公开(公告)号：US08339449B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12537269

申请日：2009-08-07

申请人： Barbara Fong Chin Lim ,  Keng Heng Lai ,  Tanya Yang ,  Victor Seng Keong Lim ,  Fang Hong Gn ,  Liang Choo Hsia

发明人： Barbara Fong Chin Lim ,  Keng Heng Lai ,  Tanya Yang ,  Victor Seng Keong Lim ,  Fang Hong Gn ,  Liang Choo Hsia

IPC分类号： H04N7/18

CPC分类号： G06T7/0006 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/30148

摘要： A method of forming a device is presented. The method includes providing a substrate containing at least a partially formed device thereon. The device comprises at least one defect site. A pixilated image of the defect site is acquired, and each pixel comprises a grey level value (GLV). Surrounding noises of the defect site is eliminated. A point of the image is identified as the center of the defect. A plurality of iterations to exclude outer edge pixels surrounding the center of the defect image is performed. The defect is categorized as a killer or non-killer defect.

摘要翻译： 提出了一种形成装置的方法。 该方法包括提供在其上至少包含部分形成的器件的衬底。 该装置包括至少一个缺陷部位。 获取缺陷部位的像素化图像，并且每个像素包括灰度值（GLV）。 消除了缺陷部位的周围噪声。 图像的一个点被识别为缺陷的中心。 执行多个迭代以排除围绕缺陷图像的中心的外边缘像素。 该缺陷被归类为杀伤或非杀伤性缺陷。

公开(公告)号：US20110032348A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12537269

申请日：2009-08-07

申请人： Barbara Fong Chin LIM ,  Keng Heng LAI ,  Tanya YANG ,  Victor Seng Keong LIM ,  Fang Hong GN ,  Liang Choo HSIA

发明人： Barbara Fong Chin LIM ,  Keng Heng LAI ,  Tanya YANG ,  Victor Seng Keong LIM ,  Fang Hong GN ,  Liang Choo HSIA

IPC分类号： H04N7/18 ,  G06K9/00

CPC分类号： G06T7/0006 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/30148

摘要： A method of forming a device is presented. The method includes providing a substrate containing at least a partially formed device thereon. The device comprises at least one defect site. A pixilated image of the defect site is acquired, and each pixel comprises a grey level value (GLV). Surrounding noises of the defect site is eliminated. A point of the image is identified as the center of the defect. A plurality of iterations to exclude outer edge pixels surrounding the center of the defect image is performed. The defect is categorized as a killer or non-killer defect.

摘要翻译： 提出了一种形成装置的方法。 该方法包括提供在其上至少包含部分形成的器件的衬底。 该装置包括至少一个缺陷部位。 获取缺陷部位的像素化图像，并且每个像素包括灰度值（GLV）。 消除了缺陷部位的周围噪声。 图像的一个点被识别为缺陷的中心。 执行多个迭代以排除围绕缺陷图像的中心的外边缘像素。 该缺陷被归类为杀伤或非杀伤性缺陷。