公开(公告)号：US07815279B2

公开(公告)日：2010-10-19

申请号：US12000750

申请日：2007-12-17

申请人： Hylke Veenstra ,  Jaap J. Mattheijer ,  Matheus Wijnstekers ,  Joseph L. M. Nelissen

发明人： Hylke Veenstra ,  Jaap J. Mattheijer ,  Matheus Wijnstekers ,  Joseph L. M. Nelissen

IPC分类号： B41J29/393

CPC分类号： B41J29/393 ,  B41J25/005

摘要： A method for adjusting a first and a second array relative to each other in a printing device has a carrying structure for mounting the first and second arrays. The first array has nozzles arranged in a first row substantially parallel to a first direction for forming first marks on a recording substrate. The second array has nozzles arranged in a second row substantially parallel to the first direction for forming second marks on the recording substrate. In an attainable relative position, the first and second arrays at least partially flank each other. The method includes forming a test pattern and detecting the locations of first and second test marks; determining a plurality of deviation factors for a plurality of attainable relative positions; and selecting an attainable relative position among the plurality of attainable relative positions that satisfies a selection criterion applied to the plurality of deviation factors.

摘要翻译： 用于在打印装置中相对于彼此调节第一和第二阵列的方法具有用于安装第一和第二阵列的承载结构。 第一阵列具有布置在基本上平行于第一方向的第一行中的喷嘴，用于在记录基板上形成第一标记。 第二阵列具有布置在基本上平行于第一方向的第二行中的喷嘴，用于在记录基板上形成第二标记。 在可达到的相对位置中，第一和第二阵列至少部分地彼此相对。 该方法包括形成测试图案并检测第一和第二测试标记的位置; 确定多个可达到的相对位置的多个偏差因子; 以及选择满足应用于所述多个偏差因子的选择准则的所述多个可达到的相对位置中的可达到的相对位置。

公开(公告)号：US20080143768A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：US12000750

申请日：2007-12-17

申请人： Hylke Veenstra ,  Jaap J. Mattheijer ,  Matheus Wijnstekers ,  Joseph L.M. Nelissen

发明人： Hylke Veenstra ,  Jaap J. Mattheijer ,  Matheus Wijnstekers ,  Joseph L.M. Nelissen

IPC分类号： B41J29/38

CPC分类号： B41J29/393 ,  B41J25/005

摘要： A method for adjusting a first and a second array relative to each other in a printing device has a carrying structure for mounting the first and second arrays. The first array has nozzles arranged in a first row substantially parallel to a first direction for forming first marks on a recording substrate. The second array has nozzles arranged in a second row substantially parallel to the first direction for forming second marks on the recording substrate. In an attainable relative position, the first and second arrays at least partially flank each other. The method includes forming a test pattern and detecting the locations of first and second test marks; determining a plurality of deviation factors for a plurality of attainable relative positions; and selecting an attainable relative position among the plurality of attainable relative positions that satisfies a selection criterion applied to the plurality of deviation factors.

摘要翻译： 用于在打印装置中相对于彼此调节第一和第二阵列的方法具有用于安装第一和第二阵列的承载结构。 第一阵列具有布置在基本上平行于第一方向的第一行中的喷嘴，用于在记录基板上形成第一标记。 第二阵列具有布置在基本上平行于第一方向的第二行中的喷嘴，用于在记录基板上形成第二标记。 在可达到的相对位置中，第一和第二阵列至少部分地彼此相对。 该方法包括形成测试图案并检测第一和第二测试标记的位置; 确定多个可达到的相对位置的多个偏差因子; 以及选择满足应用于所述多个偏差因子的选择准则的所述多个可达到的相对位置中的可达到的相对位置。