公开(公告)号：US06372390B1

公开(公告)日：2002-04-16

申请号：US09584698

申请日：2000-06-01

申请人： En-Chuan Liu ,  Chiao-Lin Peng ,  Tai-Yuan Lee

发明人： En-Chuan Liu ,  Chiao-Lin Peng ,  Tai-Yuan Lee

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/40 ,  G03F1/50

摘要： The invention provides a photo mask with an electric discharge (ESD) protective function. The photo mask has a transparent substrate comprising quartz or glass, a patterned shielding layer located in the predetermined area of the surface of the transparent substrate, and an ESD protective layer positioned on the surface of the transparent substrate and surrounding the shielding layer. The ESD protective layer comprises a plurality of discharging peaks. The peaks aid in a neutralizing discharge reaction, which discharges harmful static electricity into the air.

摘要翻译： 本发明提供具有放电（ESD）保护功能的光掩膜。 光掩模具有包括石英或玻璃的透明基板，位于透明基板的表面的预定区域中的图案化屏蔽层以及位于透明基板的表面上且围绕屏蔽层的ESD保护层。 ESD保护层包括多个放电峰。 峰值有助于中和放电反应，将有害静电放入空气中。