公开(公告)号：US20090187735A1

公开(公告)日：2009-07-23

申请号：US12357779

申请日：2009-01-22

申请人： Chien-Liang Lin ,  Wen-Hsiang Huang ,  Hao-Jan Chen

发明人： Chien-Liang Lin ,  Wen-Hsiang Huang ,  Hao-Jan Chen

IPC分类号： G06F15/76 ,  G06F9/02

CPC分类号： G06F15/7814

摘要： A microcontroller having dual-core architecture is provided. Using a unique hardware configuration of memories, control registers and reset machines, the invention not only reduces hardware cost, but also improves management efficiency and system stability.

摘要翻译： 提供了具有双核架构的微控制器。 使用存储器，控制寄存器和复位机的独特硬件配置，本发明不仅降低了硬件成本，而且提高了管理效率和系统稳定性。

公开(公告)号：US20130054653A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13253984

申请日：2011-10-06

申请人： Ming-Tsung Hsu ,  Chun-Chi Chen ,  Hao-Jan Chen

发明人： Ming-Tsung Hsu ,  Chun-Chi Chen ,  Hao-Jan Chen

IPC分类号： G06F17/30

CPC分类号： H01L22/12

摘要： A method of constructing a database for etching profile is disclosed. First, a standard etching group including a standard etching structure and a deviated etching group including a deviated etching structure are provided. Second, a remote sensing (RS) step is carried out to collect a standard RS data belonging to the standard etching group and a deviated RS data belonging to the deviated etching group. Then, the RS data is analyzed to infer feature parameters of the etching groups. Next, a deviated physical parameter is verified. Later, the correlation between the feature parameters and the deviated physical parameter is calculated to construct an etching profile database including the standard RS data and the deviated RS data. The etching profile database may facilitate the prediction of an unknown etching profile.

摘要翻译： 公开了一种构建蚀刻轮廓数据库的方法。 首先，提供包括标准蚀刻结构的标准蚀刻组和包括偏离的蚀刻结构的偏斜蚀刻组。 其次，执行遥感（RS）步骤以收集属于标准蚀刻组的标准RS数据和属于偏斜蚀刻组的偏移RS数据。 然后，分析RS数据以推断蚀刻组的特征参数。 接下来，验证偏离的物理参数。 之后，计算特征参数与偏差物理参数之间的相关性，以构建包括标准RS数据和偏差RS数据的蚀刻轮廓数据库。 蚀刻轮廓数据库可以有助于预测未知的蚀刻轮廓。