公开(公告)号：US5303001A

公开(公告)日：1994-04-12

申请号：US994239

申请日：1992-12-21

申请人： Hwan J. Jeong ,  Shafer David R.

发明人： Hwan J. Jeong ,  Shafer David R.

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G02B17/0856 ,  G02B17/008 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70225

摘要： An illumination system for use in a unit magnification optical projection system (such as a Half-Field Dyson system) is provided. In a Half-Field Dyson system, a reticle and a wafer are parallel to each other with a window being provided on the reticle to allow for projection of the reticle pattern onto the wafer. The present invention provides uniform bright illumination over the reticle pattern with little or no spill over through the reticle window.

摘要翻译： 提供了一种用于单位放大率光学投影系统（如半场戴森系统）的照明系统。 在半场Dyson系统中，标线片和晶片彼此平行，在掩模版上设置有窗口以允许将掩模版图案投影到晶片上。 本发明在掩模版图案上提供均匀的明亮照明，其中很少或不会溢出通过分划板窗。