公开(公告)号：US20100293516A1

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：US12465431

申请日：2009-05-13

申请人： Sia Kim Tan ,  Gek Soon Chua ,  Kwee Liang Martin Yeo ,  Ryan Khoon Khye Chong ,  Moh Lung Ling

发明人： Sia Kim Tan ,  Gek Soon Chua ,  Kwee Liang Martin Yeo ,  Ryan Khoon Khye Chong ,  Moh Lung Ling

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of manufacture of a mask system includes: providing design data; generating a substantially circular optical proximity correction target from the design data; biasing a segment of the substantially circular optical proximity correction target; and generating mask data based on the shape produced by biasing the segment of the substantially circular optical proximity correction target.

摘要翻译： 掩模系统的制造方法包括：提供设计数据; 从设计数据生成基本圆形的光学邻近校正目标; 偏置基本圆形的光学邻近校正目标的一段; 以及基于通过偏置基本圆形的光学邻近校正目标的段而产生的形状来产生掩模数据。

公开(公告)号：US08413083B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12465431

申请日：2009-05-13

申请人： Sia Kim Tan ,  Gek Soon Chua ,  Kwee Liang Martin Yeo ,  Ryan Khoon Khye Chong ,  Moh Lung Ling

发明人： Sia Kim Tan ,  Gek Soon Chua ,  Kwee Liang Martin Yeo ,  Ryan Khoon Khye Chong ,  Moh Lung Ling

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36

摘要： A method of manufacture of a mask system includes: providing design data; generating a substantially circular optical proximity correction target from the design data; biasing a segment of the substantially circular optical proximity correction target; and generating mask data based on the shape produced by biasing the segment of the substantially circular optical proximity correction target.

摘要翻译： 掩模系统的制造方法包括：提供设计数据; 从设计数据生成基本圆形的光学邻近校正目标; 偏置基本圆形的光学邻近校正目标的一段; 以及基于通过偏置基本圆形的光学邻近校正目标的段而产生的形状来产生掩模数据。