公开(公告)号：US20090186793A1

公开(公告)日：2009-07-23

申请号：US12091808

申请日：2006-10-24

申请人： Michael T. Phenis ,  Lauri Renee Johnson ,  Raymond Chan ,  Diane Marie Scheele ,  Kimberly Dona Pollard ,  Gene Goebel

发明人： Michael T. Phenis ,  Lauri Renee Johnson ,  Raymond Chan ,  Diane Marie Scheele ,  Kimberly Dona Pollard ,  Gene Goebel

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： G03F7/426 ,  C11D1/004 ,  C11D3/26 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/5009 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425

摘要： Improved dry stripper solutions for removing one, two or more photoresist layers from substrates are provided. The stripper solutions comprise dimethyl sulfoxide, a quaternary ammonium hydroxide, and an alkanolamine, an optional secondary solvent and less than about 3 wt. % water and/or a dryness coefficient of at least about 1. Methods for the preparation and use of the improved dry stripping solutions are additionally provided.

摘要翻译： 提供了用于从基底去除一个，两个或更多个光致抗蚀剂层的改进的干燥剥离剂溶液。 汽提器溶液包括二甲亚砜，季铵氢氧化物和链烷醇胺，任选的二级溶剂和小于约3wt。 ％水和/或至少约1的干燥系数。另外提供了制备和使用改进的干燥剥离溶液的方法。