公开(公告)号：US20090035205A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US10584466

申请日：2005-03-01

申请人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Koether ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Roever ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Juergen Hoene

发明人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Koether ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Roever ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Juergen Hoene

IPC分类号： C01B33/107

CPC分类号： C01B33/1071

摘要： The invention relates to a process for the catalytic hydrodehalogenation of SiCl4 to HSiCl3 in the presence of hydrogen, in which at least one metal or metal salt selected from among the elements of main group 2 of the Periodic Table of the Elements (PTE) is used as catalyst at a temperature in the range from 300 to 1 000° C. In particular, the catalyst is a metal or metal salt which forms stable metal chlorides under these conditions.

摘要翻译： 本发明涉及在氢存在下将SiCl 4催化加氢脱卤至HSiCl 3的方法，其中使用选自元素周期表（PTE）的主族2的元素中的至少一种金属或金属盐 作为催化剂在300至1000℃的温度范围内。特别地，催化剂是在这些条件下形成稳定的金属氯化物的金属或金属盐。

公开(公告)号：US08697021B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US10586369

申请日：2005-03-10

申请人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Koether ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Roever ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Juergen Hoene

发明人： Klaus Bohmhammel ,  Sven Koether ,  Gerhard Roewer ,  Ingo Roever ,  Jaroslaw Monkiewicz ,  Hans-Juergen Hoene

IPC分类号： C01B33/107

CPC分类号： C01B33/1071

摘要： The invention relates to a process for the catalytic hydrodehalogenation of SiCl4 to form HSiCl3, which comprises bringing a gaseous feed mixture comprising hydrogen and silicon tetrachloride into direct contact with at least one heating element of a resistance heating device, with the heating element being composed of a metal or a metal alloy and being heated to carry out the reaction.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于催化加氢脱卤SiCl4以形成HSiCl 3的方法，其包括使包含氢和四氯化硅的气态进料混合物与电阻加热装置的至少一个加热元件直接接触，加热元件由 金属或金属合金，并被加热以进行反应。