公开(公告)号：US4855049A

公开(公告)日：1989-08-08

申请号：US270677

申请日：1988-11-14

申请人： Marcel Toulemonde ,  Emmanuel Balanzat

发明人： Marcel Toulemonde ,  Emmanuel Balanzat

IPC分类号： C23F4/00 ,  B01D67/00 ,  B01D69/02 ,  B26F1/26 ,  B26F1/31

CPC分类号： B26F1/31 ,  B01D67/0032 ,  B01D69/02 ,  B26F1/26

摘要： A first irradiation takes place with particles having an inadequate energy to traverse the membrane (5), followed by a second irradiation from the other face (26) of the membrane (5) using also non-issuing particles and whose trajectories come into contact with those of the other particles. Chemical etching produces pores (respectively 33, 34), whereof some issue into other pores produced during the other irradiation. As the finest pore determines the filtering properties, the selectivity of this membrane is very good.

摘要翻译： 发生第一次照射，其中具有不足的能量的颗粒穿过膜（5），随后使用不发出的颗粒从膜（5）的另一个面（26）进行第二次照射，并且其轨迹与 那些其他颗粒。 化学蚀刻产生孔（分别为33,34），其中一些问题发生在其他照射期间产生的其他孔中。 由于最细孔决定了过滤性能，因此该膜的选择性非常好。