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    Process for the preparation of uranium tetrafluoride by the reduction of uranium hexafluoride and sulphur fluorides produced by this process
    1.
    发明授权
    Process for the preparation of uranium tetrafluoride by the reduction of uranium hexafluoride and sulphur fluorides produced by this process 失效
    通过还原六氟化铀和通过该方法生产的硫化氟制备四氟化铀的方法

    公开(公告)号：US4859441A

    公开(公告)日：1989-08-22

    申请号：US176715

    申请日：1988-04-01

    申请人： Jacques Lambard

    发明人： Jacques Lambard

    IPC分类号： C01B17/45 ,  C01G43/06

    CPC分类号： C01B17/4523 ,  C01B17/4515 ,  C01B17/453 ,  C01G43/06

    摘要： A process for the preparation of uranium tetrafluoride by reduction of gaseous uranium hexafluoride using: (1) sulphur vapor with a minimum of halogen and/or a halide, chosen from among Cl.sub.2, Br.sub.2, S.sub.2 F.sub.2, SCL.sub.2, S.sub.2 Cl.sub.2, and S.sub.2 Br.sub.2 ; or (2) a minimum of one sulphur halide chosen from among S.sub.2 F.sub.2, SCL.sub.2, S.sub.2 CL.sub.2, and S.sub.2 Br.sub.2. The ratio R of the total number of gram-atoms of sulphur present during the reduction reaction to the number of gram-moles of UF.sub.6 is at least 0.6.

    摘要翻译： 使用以下方法制备四氟化铀的方法：（1）选自Cl2，Br2，S2F2，SCL2，S2Cl2和S2Br2中具有最少卤素和/或卤化物的硫蒸汽; 或（2）选自S2F2，SCL2，S2CL2和S2Br2中的至少一种卤化硫。 在还原反应中存在的硫的总原子数与UF6的克数摩尔数的比率R至少为0.6。

    Halide glass medium containing trivalent uranium ions and process for producing said medium
    2.
    发明授权
    Halide glass medium containing trivalent uranium ions and process for producing said medium 失效
    含有三价铀离子的卤化物玻璃介质及其制备方法

    公开(公告)号：US5313547A

    公开(公告)日：1994-05-17

    申请号：US881298

    申请日：1992-05-12

    申请人： Jacques Lambard ,  Hubert Poignant

    发明人： Jacques Lambard ,  Hubert Poignant

    IPC分类号： G02B6/12 ,  C03C3/23 ,  C03C3/32 ,  C03C4/00 ,  C03C13/04 ,  C03C23/00 ,  G02B6/00 ,  H01S3/06 ,  H01S3/07 ,  G02B6/24

    CPC分类号： C03C23/0005 ,  C03C3/32 ,  C03C3/325 ,  C03C4/0071

    摘要： Said medium is a halide glass (2, 8, 12, 20) containing uranium ions at least partly in the form U.sup.3+ and having, at least at one point of a region of the near infrared between 2.2 and 3.4 micrometers, an optical attenuation not exceeding 0.01 cm.sup.-1. For the production thereof, preparation takes place of a halide glass containing uranium ions, at least partly in the form U.sup.4+ and/or U.sup.5+, and having at least at this point the aforementioned attenuation. The glass is exposed to ionizing radiation able to produce trivalent uranium ions from the uranium ions of the prepared glass. Application to the production of optical guides, whereof the guiding parts are formed from such a medium.

    摘要翻译： 所述介质是含有至少部分为U3 +形式的铀离子的卤化物玻璃（2,8，12,20），并且在近红外线区域的至少一点处在2.2和3.4微米之间，光衰减不是 超过0.01厘米-1。 为了生产，制备了含有铀离子的卤化物玻璃，其至少部分为U4 +和/或U5 +形式，并至少在此处具有上述衰减。 玻璃暴露于能够从制备的玻璃的铀离子产生三价铀离子的电离辐射。 适用于制造导光部件的导光部件由这种介质形成。