公开(公告)号：US06183545B2

公开(公告)日：2001-02-06

申请号：US09340894

申请日：1999-06-28

申请人： Yoshiaki Okuhama ,  Takao Takeuchi ,  Masakazu Yoshimoto ,  Shigeru Takatani ,  Emiko Tanaka ,  Masayuki Nishino ,  Yuji Kato ,  Yasuhito Kohashi ,  Kyoko Kuba ,  Tetsuya Kondo ,  Keiji Shiomi ,  Keigo Obata ,  Mitsuo Komatsu ,  Hidemi Nawafune

发明人： Yoshiaki Okuhama ,  Takao Takeuchi ,  Masakazu Yoshimoto ,  Shigeru Takatani ,  Emiko Tanaka ,  Masayuki Nishino ,  Yuji Kato ,  Yasuhito Kohashi ,  Kyoko Kuba ,  Tetsuya Kondo ,  Keiji Shiomi ,  Keigo Obata ,  Mitsuo Komatsu ,  Hidemi Nawafune

IPC分类号： C23C1831

CPC分类号： C25D3/02 ,  C22B3/0051 ,  C22B11/046 ,  C23C18/42 ,  Y02P10/214 ,  Y02P10/234

摘要： An aqueous solution for the reductive deposition of metals comprising, besides water, (A) a phosphine of the general formula (1)  in which R1, R2, and R3 denote lower alkyl groups, at least one of which being hydroxy-or amino-substituted lower alkyl group, and (B) a soluble compound of a metal or a compound of a metal solubilized through the formation of a soluble complex by said phosphine.

摘要翻译： 一种用于金属还原沉积的水溶液，除了水以外还包含（A）通式（1）的膦，其中R 1，R 2和R 3表示低级烷基，其中至少一个是羟基或氨基 - 取代的低级烷基，和（B）通过所述膦形成可溶性络合物而溶解的金属或金属化合物的可溶性化合物。