公开(公告)号：US07245346B2

公开(公告)日：2007-07-17

申请号：US10851590

申请日：2004-05-21

申请人： Megan L. Weiner ,  Charles M. Rankin, Jr. ,  John P. Macauley ,  Theodore K. Ricks ,  Rusty J. Coleman

发明人： Megan L. Weiner ,  Charles M. Rankin, Jr. ,  John P. Macauley ,  Theodore K. Ricks ,  Rusty J. Coleman

IPC分类号： G02F1/13

CPC分类号： G02F1/1333

摘要： A display formed by skiving with a skiving device including at least one nozzle tip and at least one roller is described. The display has skives that are clean and neat, and has no damage to layers underlying the skived areas.

摘要翻译： 描述了通过用包括至少一个喷嘴尖端和至少一个辊子的切割装置进行刮削而形成的显示器。 显示器具有清洁干净的清洁剂，并且没有损坏被扫描区域的层。

公开(公告)号：US07638780B2

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：US11169368

申请日：2005-06-28

申请人： John I. Kilburn ,  George T. McCollough ,  Rusty J. Coleman ,  Craig A. Caprio ,  James R. Kircher ,  Daniel A. Slater

发明人： John I. Kilburn ,  George T. McCollough ,  Rusty J. Coleman ,  Craig A. Caprio ,  James R. Kircher ,  Daniel A. Slater

IPC分类号： H01J37/00

CPC分类号： F26B3/28

摘要： The present invention relates to a curing assembly comprising at least two light sources combined into one light path, wherein the light sources are capable of curing a material exposed to the combined light path. The invention also relates to a method of curing a material or material in contact with a heat sensitive material comprising providing a curable material or a material associated with a heat sensitive material and exposing curable material to a combined light path from the curing assembly.

摘要翻译： 本发明涉及一种固化组件，其包括组合成一个光路的至少两个光源，其中光源能够固化暴露于组合光路的材料。 本发明还涉及一种固化与热敏材料接触的材料或材料的方法，包括提供可固化材料或与热敏材料相关联的材料并将可固化材料暴露于来自固化组件的组合光路。

公开(公告)号：US07685692B2

公开(公告)日：2010-03-30

申请号：US10851913

申请日：2004-05-21

申请人： Charles M. Rankin, Jr. ,  Theodore K. Ricks ,  Megan L. Weiner ,  John P. Macauley ,  Rusty J. Coleman

发明人： Charles M. Rankin, Jr. ,  Theodore K. Ricks ,  Megan L. Weiner ,  John P. Macauley ,  Rusty J. Coleman

IPC分类号： B23P19/02 ,  G03G15/14

CPC分类号： B26D3/085 ,  B26D7/08 ,  G03G2221/0005 ,  Y10T29/49821 ,  Y10T83/0333

摘要： A process for skiving a substrate is described, wherein the substrate is skived with a roller or a device or apparatus including the roller. The roller provides a cleaner skive than previously known methods without damage to underlying materials.

摘要翻译： 描述了用于刮削基材的方法，其中用辊或包括该辊的装置或设备对基材进行切割。 滚筒提供比以前已知的方法更干净的清洁剂，而不会损坏底层材料。

公开(公告)号：US07024153B2

公开(公告)日：2006-04-04

申请号：US10851492

申请日：2004-05-21

申请人： Megan L. Weiner ,  Charles M. Rankin, Jr. ,  John P. Macauley ,  Theodore K. Ricks ,  Rusty J. Coleman

发明人： Megan L. Weiner ,  Charles M. Rankin, Jr. ,  John P. Macauley ,  Theodore K. Ricks ,  Rusty J. Coleman

IPC分类号： G03G15/14 ,  G03G15/20

CPC分类号： B26D3/065 ,  B26D1/0006 ,  B26D1/445 ,  B26D2001/002 ,  B26D2001/006

摘要： A skiving device including at least one nozzle tip and at least one roller is described, as well as methods of using the skiving device. Skives made with the skiving device are clean, neat, and do not damage underlying layers.

摘要翻译： 描述了包括至少一个喷嘴尖端和至少一个辊子的刮削装置，以及使用刮削装置的方法。 使用刮刀装置制作的滑水干净整齐，不会损坏底层。