公开(公告)号：US20050051739A1

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：US10894365

申请日：2004-07-20

申请人： Antonius Van Der Net ,  Jeffrey Spiegelman ,  Erik Johannus Van Bragt

发明人： Antonius Van Der Net ,  Jeffrey Spiegelman ,  Erik Johannus Van Bragt

IPC分类号： G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  G21G5/00 ,  H01L21/425

CPC分类号： G02B27/0006 ,  G03F7/70933

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, and a support structure for supporting a patterning device. The patterning device serves to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate support for supporting a substrate, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a purge gas supply system. The purge gas supply system includes a purge gas mixture generator that includes a moisturizer that is arranged for adding moisture to a purge gas to generate a purge gas mixture, and a purge gas mixture outlet connected to the purge gas mixture generator for supplying the purge gas mixture to at least part of the lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统和用于支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置用于根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括用于支撑基板的基板支撑件，用于将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统和净化气体供应系统。 吹扫气体供应系统包括净化气体混合物发生器，其包括保湿剂，该保湿剂被布置成用于向吹扫气体中添加水分以产生吹扫气体混合物，以及净化气体混合物出口，其连接到吹扫气体混合物发生器， 混合物至光刻投影装置的至少一部分。