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1.发明申请Process for the production of bis(trimethylsilyloxy)silylalkylglycerol methacrylates 有权制备双（三甲基甲硅烷氧基）甲硅烷基甘油甲基丙烯酸酯的方法公开(公告)号：US20080139829A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：US10862074
申请日：2004-06-04
申请人： Frank Molock , Jason Garner , Shivkumar Mahadevan
发明人： Frank Molock , Jason Garner , Shivkumar Mahadevan
IPC分类号： C07D303/02
CPC分类号： C07F7/0889
摘要： The present invention relates to a process comprising the steps of reacting a substituted epoxide, and preferably a silicone containing substituted epoxide with at least one lithium acrylic acid salt, at least one acrylic acid and optionally at least one inhibitor at a temperature above about 60° C. to form a substituted hydroxy acrylate.
摘要翻译： 本发明涉及一种方法，其包括以下步骤：使取代的环氧化物，优选含硅氧烷的取代的环氧化物与至少一种锂丙烯酸盐，至少一种丙烯酸和任选的至少一种抑制剂在高于约60℃的温度下反应 以形成取代的羟基丙烯酸酯。
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2.发明授权Process for the production of bis(trimethylsilyloxy)silylalkylglycerol methacrylates 有权制备双（三甲基甲硅烷氧基）甲硅烷基甘油甲基丙烯酸酯的方法公开(公告)号：US08373000B2
公开(公告)日：2013-02-12
申请号：US10862074
申请日：2004-06-04
申请人： Frank Molock , Jason Garner , Shivkumar Mahadevan
发明人： Frank Molock , Jason Garner , Shivkumar Mahadevan
CPC分类号： C07F7/0889
摘要： The present invention relates to a process comprising the steps of reacting a substituted epoxide, and preferably a silicone containing substituted epoxide with at least one lithium acrylic acid salt, at least one acrylic acid and optionally at least one inhibitor at a temperature above about 60° C. to form a substituted hydroxy acrylate.
摘要翻译： 本发明涉及一种方法，其包括以下步骤：使取代的环氧化物，优选含硅氧烷的取代的环氧化物与至少一种锂丙烯酸盐，至少一种丙烯酸和任选的至少一种抑制剂在高于约60℃的温度下反应 以形成取代的羟基丙烯酸酯。
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