Alexander Sztein ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

发明人： Hiroaki Ohta ,  Alexander Sztein ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L35/22

CPC分类号： H01L35/22

摘要： A method to suppress thermal conductivities of nitride films by using stacking faults and/or nano-scale In-composition fluctuation(s). Therefore, the present invention reduces thermal conductivity of nitride while keeping electrical conductivity high. In addition, In composition fluctuations can enhance the Seebeck coefficient through thermionic emission. The present invention further discloses a nitride based (e.g. GaN) thermoelectric lateral device with a short length.

摘要翻译： 通过使用堆垛层错和/或纳米级组成波动来抑制氮化物膜的热导率的方法。 因此，本发明降低氮化物的导热性，同时保持导电性高。 此外，组成波动可以通过热电子发射增强塞贝克系数。 本发明还公开了一种具有短长度的氮化物基（例如GaN）热电横向装置。