公开(公告)号：US07529421B2

公开(公告)日：2009-05-05

申请号：US10882959

申请日：2004-07-01

申请人： Robert J. Beauchaine ,  Thomas E. Chabreck ,  Samuel C. Howells ,  John J. Hubbard ,  Asher Klatchko ,  Peter Pirogovsky ,  Robin L. Teitzel

发明人： Robert J. Beauchaine ,  Thomas E. Chabreck ,  Samuel C. Howells ,  John J. Hubbard ,  Asher Klatchko ,  Peter Pirogovsky ,  Robin L. Teitzel

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06K9/46 ,  G06K9/62

CPC分类号： G06T5/003 ,  G06T7/13 ,  G06T2207/20164 ,  H04N1/4092

摘要： Methods and apparatus for correcting defects, such as rounded corners and line end shortening, in patterns formed via lithography are provided. Such defects are compensated for “post-rasterization” by manipulating the grayscale values of pixel maps.

摘要翻译： 提供了用于校正通过光刻形成的图案中的缺陷（例如圆角和线端缩短）的方法和装置。 通过操纵像素图的灰度值来补偿这种缺陷“后光栅化”。