公开(公告)号：US20120009346A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13242552

申请日：2011-09-23

申请人： Ryujiro NAGASAKA ,  Tatsuya Hishiki ,  Ichiro Wada

发明人： Ryujiro NAGASAKA ,  Tatsuya Hishiki ,  Ichiro Wada

IPC分类号： B05D5/00

CPC分类号： B01D71/027 ,  B01D67/0046 ,  B01D67/0095 ,  B01D69/12 ,  B01D2323/08

摘要： A simple method of manufacturing a silica membrane which has high separation performance and high permeation flux is provided. The method is a method for manufacturing a silica membrane 1 by depositing a silica sol on a porous substrate 11, drying the silica sol by air blowing which has a dew point of −70 to 0° C., and then firing the same thereafter to produce the silica membrane 1. Further, the silica sol is preferably dried by air blowing at an air velocity of 5 to 20 m/sec.

摘要翻译： 提供了一种制造具有高分离性能和高渗透通量的二氧化硅膜的简单方法。 该方法是通过在多孔基材11上沉积二氧化硅溶胶来制造二氧化硅膜1的方法，将露点为-70℃至0℃的空气吹入干燥二氧化硅溶胶，然后在其后进行烧制 生成二氧化硅膜1.此外，优选通过以5〜20m /秒的风速吹送空气来干燥硅溶胶。

公开(公告)号：US09403130B2

公开(公告)日：2016-08-02

申请号：US13242552

申请日：2011-09-23

申请人： Ryujiro Nagasaka ,  Tatsuya Hishiki ,  Ichiro Wada

发明人： Ryujiro Nagasaka ,  Tatsuya Hishiki ,  Ichiro Wada

IPC分类号： B01D71/02 ,  B01D67/00 ,  B01D69/12

CPC分类号： B01D71/027 ,  B01D67/0046 ,  B01D67/0095 ,  B01D69/12 ,  B01D2323/08

摘要： A simple method of manufacturing a silica membrane which has high separation performance and high permeation flux is provided. The method is a method for manufacturing a silica membrane by depositing a silica sol on a porous substrate, drying the silica sol by air blowing which has a dew point of -70 to 0° C., and then firing the same thereafter to produce the silica membrane. Further, the silica sol is preferably dried by air blowing at an air velocity of 5 to 20 m/sec.

摘要翻译： 提供了一种制造具有高分离性能和高渗透通量的二氧化硅膜的简单方法。 该方法是通过在多孔基材上沉积二氧化硅溶胶来制造二氧化硅膜的方法，通过使露点为-70℃至0℃的空气吹入干燥二氧化硅溶胶，然后在其后进行烧制， 二氧化硅膜。 此外，优选通过以5〜20m /秒的风速吹送空气来干燥硅溶胶。