公开(公告)号：US06878500B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10408044

申请日：2003-04-05

申请人： Edward W. Rutter, Jr. ,  Cuong Manh Tran ,  Edward C. Orr

发明人： Edward W. Rutter, Jr. ,  Cuong Manh Tran ,  Edward C. Orr

IPC分类号： G03F7/42 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/422 ,  G03F7/426

摘要： Compositions and methods for the removal of patterned photodefinable materials, such as photoresists and/or photoimageable dielectric materials, from substrates are provided. Such compositions and methods are useful in the manufacture of electronic devices. Methods of reworking electronic device substrates by removing patterned photodefinable material from an underlying organic film are also provided.

摘要翻译： 提供了用于从衬底去除图案化的光致定影材料（例如光刻胶和/或可光成像的电介质材料）的组合物和方法。 这样的组合物和方法在电子设备的制造中是有用的。 还提供了通过从下面的有机膜去除图案化的光可定义材料来重新加工电子器件衬底的方法。