公开(公告)号：US06256186B1

公开(公告)日：2001-07-03

申请号：US09150669

申请日：1998-09-10

申请人： Kevin Powell ,  David Andrew Tossell ,  Alan Victor Iacopi ,  Mark Stephen Puttock

发明人： Kevin Powell ,  David Andrew Tossell ,  Alan Victor Iacopi ,  Mark Stephen Puttock

IPC分类号： H01T2300

CPC分类号： H01L21/6833 ,  Y10T279/23

摘要： An electrostatic chuck 12 for a plasma reactor apparatus 10 comprises a base metallic section 23, a pair of electrodes 24 set in bonding material 27 and electrically insulated from the base by a plate 29 and a thick dielectric layer 20 (e.g. 0.5 to 1.5 mm), which covers the electrodes 24 and bonding material 27 and forms the support surfaces for wafers 31.

摘要翻译： 用于等离子体反应器装置10的静电卡盘12包括基底金属部分23，设置在接合材料27中的一对电极24，并且通过板29和厚电介质层20（例如0.5至1.5mm）与基底电绝缘， ，其覆盖电极24和接合材料27并形成晶片31的支撑表面。