公开(公告)号：US06399472B1

公开(公告)日：2002-06-04

申请号：US09319740

申请日：1999-06-11

申请人： Seiichi Suzuki ,  Kazuhiro Adachi ,  Masaya Katayama ,  Noriyuki Suzuki ,  Osamu Hideshima ,  Kenichi Kawabata ,  Masaya Ohtsuki ,  Manabu Hayashi ,  Junichi Yayanagi

发明人： Seiichi Suzuki ,  Kazuhiro Adachi ,  Masaya Katayama ,  Noriyuki Suzuki ,  Osamu Hideshima ,  Kenichi Kawabata ,  Masaya Ohtsuki ,  Manabu Hayashi ,  Junichi Yayanagi

IPC分类号： H01L2144

CPC分类号： H01L27/10844 ,  H01L21/76888 ,  H01L23/5256 ,  H01L27/1052 ,  H01L27/10852 ,  H01L27/10894 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： In a semiconductor device having a fuse and an etching stopper film covering the fuse, an optical window exposing the etching stopper film and a contact hole exposing a conductor pattern are formed simultaneously. By applying a dry etching process further to the etching stopper film, an insulation film covering the fuse is exposed in the optical window.

摘要翻译： 在具有保险丝和覆盖保险丝的蚀刻停止膜的半导体器件中，同时形成暴露蚀刻停止膜的光学窗口和露出导体图案的接触孔。 通过对蚀刻阻挡膜进一步进行干蚀刻处理，覆盖保险丝的绝缘膜在光学窗口中露出。